興安盟扎賚特旗半導體廢水處理設備

Ⅰ 水處理設備都有哪些

反滲透設備。軟化水設備，除鹽水設備，超純水設備，去離子水處理設備，海水淡化設備，苦鹹水設備，納濾設備，超濾設備，礦泉水生產設備，純凈水生產設備，純化水設備，純水設備等等！
應用領域
電力行業用水
熱力、火力發電廠礦企業、中、低壓鍋爐動力、給水系統。
主要用途：電廠、工廠高低壓鍋爐，空調、冷庫等循環用水。微電子產品生產用高純水，半導體、顯像管用高純水，電腦電路板等集成電路用水，太陽能電池、乾式電池用水。
化工行業用水，化工反應冷卻、化學葯劑、化肥及精細化工、化妝品製造過程用水系統。
主要用途：紡織印染、造紙用水，化工試劑生產用純水。護膚品生產用純水，洗發水生產用純水，染發劑生產用純水。化學實驗室、物理實驗室、生物實驗室。
工業塗裝用水
汽車、家用電器、建材產品表面塗裝、清洗、鍍膜玻璃及蓄電池用水系統。
主要用途：電鍍、玻璃鍍膜用高純水。
飲料行業用水
飲用純凈水、天然水、飲料、低度酒勾兌用水、純生啤酒過濾等。
主要用途：純凈水、礦泉水生產，食品、飲料生產用純水，賓館、生活小區。
醫用制葯行業用水
醫用大輸液、注劑、葯劑、生化製品用水醫用無菌水、人工腎析用水及血液透析用水。
主要用途：制葯、針劑用水等，保健品、口服液生產，葯品原料、中間產品，生物制劑，酶的提取，蛋白質分離。
公共水處理系統
海水苦鹹水淡化、學校、社區、賓館、房產物業優質供水網路系統。
主要用途：日常生活用水處理工程，游泳池過濾消毒工程，養殖觀賞魚類用水、節水灌溉，沙漠苦鹹水淡化系統，海水淡化系統，電鍍廢水處理金屬回收，生活污水處理再利用，產品清洗水回收使用處理，工業廢水處理。
水處理設備之純凈水設備
飲用純凈水製取裝置由預處理部分、反滲透系統及精處理等幾部分組成，採用單元組合結構。目的是減少設備佔地面積，便於運輸及現場裝調試，具有佔地小、安裝快、外觀漂亮、操作、維修方便等優點，設備部分均選用Ocr18Ni9（304）不銹鋼製作，管道低壓部分採用A.B.S工程塑料，高壓部分採用優質不銹鋼製作，主要部件（膜、泵、儀表等）均由國外著名專業廠商提供，整機性能達到國外同期水平。

Ⅱ 水處理在國內做半導體方面的工業廢水嗎

1、因為全球水資本的日益短少，超純水的生產本錢在不時地上升。面對宏大的應用機會，電子半導體製造商在日常運營中，很是依附於超純水繼續流。

2、融化固體和懸浮固體在含量、酸鹼度和金屬雜質方面的差別，使半導體廢水對常規技巧處理形成了應戰。顛末膜生物反響器和三級處理系統，可以對半導體廢水結束處理，使之達到新的嚴格環境法則或許在工場內獲得再次操縱的機會。

3、膜系統是一種模塊化系統;廢水處理可以疾速調節，與產量添加保持分歧。

Ⅲ 水處理設備主要用在什麼行業

1、水處理設備，就應用的角度來說，可以分為凈化水質功能的生活飲用水水處理設備、工業生產的中水水處理設備、污水處理（廠）的水處理設備、廢水回用的中水水處理設備；
2、水處理設備，按照應用行業而言，主要用於環保行業的污水處理、給水行業的生活飲用水、工業（例如，處理循環水）、農業（綜合利用水）、衛生（無菌水）、城建（降水的水處理）、食品（凈化水）、實驗室（分析用水）等。

