懷化芷江侗族自治縣半導體廢水處理廠家

Ⅰ 半導體晶元製造廢水處理方法

晶元製造生產工藝復雜，包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉，生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。

所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技（廣東）有限公司網頁鏈接

Ⅱ 含氟廢水處理化學原理

含氟廢水，目前國內大多數生產廠尚無完善的處理設施，所排放的廢水中氟含量超過國家排放標准，嚴重污染環境。按照國家污水綜合排放標
准，氟離子濃度應小於10mg/L；對於飲用水，氟離子濃度要求在1mg/L以下。
目前國內外常用的含氟廢水處理方法大致分為兩類，即沉澱法和吸附法。
化學沉澱法是通過投加鈣鹽等化學葯品，形成氟化物沉澱或氟化物被吸附於所形成的沉澱物中而共同沉澱。該方法簡單、處理方便，費用低，
但石灰溶解度低，只能以乳狀液投加，且產生的CaF<SUB>2</SUB>沉澱包裹在Ca(OH)<SUB>2</SUB>顆粒的表面，使之不能被充分利用，因而用量
大。處理後的廢水中氟含量一般只能下降到15mg/L，很難達到國標一級標准。而且存在泥渣沉降緩慢，脫水困難，處理大流量排放物周期長，
不適應連續處理連續排放等缺點。<BR> 吸附法是指含氟廢水流經接觸床，通過與床中固體介質
進行離子交換或化學反應，去除氟化物。這種方法只適用於低濃度的含氟廢水或經其他方法處理後氟化物濃度降至10~20mg/L的廢水。而且接觸
床的再生及高濃度再生液的處理是整個運行過程中不可缺少的一部分，接觸床頻繁的再生使運行成本較高。<BR>&n
bsp; 此外，還有冷凍法、離子交換樹脂除氟法、超濾除氟法、電滲析等，但因為處理成本高，除氟效率低，至今多停留在實驗階
段，很少推廣應用於工業含氟廢水治理。<BR> 絮凝一氣浮處理含氟廢水新工藝是在傳統工藝的
基礎上，採用絮凝一氣浮一吸附相結合的工藝處理含氟廢水。<BR> 1．基本原理<BR>
利用鋁離子的三種機理來去除氟離子，即：<BR>
(1)吸附。鋁鹽絮凝除氟過程中生成的具有很大表面積的無定性Al(OH)<SUB>3 </SUB>(am)原體對氟離子產生氫鍵吸附，氟離子半徑小，電負性強，
這一吸附方式很容易發生。<BR> (2)離子交換。氟離子與氫氧根的半徑及電荷都相近，鋁鹽絮凝除
氟過程中，投加到水中的A1<SUB>13 </SUB>O<SUB>4 </SUB>(0H) <SUB>14</SUB><SUP>7+</SUP> 等聚陽離子及水解後形成的無定性Al(0H)<SUB>3</SUB>
(am)沉澱，其中的OH<SUP>-</SUP>與F<SUP>-</SUP>發生交換，這一交換過程是在等電荷條件下進行的。<BR>
(3)絡合沉澱。F<SUP>-</SUP>能與Al<SUP>3+</SUP>等形成從AlF<SUP>2+</SUP>、AlF<SUP>2+</SUP>、AlF<SUB>3</SUB>到AlF<SUB>6</SUB><SUP>
3-</SUP> 6種絡合物，絡合沉降而去除F<SUP>-</SUP>。<BR> 絡合離子方程式如下：<BR>
F<SUP>-</SUP>+ Al<SUP>3+</SUP> →AlF<SUP>2+</SUP>↓+ AlF<SUB>2</SUB><SUP>+</SUP>↓+ AlF<SUB>3</SUB>↓+
AlF<SUB>4</SUB><SUP>-</SUP>↓+ AlF<SUB>5</SUB><SUP>2-</SUP>↓+ AlF<SUB>6</SUB><SUP>3-</SUP>↓<BR> 
; 絮凝產生的絮狀物通過氣浮裝置達到有效的固液分離，出水經過砂濾再通過活性炭吸附後排放。<BR> 
; 2．應用實例<BR> 某半導體廠含氟廢水平均進口濃度為165.54m/L，pH＝2.39，排放水
量為50m<SUP>3</SUP>/d。《污水綜合排放標准》( GB8978 -1996)一級標准為：F-≤10mg/，pH＝6~9。處理工藝流程見圖1。<BR><IMG alt=""
src="/sbgl/design/UploadFiles_1688/200612/20061205214244475.gif">
<P> 生產廢水首先流入調節沉澱池，然後由泵提入絮凝反應池，同時通過自動加葯機投加葯劑NaOH，
2‰聚鋁及0.005‰的PAM助凝劑，進行絮凝反應。加葯過程中，觀察pH值顯示儀的讀數，根據聲值調節NaOH的投加量，控制pH在7左右。絮凝反應時間約為
15min。出水自流入氣浮分離池，由溶氣釋放器中釋放出來的溶氣水將絮凝後的沉澱托出水面，在液面上形成沉澱物浮渣，浮渣經刮渣機刮出後進入干化
箱，靜沉後的清潔液再流入調節沉澱池，沉渣干化後可外運填埋或焚燒處理。氣浮分離池下部的清液自流入清水池中，部分清水由溶氣泵提入溶氣罐，
作為氣浮用的溶氣水，其餘的清水由泵提入砂濾塔，經過砂濾的水再進入活性炭吸附罐進行深度處理，最後直接排放。<BR>
在調試期間發現pH值對各階段的處理效果有一定影響（表1），由表1可見，當聲值控制在7.0左右時處理效果最佳。<BR>
<IMG alt="" src="/sbgl/design/UploadFiles_1688/200612/20061205214244371.gif"><BR><BR>
3．運行效果<BR> 這套處理設施竣工投用以來，經環境監測權威機構多次對設施進出口F-濃度進行采樣
監測。監測結果表明，該含氟廢水處理設備出口排放物中的州值均在6.5~7之間，F-的濃度均小於5mg/L，排放指標均達到了國家污水綜合排放一級標准，
除F-效率達98.9%。<BR> 同時經濟評估表明，這套設施充分利用了工廠原有的調節沉澱池、部分管路等
設施，總投資不高，除去設備折舊費及人工費，總運行費用每噸僅為0.50元。<BR> 4．結論<BR>
(1)絮凝一氣浮處理含氟廢水工藝繼承了傳統工藝的優點，充分利用鋁鹽絮凝的吸附、離子交換、絡合沉澱等
作用機理，緩解後續處理的負荷，且採用聚鋁作為絮凝劑比採用鋁鹽用量減少一半，處理費用進一步降低。<BR> 
; (2)將氣浮技術運用於含氟廢水處理中，解決了以往固液分離的難題，使設備能穩定運行。<BR>
(3)出水末端採用活性炭吸附，給出水穩定達標排放提供保障。<BR> (4)在工藝中，用NaOH取代傳統的Ca
(OH)<SUB>2</SUB>，使泥渣量減少，解決了傳統工藝泥渣多，易結垢，處理效果不佳，管路易堵塞等難題。<BR><STRONG> 
; 參考文獻<BR></STRONG> 1 凌波．鋁鹽混凝沉澱除氟水．水處理技術．1990，16(2):418~421
<BR> 2 劉裴文、蕭舉強、王萍等．含氟廢水處理過程的吸附交換機理—離子交換與吸附．1991.7(50)
:375~382<BR> 3 胡萬里．混凝、混凝劑、混凝設備．化學工業出版社，環境科學工程出版中心<BR>
4 盧建杭、劉維屏、王紅斌鋁鹽混凝法除氟離子的一般規律．化工環保．2000
</P> <center></center></td></tr>

