⑴ 一套廢水處理設備大概需要多少錢
電鍍廠現在查的越來越嚴，有些重金屬超標很嚴重的話，老闆可是要被抓的。一般我接觸的電鍍廠測的最多的就4個離子，cr，pb，ni，cu，看地區不同。像小的電鍍廠的話，最普通的一套污水處理設備要個幾十萬，當然客戶適當的要求加一些硬性的處理要求，適合自己公司的，可能還會貴點。
⑵ 半導體晶元製造廢水處理方法
晶元製造生產工藝復雜，包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉，生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技（廣東）有限公司網頁鏈接
⑶ 電路板廢水處理需要哪些技術和設備
電路板廢水處理 系統主要處理廢水方法如下：
一般清洗廢水( 低濃度清洗廢水)：
清洗廢水日排放量為6400噸(一期3200噸/天)，收集於調節池中，同時其它經預處理後的廢水和廢液排入調節池一並混合。污染物濃度較低，PH值為2.5-5，重金屬離子含量總量在30mg/l以下;混合廢水的CODcr一般在150mg/l以下。由提升泵提升至PH調整槽Ⅰ進行處理。
油墨廢水：
油墨廢水主要特點是CODcr濃度很高，達15000mg/L，平均8000
mg/L左右。顯影、脫膜廢水中的有機物對後面的綜合廢水的混凝沉澱和離子交換有較大的影響。油墨廢水特點是在酸性條件下易析離出，因此不可能與其它廢水混合在一起處理。油墨廢水單獨收集，由泵泵至酸化池，加入酸液，在酸性條件下(PH3-5)油墨中的感光膜會析出，形成濃膠狀凝聚成團成為浮渣去除，再調pH值7～8，同時加入混凝劑，再經過沉澱分離，沉澱上清液的COD一般有400～800mg/L，上清液自流入調節池混合後再處理。
絡合廢水：
因為絡合銅(EDTA銅絡離子或銅氨絡離子)結構相當穩定，溶解於水，不沉澱，雖然只佔總水量的1~3%，但由於其絡合物極穩定，若不將絡合物破除，出水中的銅離子就很難達標(0.5mg/L以下)。絡合銅廢水若與其它的污水混合在一起進行處理，為破絡合物則投葯量非常大，運行費用增加，因此絡合銅廢水必須單獨收集並預處理。由泵將絡合廢水泵入破絡槽，加入氧化劑如次氯酸鈉氧化破除絡合物(EDTA和NH3在中性條件下都可被NaOCl氧化)。再加入混凝劑和助凝劑，沉澱後上清液流入調節池。
⑷ 電鍍廢水處理設備有哪些
電鍍廢水處理用葯的情況很普遍，設備還是比較通用的那些泵（普通污水離心泵、加葯的隔膜計量泵）和閥門（蝶閥、止回閥、球閥）。這些設備其實就可以做一套完整的傳統的水處理設施。
很多新工藝倒是用一些新設備，如果非要用設備來處理電鍍廢水，其實可以考慮用離子交換樹脂、RO反滲透膜、NPS納米軟化設備、電絮凝電離設備、微濾過濾器這些設備，這些設備跟工藝有關，每個項目最多用其中一種或是根本用不著，因為每個都不便宜這些都不是工藝流程都必須用的。
電鍍廢水產生污泥較多，設備一般就是螺桿泵和污泥脫水機（小項目的板框式或廂式，大項目用帶式，有錢項目用疊螺式，很少用到離心式）
⑸ 中小型工業廢水處理設備哪個品牌比較好
在生產工業廢水處理設備的廠家眾多，產品各種各樣，質量也不盡相同，面對這么多的問題工業廢水處理設備購買時需要注意些什麼呢?
