㈠ 半導體晶元製造廢水處理方法
晶元製造生產工藝復雜,包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉,生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技(廣東)有限公司網頁鏈接
㈡ 國內知名的水處理廠家有哪些
水處理行業最先進的碟管式反滲透DTRO膜技術、國際領先的油水分離技術和酸鹼分離技術,山東煙台的企業
㈢ 我們是一家半導體生產型企業,會產生大量的研磨切割和酸鹼廢水,有工業廢水處理公司嗎
蘇州園區有一家荷蘭的環保公司
㈣ 重慶有哪些正規的水處理設備公司
首選重慶吉創水處理設備公司,重慶吉創水處理設備公司成立於2003年,屬重慶成立時間最久的一家水處理公司。該公司在工業水處理方面的技術實力強,技術實力和售後服務方面,在行業內具有極佳的口碑。今年,重慶吉創水處理設備有限公司最新研製開發出一款MBR平板膜產品,並已申請相關專利。該產品主要用於一體化凈水設備、一體化中水處理設備、工業廢水處理回用方面。對於:村鎮自來水廠、工礦企業自備水廠、內河船用飲用水系統、RO/NF原水的預處理、游泳池水質凈化、大棚植物栽培水質凈化、超細粉體的回收、廢酸廢鹼過濾回用、工業廢水的固液分離和回用、城鎮生活污水處理回用、紡織印染廢水處理回用、紙槳及造紙廢水處理回用、半導體、精加工研磨廢水處理回用、電鍍漂洗廢水處理回用、治煉工藝廢水處理回用等方面。
㈤ 如何選擇純凈水設備,河南水處理廠家有哪些
首先要明確你說的這個「純凈水」是用來干什麼的?如果是工藝生產中的純水設備,也就是咱們常說的去離子水,那當然就是工業反滲透設備了,也就是我們常說的「RO」膜,這種膜產水的TDS、離子含量都很低,基本上滿足要求。那如果是做桶裝水,其實超濾膜就夠了,因為如果使用「反滲透RO膜」處理水,水裡面的例子基本上全部沒有了,這種水是不利於人體的;使用超濾膜的話能去除水質裡面的有害物質、膠體等,改善口感並保留人體需要的例子,這也就是所謂的「礦泉水」
其次要根據你膜的選型,例如有常壓RO膜,這種膜很便宜,處理一噸水也就一塊多錢;還有海水淡化膜、高壓RO膜、超高壓RO膜,可能運行成本就逐漸高一點;
接著也要看原水質量(也就是你需要處理的水)來確定產水率,例如你用河水和海水產水率不同,你用自來水跟你用冷卻水又不一樣;再細一點,你南方水質跟北方水質也不一樣,因此這個需要做實驗。
最後說設備廠家,其實只要水處理膜選對了,各個廠家水平都差不太多,無非就是泵的選型和工藝結構不一樣。
以上手打,希望對你有所幫助~
㈥ 重慶MBR平板浸沒式水處理膜組件
MBR(Membrane Bio-Reactor)全稱膜生物反應器,它的最大不同就在於取代了二沉池的位置,換成了膜池,同時擔當著生化處理和二沉池的任務。
傳統二沉池是通過重力作用將雜質沉澱,這個過程可能出現很多其他的情況,例如污泥的上浮膨脹,出現泡沫等。而膜過濾則更加徹底,廢水處理起來也就更方便了。不過既然都是膜那麼MBR膜也會面對膜污堵的問題。
MBR膜主要分為PVDF和PTFE兩種,PVDF的價格相對較低,但抗污堵性能比PTFE差,壽命較短。至於哪種材料的性價比更高就要看具體的廢水種類和成分了。類似垃圾滲透液和部分工業上的廢水這種成分復雜污染成度高的廢水就非常推薦使用PTFE材料的MBR膜。
㈦ 請問半導體廠房用的純水和廢水處理是怎麼收費的,按流量計費每立方大約多少錢是否和普通自來水收費不同
是按照多少量來計費的,在多少噸以內是多少錢,然後在按噸收取費用 。
㈧ 水處理在國內做半導體方面的工業廢水嗎
1、因為全球水資本的日益短少,超純水的生產本錢在不時地上升。面對宏大的應用機會,電子半導體製造商在日常運營中,很是依附於超純水繼續流。
2、融化固體和懸浮固體在含量、酸鹼度和金屬雜質方面的差別,使半導體廢水對常規技巧處理形成了應戰。顛末膜生物反響器和三級處理系統,可以對半導體廢水結束處理,使之達到新的嚴格環境法則或許在工場內獲得再次操縱的機會。
3、膜系統是一種模塊化系統;廢水處理可以疾速調節,與產量添加保持分歧。
㈨ 如何處理半導體(LED)廢水