Ⅳ 水處理設備有什麼都有哪些設備

常用的水處理設備主要有：

過濾器設備

1、過濾器設備：

石英砂過濾器，錳砂過濾器，機械過濾器，碳鋼過濾器等高效過濾器；活性炭過濾器；精密過濾器，袋式過濾器等高精度過濾器；軟化水過濾器；

2、離子交換樹脂設備：用來儲存離子交換樹脂，起到去除水中的重金屬，除鹽，軟化水等作用；

3、超濾設備：脫鹽等作用，保障反滲透等後續設備進水水質；

4、反滲透設備：過濾水中的離子、有機物、細菌、病毒等，脫鹽脫硼等作用；

5、EDI電除鹽設備：自動化電除鹽設備，常用於電子半導體行業，生產超純水等。

Ⅳ 我們是一家半導體生產型企業，會產生大量的研磨切割和酸鹼廢水，有工業廢水處理公司嗎

蘇州園區有一家荷蘭的環保公司

Ⅵ 水處理設備都有那些

塑料清洗污水處理設備

1、機械過濾器

機械過濾器為一填充規定厚度濾料的壓力容器，當填充單一濾料時為單層機械過濾器，填充不同種類濾料時為雙層或多介質過濾器。

功能：在水質預處理系統中，多介質過濾器壓力容器內不同粒徑的石英砂按一定級配裝填，經絮凝的原水在一定壓力下自上而下通過濾料層，從而使水中的懸浮物得以截留去除，多介質過濾器能夠有效去除原水中懸浮物、細小顆粒、全價鐵及膠體、菌藻類和有機物。其出水SDI15（污染指數）小於等於5，完全能夠滿足反滲透裝置的進水要求。

2、反滲透設備

反滲透是一種最廣泛採用的膜分離工藝，利用壓力使水透過膜，而可溶性鹽份、膠體、有機物及微生物被截留在膜表面，隨濃水排放。它可有效地去除全部的有機物和90%~99%的離子。

反滲透是一種現代新型的純凈水處理技術。通過反滲透元件來提高水質的純凈度，清除水中含有的雜質和鹽。我們日常所飲用的純凈水都是經過反滲透設備處理的，水質清澈。

3、超濾設備

超濾是介於微濾與納濾之間，且三者之間無明顯的分界線。一般來說，超濾膜的孔徑在0.05 um–1 nm之間，操作壓力為0.1–0.5 Mpa。主要用於截留去除水中的懸浮物、膠體、微粒、細菌和病毒等大分子物

◆礦泉水：在礦泉水製造中，應用超濾技術，在工程設計中，將根據礦泉水的水源水質分析報告，針對性地選擇膜的孔徑和膜的類型，設計超濾設計。

◆食品：乳製品、果汁、酒、調味品等食品的生產中逐步採用超濾技術，如牛奶或乳清中蛋白和低分子量的乳糖與水的分離，果汁澄清和去菌消毒，酒中有色蛋白、多糖及其它膠體雜質的去除等，醬油、醋中細菌的脫除，較傳統方法顯示出經濟、可靠、保證質量等優點。