首先要清楚使用的源水種類，一般是自來水、河水、井水三種。其次要了解源水的水質情況，企業生產需要的最大用水量以及出水水質。這在采購工業廢水處理設備之前是必須知道的情況。
其次，了解設備的細節，包括反滲透膜、EDI模塊的的生產廠家及產地，是否為正規的廠家，生產的設備是否根據實際情況來量身定做，設備的最後脫鹽率及通水量是否達到你的要求。
然後看設備的外觀，正規廠家生產的工業廢水處理設備外觀講究。首先看機架，焊縫平整，不會凹凸不平，整體給人一種厚重感。看高壓泵、原水增壓泵是不是正規廠家的產品。看管路的連接，管路連接橫平豎直，管路的材質。廢水處理設備預處理部分的罐體選擇厚重感比較強的，有些小廠家為了節省成本選用的罐體比較薄，很容易出現問題。
最後看廠家的服務，廠家是否上門安裝調試，能否培訓操作人員，門維修的效率如何，質保期多久等問題。
⑹ 熱電廠廢水處理設備到底多少錢
從幾十萬到上百萬不等。需要看處理量有多大。處理量越大價格越貴。
⑺ 電鍍廢水處理設備多少錢一套
電鍍廠現在查的越來越嚴，有些重金屬超標很嚴重的話，老闆可是要被抓的。一般我接觸的電鍍廠測的最多的就4個離子，Cr，Pb，Ni，Cu，看地區不同。像小的電鍍廠的話，最普通的一套污水處理設備要個幾十萬，當然客戶適當的要求加一些硬性的處理要求，適合自己公司的，可能還會貴點。
⑻ 如何處理半導體(LED)廢水
隨著單個LED光通亮和發光效率的提高，即將進入普通室內照明、台燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場廣闊。 LED生產過程中絕大部分廢水產生在原材料和晶元製造過程中，分為拉晶、切磨拋和晶元製造，主要含一般酸鹼廢水、含氟廢水、有機廢水、氨氮廢水等幾種水質，在黃綠光晶片製造過程中還會有含砷廢水排出。 2、LED晶元加工廢水特點：主要污染物為LED晶元生產過程中排放的大量有機廢水和酸鹼廢水，另有少量含氟廢水。有機廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸鹼廢水中主要污染物為無機酸、鹼等。 3、LED切磨拋廢水特點：主要污染物為大量清洗廢水，主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。 4、酸鹼廢水排放：主要包括工藝酸鹼廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸鹼再生廢水，採用化學中和法處理。 含砷廢水：主要來自背面減薄及劃片/分割工序，採用化學沉澱法處理。 一般廢水：排放方式均為連續排放，主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無機鹽類，採用生化法去除。 含氟廢水：主要清洗廢水中含有HF，使用混凝沉澱去除。 高氨氮廢水：使用折點加氯法，將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過量氯或次氯酸鈉，使廢水中氨完全氧化為N2的方法，稱為折點氯化法，其反應可表示為： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生產加工之藍寶石拉晶廢水 污水水質、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小時連續)廢水水質：PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後進入有機廢水調節池。人工收集到含氟廢水收集池，加葯劑進行沉澱。上清液達標排放，污泥排入污泥濃縮池處理。 利用有機廢水調節池的池容增加生化處理功能，向池內投加厭氧性水解菌，池內配置穿孔水力攪拌系統以加強傳質，為後繼處理單元提供部分水解處理服務。 廢水經過調節後經泵提升進入進入厭氧水解池。 厭氧水解池採用上向流布水形式，利用循環管網系統加強池底部的混流強度，提高反應器內的傳質效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機物轉化為易降解的小分子有機物，將復雜的有機物轉變成簡單的有機物，提高廢水的可生化性，有利於後續的好氧生化處理。出水自流進入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進入二沉池進行泥水沉澱分離。為保證COD排放達標的處理要求，將二沉池出水導入BAF進行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池，為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水，其餘的清水達標排放。 5.2、LED生產加工之切磨拋廢水 污水水質、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小時連續)廢水水質：1PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝根據業主廢水的水質情況，在吸取以往同類廢水處理裝置設計的成功經驗和一些同類廢水處理裝置的實際運行經驗，設計污水處理主體工藝路線如下： 格柵池+清洗廢水調節池+反應池+物化沉澱池達標排放 污泥處理主體工藝採用工藝路線為： 污泥濃縮+污泥調理+板框壓濾泥餅外運 5.3、LED生產加工之晶元廢水 污水水質、水量： 有機廢水水量：19.4t/h(24小時連續)水質：PH值6.0-8.0無量綱 酸鹼廢水水量：70t/h(24小時連續)水質：PH值4.0-11.0無量綱 含氟廢水水量：4t/h(24小時連續)水質：PH值2.0-4.0無量綱 氟化物≤200mg/L處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後達標排放。含氟廢水收集調節後與投加的葯劑反應生成不溶性氟化物沉澱，上清液達標排放。
⑼ 常用的廢水治理設備有哪些
常用的廢水處理設備有微濾機和離心機。微濾機是一種傳鼓式篩網過濾裝置。被處理的廢水沿軸向進入鼓內，以徑向輻射狀經篩網流出。水中雜質即被留在鼓筒上濾網內面，被壓力沖洗水反沖到排加槽內流出。離心機主要用於將懸浮液中的固體顆粒與液體分開。它可用於排除是固體中的液體，特殊超速管分離機還可以分離出不同密度的氣體混合物並將沉降離塵還對固體顆粒按密度和力度進行分級處理。
⑽ 廢水處理設備與材料手冊
http://emuch.net/html/201306/6035380.html
這個地址裡面有 我公司電腦不能下載東西 所以樓主可以進去自己下載
請採納