隨著單個LED光通亮和發光效率的提高,即將進入普通室內照明、台燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場廣闊。 LED生產過程中絕大部分廢水產生在原材料和晶元製造過程中,分為拉晶、切磨拋和晶元製造,主要含一般酸鹼廢水、含氟廢水、有機廢水、氨氮廢水等幾種水質,在黃綠光晶片製造過程中還會有含砷廢水排出。 2、LED晶元加工廢水特點:主要污染物為LED晶元生產過程中排放的大量有機廢水和酸鹼廢水,另有少量含氟廢水。有機廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸鹼廢水中主要污染物為無機酸、鹼等。 3、LED切磨拋廢水特點:主要污染物為大量清洗廢水,主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。 4、酸鹼廢水排放:主要包括工藝酸鹼廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸鹼再生廢水,採用化學中和法處理。 含砷廢水:主要來自背面減薄及劃片/分割工序,採用化學沉澱法處理。 一般廢水:排放方式均為連續排放,主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無機鹽類,採用生化法去除。 含氟廢水:主要清洗廢水中含有HF,使用混凝沉澱去除。 高氨氮廢水:使用折點加氯法,將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過量氯或次氯酸鈉,使廢水中氨完全氧化為N2的方法,稱為折點氯化法,其反應可表示為: NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例: 5.1、LED生產加工之藍寶石拉晶廢水 污水水質、水量: 水量:480t/d;20t/h(24小時連續)廢水水質:PH值5.0-10.0無量綱出水要求:達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為:處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應,達到工藝要求後進入有機廢水調節池。人工收集到含氟廢水收集池,加葯劑進行沉澱。上清液達標排放,污泥排入污泥濃縮池處理。 利用有機廢水調節池的池容增加生化處理功能,向池內投加厭氧性水解菌,池內配置穿孔水力攪拌系統以加強傳質,為後繼處理單元提供部分水解處理服務。 廢水經過調節後經泵提升進入進入厭氧水解池。 厭氧水解池採用上向流布水形式,利用循環管網系統加強池底部的混流強度,提高反應器內的傳質效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機物轉化為易降解的小分子有機物,將復雜的有機物轉變成簡單的有機物,提高廢水的可生化性,有利於後續的好氧生化處理。出水自流進入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進入二沉池進行泥水沉澱分離。為保證COD排放達標的處理要求,將二沉池出水導入BAF進行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池,為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水,其餘的清水達標排放。 5.2、LED生產加工之切磨拋廢水 污水水質、水量: 水量:432t/d;18t/h(24小時連續)廢水水質:1PH值5.0-10.0無量綱出水要求:達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為:處理工藝根據業主廢水的水質情況,在吸取以往同類廢水處理裝置設計的成功經驗和一些同類廢水處理裝置的實際運行經驗,設計污水處理主體工藝路線如下: 格柵池+清洗廢水調節池+反應池+物化沉澱池達標排放 污泥處理主體工藝採用工藝路線為: 污泥濃縮+污泥調理+板框壓濾泥餅外運 5.3、LED生產加工之晶元廢水 污水水質、水量: 有機廢水水量:19.4t/h(24小時連續)水質:PH值6.0-8.0無量綱 酸鹼廢水水量:70t/h(24小時連續)水質:PH值4.0-11.0無量綱 含氟廢水水量:4t/h(24小時連續)水質:PH值2.0-4.0無量綱 氟化物≤200mg/L處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應,達到工藝要求後達標排放。含氟廢水收集調節後與投加的葯劑反應生成不溶性氟化物沉澱,上清液達標排放。