Ⅶ 含鉻廢水處理有哪些好的處理方法

含鉻廢水處理常用方法
葯劑還原沉澱法
還原沉澱法是目前應用較為廣泛的含鉻廢水處理方法。基本原理是在酸性條件下向廢水中加入還原劑，將Cr6+還原成Cr3+，然後再加入石灰或氫氧化鈉，使其在鹼性條件下生成氫氧化鉻沉澱，從而去除鉻離子。可作為還原劑的有：SO2、FeSO4 、Na2SO3、NaHSO3、Fe等。還原沉澱法具有一次性投資小、運行費用低、處理效果好、操作管理簡便的優點，因而得到廣泛應用，但在採用此方法時，還原劑的選擇是至關重要的一個問題。
SO2還原法
二氧化硫還原法設備簡單、效果較好，處理後六價鉻含量可達到0.l mg／L 。但二氧化硫是有害氣體，對操作人員有影響，處理池需用通風沒備，另外對設備腐蝕性較大，不能直接回收鉻酸。煙道氣中的二氧化硫處理含鉻(VI)廢水，充分利用資源，以廢治廢，節約了處理成本，但也同樣存在以上的問題。
鐵氧體法
鐵氧體法實際上是硫酸亞鐵法的發展，向含鉻廢水中投加廢鐵粉或硫酸亞鐵時，Cr6+ 可被還原成Cr3+。再加熱、加鹼、通過空氣攪拌，便成為鐵氧體的組成部分，Cr3+轉化成類似尖晶石結構的鐵氧體晶體而沉澱。鐵氧體是指具有鐵離子、氧離子及其他金屬離子所組成的氧化物。
鐵氧體法不僅具有還原法的一般優點，還有其特點，即鉻污泥可製作磁體和半導體，這樣不但使鉻得以回收利用，又減少了二次污染的發生，出水水質好，能達到排放標准。但是，鐵氧體法也有試劑投量大，能耗較高，不能單獨回收有用金屬，處理成本較高的缺點。
鐵屑鐵粉處理法
鐵屑鐵粉由於原料易得，價格便宜，處理含鉻(VI)等重金屬廢水效果較好，但該法要消耗較多的酸(電鍍廠可用車間生產的廢酸)，同時污泥量較大，鐵屑處理含鉻廢水有多種作用：(1)還原作用，由於鐵屑中含有雜質，它們與鐵的電位不同，鐵作為陽極溶解，給出電子成為二價鐵離子，電子轉移到陰極被Cr2O72-和H+接受成為Cr3+和H2 ,陰極生成的二價鐵離子叉將Cr2O72-還原；(2)置換作用，廢水中電位比鐵正的金屬離子與金屬鐵屑粉末發生置換作用；(3)凝聚作用，反應生成的氫氧化鐵本身就是一種凝聚劑，有利於最後氫氧化鉻等的沉降；(4)中和作用，由於反應中要消耗太量的酸，隨著反應進行PH值不斷升高，使Fe呈氫氧化鐵析出；(5)吸附作用，經X射線微量分析，在鐵粉表面可見到吸附的金屬，因此認為鐵粉具有吸附作用。
鋇鹽法
利用溶解積原理，向含鉻廢水中投加溶度積比鉻酸鋇大的鋇鹽或鋇的易溶化合物，使鉻酸根與鋇離子形成溶度積很小的鉻酸鋇沉澱而將鉻酸根除去。廢水中殘余Ba2+再通過石膏過濾，形成硫酸鋇沉澱，再利用微孔過濾器分離沉澱物。
鋇鹽法優點是工藝簡單，效果好，處理後的水可用於電鍍車間水洗工序，還可回收鉻酸，復生BaCO3；其缺點是過濾用的微孔塑料管加工比較復雜，容易阻塞，清洗不便，處理工藝流程較為復雜。
電解還原法
電解還原法是鐵陽極在直流電作用下，不斷溶解產生亞鐵離子，在酸性條件下，將Cr6+還原為Cr3+。
用電解法處理含鉻廢水，優點是效果穩定可靠，操作管理簡單，設備佔地面積小，廢水中的重金屬離子也能通過電解有所降低。缺點是耗電量較大，消耗鋼板，運行費用較高，沉渣綜合利用等問題有待進一步解決。
離子交換法
離子交換法是藉助於離子交換劑上的離子和水中的離子進行交換反應除去水中有害離子。目前在水處理中廣泛使用的是離子交換樹脂。對含鉻廢水先調pH值，沉澱一部分Cr3+後再行處理。將廢水通過H型陽離子交換樹脂層，使廢水中的陽離子交換成H+而變成相應的酸，然後再通過OH型陰離子交換成OH-，與留下的H+結合生成水。吸附飽和後的離子交換樹脂，用NaOH進行再生。
離子交換法的優點是處理效果好，廢水可回用，並可回收鉻酸。尤其適用於處理污染物濃度低、水量小、出水要求高的廢水。缺點是工藝較為復雜，且使用的樹脂不同，工藝也不同；一次投資較大，佔地面積大，運行費用高，材料成本高，因此對於水量很大的工業廢水，該法在經濟上不適用。

Ⅷ 半導體晶元製造廢水處理方法

晶元製造生產工藝復雜，包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉，生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。

所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技（廣東）有限公司網頁鏈接