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Ⅲ 請問半導體廠房用的純水和廢水處理是怎麼收費的，按流量計費每立方大約多少錢是否和普通自來水收費不同

是按照多少量來計費的，在多少噸以內是多少錢，然後在按噸收取費用 。

Ⅳ 我們是一家半導體生產型企業，會產生大量的研磨切割和酸鹼廢水，有工業廢水處理公司嗎

蘇州園區有一家荷蘭的環保公司

Ⅳ 半導體廠房用的純水，按流量計費每立方大約多少錢廢水處理，按流量計費的每立方大約多少錢

這個沒有具體標準的，因為這個水分很多級別，級別不同報價也不一樣，然後跟每小時的水量也不一樣，大概5-6萬，主要看配置。你可以把你的詳細情況說下。

Ⅵ 水處理在國內做半導體方面的工業廢水嗎

1、因為全球水資本的日益短少，超純水的生產本錢在不時地上升。面對宏大的應用機會，電子半導體製造商在日常運營中，很是依附於超純水繼續流。

2、融化固體和懸浮固體在含量、酸鹼度和金屬雜質方面的差別，使半導體廢水對常規技巧處理形成了應戰。顛末膜生物反響器和三級處理系統，可以對半導體廢水結束處理，使之達到新的嚴格環境法則或許在工場內獲得再次操縱的機會。

