A. 求推薦檢測中心實驗室廢水綜合處理設備的公司
我 們 公 司用 的 是 山東 博斯 達環 保科技
B. 電鍍廢水處理設備多少錢一套
電鍍廠現在查的越來越嚴，有些重金屬超標很嚴重的話，老闆可是要被抓的。一般我接觸的電鍍廠測的最多的就4個離子，Cr，Pb，Ni，Cu，看地區不同。像小的電鍍廠的話，最普通的一套污水處理設備要個幾十萬，當然客戶適當的要求加一些硬性的處理要求，適合自己公司的，可能還會貴點。
C. 廢水處理設備與材料手冊
http://emuch.net/html/201306/6035380.html
這個地址裡面有 我公司電腦不能下載東西 所以樓主可以進去自己下載
請採納
D. 常用的廢水治理設備有哪些
常用的廢水處理設備有微濾機和離心機。微濾機是一種傳鼓式篩網過濾裝置。被處理的廢水沿軸向進入鼓內，以徑向輻射狀經篩網流出。水中雜質即被留在鼓筒上濾網內面，被壓力沖洗水反沖到排加槽內流出。離心機主要用於將懸浮液中的固體顆粒與液體分開。它可用於排除是固體中的液體，特殊超速管分離機還可以分離出不同密度的氣體混合物並將沉降離塵還對固體顆粒按密度和力度進行分級處理。
E. 酸鹼廢水處理環保局認可設備報價
額
F. 廢水處理設備能處理多少廢水
萬川環保廢水處理設備能處理多少廢水
你得給出具體工藝和設備參數。
一般來說，常見的有沉澱，曝氣，生化，二沉等等程序。每一道程序，都是有處理能力限制的。
特別是生化，還有最低限制～～處理量太低，菌種會退化死亡的。
G. 浙江化工污水處理設備廠家
化工廠生產產品過程中會產生很多廢水，這種不廢水不經過處理排放對環境污染比較大，也是目前環保嚴的廢水種類之一。依斯倍環保化工廢水處理設備系統工藝廣泛應用於化工企業公司，依斯倍環保擁有38年歐洲環保行業服務經驗，幫助企業廢水達標。
H. 一套污水處理設備大概需要多少錢啊
一體化污水處理設備大概下來得好幾萬，甚至更貴了，最主要是看現場的要求，不能盲目定價。
一體化污水處理設備應用在：
其主要處理手段是採用生化處理技術接觸氧化法，組合一體化生活污水處理設備的設計主要是生活污水和與之類似的工業有機污水處理水質參數按一般生活污水水質計算，進水BOD5按200mg/L計。
主要的組成部分：1.水解酸化池；2. 接觸氧化池；3. 雜質沉澱池；4.消毒處理；5.污泥好氧消化池。
1. 水解酸化池
該工藝主要處理的就是對污水處理前進行預處理，將水中的廢水進行一定的厭氧發酵，將污水的可生化性提高，這是對污水處理前比較重要的步驟，可以直接影響後期的污水處理的效率和處理時間，可以最大程度的提高污水處理的效率和減少消耗。
2. 接觸氧化池
氧化池根據水處理的污染程度不同分為好幾個等級，普通型和加強型。一般根據處理的時間進行判斷。處理時間不大於四個小時就使用普通型的氧化池，處理時間在4-6小時之間的使用加強型的氧化池。主要是使用水解酸化池出水自流至接觸氧化池進行生化處理。原污水中大部分有機物在此得到降解和凈化，好氧菌以填料為載體，利用污水中的有機物為食料，將污水中的有機物分解成無機鹽類，從而達到凈化目的。好氧菌的生存，必須有足夠的氧氣，即污水中有足夠的溶解氧，以達到生化處理的目的。好氧池空氣由風機提供，池內採用新型彈性立體填料，該填料表面積比大、使用壽命長、易掛膜、耐腐蝕，池底採用旋混式曝氣器，使溶解氧的轉移率高，同時有重量輕、不老化、不易堵塞、使用壽命長等優點。接觸池氣水比在12：1左右。（0.5-5 m3/h接觸池為二級）
3. 雜質沉澱池
污水經過生物接觸氧化池處理後出水自流進入沉澱池，進一步沉澱去除脫落的生物膜和部份有機及無機小顆粒，沉澱池是根據重力作用的原理，當含有懸浮物的污水從下往上流動時，由重力作用，將物質沉澱下來。沉澱池上部設可調出水堰，以調節出水水位；下部設錐形沉澱區和污泥氣體裝置，氣源由風機提供，污泥採用氣提方式輸送至污泥好氧消化池。
4. 消毒處理
消毒池按規范«TJ14-74»標准為30分鍾，若是醫院污水，消毒池增加停留時間至1-1.5小時。我公司採用二氧化氯消毒裝置，消毒池與消毒裝置能根據出水量大小不斷改變加葯量，達到多出水多加葯，少出水少加葯的目的，需要其它裝置可另行配製。（如用於工業污水，消毒池與消毒裝置可以不要。）
5. 污泥好氧消化池
沉澱池所排放剩餘污泥在池中進行好氧消化穩定處理，以減少污泥的體積和提高污泥的穩定性。好氧消化後的污泥量較少，清理時可用吸糞車從污泥池的檢查孔伸到污泥池底部進行抽吸後外運即可（半年清理一次）。污泥好氧消化池上部設上清液迴流裝置，使上清液溢流至水解酸化池。
I. 一套廢水處理設備大概需要多少錢
電鍍廠現在查的越來越嚴，有些重金屬超標很嚴重的話，老闆可是要被抓的。一般我接觸的電鍍廠測的最多的就4個離子，cr，pb，ni，cu，看地區不同。像小的電鍍廠的話，最普通的一套污水處理設備要個幾十萬，當然客戶適當的要求加一些硬性的處理要求，適合自己公司的，可能還會貴點。
J. 半導體晶元製造廢水處理方法
晶元製造生產工藝復雜，包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉，生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技（廣東）有限公司網頁鏈接