3、膜系統是一種模塊化系統;廢水處理可以疾速調節，與產量添加保持分歧。

Ⅶ 國內知名的水處理廠家有哪些

水處理行業最先進的碟管式反滲透DTRO膜技術、國際領先的油水分離技術和酸鹼分離技術，山東煙台的企業

Ⅷ 做工業反滲透純水處理公司哪個公司做得最大呢

東莞市綠健水處理設備有限公司是一家專業設計、製造、安裝、調試和銷售各行業中水回用設備、純水處理設備、水處理耗材的環保科技企業，公司秉承 「服務至上；品質第一」的經營理念，堅持技術創新和科學規范管理，並具有豐富的技術經驗和和生產加工能力。
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1．中水、廢水回用設備------電鍍、電子、紡織印染等工業領域的中水、廢水回用；
2．電子工業用超純水設備-----單晶硅、半導體晶片切割製造、半導體晶元、半導體封裝、引線框架、集成電路、
液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水；
3．製取PCB、FPC工藝用高純水、電池(蓄電池，鋰電)電鍍生產工藝的純水、汽車、家用電器等產品表面塗裝、五金行業清洗用水；
4．製取飲料行業的飲用純凈水、礦泉水、酒類生產白酒勾兌用水.啤酒行業用純水等；
5．化學葯劑、精細化工工藝用水、化妝品等用純水及紡織漂染工藝所需除鹽除硬水。

Ⅸ 如何處理半導體(LED)廢水

隨著單個LED光通亮和發光效率的提高，即將進入普通室內照明、台燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場廣闊。 LED生產過程中絕大部分廢水產生在原材料和晶元製造過程中，分為拉晶、切磨拋和晶元製造，主要含一般酸鹼廢水、含氟廢水、有機廢水、氨氮廢水等幾種水質，在黃綠光晶片製造過程中還會有含砷廢水排出。 2、LED晶元加工廢水特點：主要污染物為LED晶元生產過程中排放的大量有機廢水和酸鹼廢水，另有少量含氟廢水。有機廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸鹼廢水中主要污染物為無機酸、鹼等。 3、LED切磨拋廢水特點：主要污染物為大量清洗廢水，主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。 4、酸鹼廢水排放：主要包括工藝酸鹼廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸鹼再生廢水，採用化學中和法處理。 含砷廢水：主要來自背面減薄及劃片/分割工序，採用化學沉澱法處理。 一般廢水：排放方式均為連續排放，主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無機鹽類，採用生化法去除。 含氟廢水：主要清洗廢水中含有HF，使用混凝沉澱去除。 高氨氮廢水：使用折點加氯法，將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過量氯或次氯酸鈉，使廢水中氨完全氧化為N2的方法，稱為折點氯化法，其反應可表示為： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生產加工之藍寶石拉晶廢水 污水水質、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小時連續)廢水水質：PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後進入有機廢水調節池。人工收集到含氟廢水收集池，加葯劑進行沉澱。上清液達標排放，污泥排入污泥濃縮池處理。 利用有機廢水調節池的池容增加生化處理功能，向池內投加厭氧性水解菌，池內配置穿孔水力攪拌系統以加強傳質，為後繼處理單元提供部分水解處理服務。 廢水經過調節後經泵提升進入進入厭氧水解池。 厭氧水解池採用上向流布水形式，利用循環管網系統加強池底部的混流強度，提高反應器內的傳質效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機物轉化為易降解的小分子有機物，將復雜的有機物轉變成簡單的有機物，提高廢水的可生化性，有利於後續的好氧生化處理。出水自流進入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進入二沉池進行泥水沉澱分離。為保證COD排放達標的處理要求，將二沉池出水導入BAF進行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池，為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水，其餘的清水達標排放。 5.2、LED生產加工之切磨拋廢水 污水水質、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小時連續)廢水水質：1PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝根據業主廢水的水質情況，在吸取以往同類廢水處理裝置設計的成功經驗和一些同類廢水處理裝置的實際運行經驗，設計污水處理主體工藝路線如下： 格柵池+清洗廢水調節池+反應池+物化沉澱池達標排放 污泥處理主體工藝採用工藝路線為： 污泥濃縮+污泥調理+板框壓濾泥餅外運 5.3、LED生產加工之晶元廢水 污水水質、水量： 有機廢水水量：19.4t/h(24小時連續)水質：PH值6.0-8.0無量綱 酸鹼廢水水量：70t/h(24小時連續)水質：PH值4.0-11.0無量綱 含氟廢水水量：4t/h(24小時連續)水質：PH值2.0-4.0無量綱 氟化物≤200mg/L處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後達標排放。含氟廢水收集調節後與投加的葯劑反應生成不溶性氟化物沉澱，上清液達標排放。