玉樹半導體廢水處理設備

① 半導體晶元製造廢水處理方法

晶元製造生產工藝復雜，包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉，生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。

所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技（廣東）有限公司網頁鏈接

② 哪種地方需要用得到一體化廢水處理設備

當今一體化廢水處理設備的應用領域越來越廣闊了，變成生活中不可或缺的角色，那麼都有哪些地方需要用到一體化廢水處理設備呢，今天我就跟大家來細細講一下吧。
一體化廢水處理設備通常情況下更適合中小型程度的生產公司和沒有與市政排水管網接通的酒店、農家樂、農村、分散性住所、別墅、鄉村等，因為一體化廢水處理設備的處理量相對較小，通常適用於分散型廢水處理。通常對於很多公司來說，廢水處理和運用中水回用是一個非常重要的事項。原因是如今人們的環保覺悟越來越高了，並且我國對於環境保護越來越重視，相關檢驗也越來越嚴格。如果一家公司沒有一個萬全的廢水處理計劃，那麼會有很大可能會被有關部門關停。
這樣的情況下我們就需要用到一體化廢水處理設備了。那麼有一個情況需要跟大家說明的，那就是什麼地方需要用得到廢水的處理設備？事實上這個情況已經一目瞭然了，那就是只要能有廢水產生的行業，就需要用到一體化廢水處理設備。就好比說煤化工行業，精細化工以及制葯的時候都會產生大批量廢水，這些廢水都是不能隨意排放的，會對環境造成廢染。
從節約控製成本的視角出發，也為了能夠滿足環保的規范，就需要使用這種處理廢水的設備了，還能夠把當中的大量的水回收處理再利用，這樣就能夠更進一步的降低開銷了，並且經該設備處理的廢水，水質達到國家廢水處理綜合排放標准一級A標准。

③ 如何處理半導體(LED)廢水

隨著單個LED光通亮和發光效率的提高，即將進入普通室內照明、台燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場廣闊。 LED生產過程中絕大部分廢水產生在原材料和晶元製造過程中，分為拉晶、切磨拋和晶元製造，主要含一般酸鹼廢水、含氟廢水、有機廢水、氨氮廢水等幾種水質，在黃綠光晶片製造過程中還會有含砷廢水排出。 2、LED晶元加工廢水特點：主要污染物為LED晶元生產過程中排放的大量有機廢水和酸鹼廢水，另有少量含氟廢水。有機廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸鹼廢水中主要污染物為無機酸、鹼等。 3、LED切磨拋廢水特點：主要污染物為大量清洗廢水，主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。 4、酸鹼廢水排放：主要包括工藝酸鹼廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸鹼再生廢水，採用化學中和法處理。 含砷廢水：主要來自背面減薄及劃片/分割工序，採用化學沉澱法處理。 一般廢水：排放方式均為連續排放，主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無機鹽類，採用生化法去除。 含氟廢水：主要清洗廢水中含有HF，使用混凝沉澱去除。 高氨氮廢水：使用折點加氯法，將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過量氯或次氯酸鈉，使廢水中氨完全氧化為N2的方法，稱為折點氯化法，其反應可表示為： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生產加工之藍寶石拉晶廢水 污水水質、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小時連續)廢水水質：PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後進入有機廢水調節池。人工收集到含氟廢水收集池，加葯劑進行沉澱。上清液達標排放，污泥排入污泥濃縮池處理。 利用有機廢水調節池的池容增加生化處理功能，向池內投加厭氧性水解菌，池內配置穿孔水力攪拌系統以加強傳質，為後繼處理單元提供部分水解處理服務。 廢水經過調節後經泵提升進入進入厭氧水解池。 厭氧水解池採用上向流布水形式，利用循環管網系統加強池底部的混流強度，提高反應器內的傳質效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機物轉化為易降解的小分子有機物，將復雜的有機物轉變成簡單的有機物，提高廢水的可生化性，有利於後續的好氧生化處理。出水自流進入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進入二沉池進行泥水沉澱分離。為保證COD排放達標的處理要求，將二沉池出水導入BAF進行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池，為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水，其餘的清水達標排放。 5.2、LED生產加工之切磨拋廢水 污水水質、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小時連續)廢水水質：1PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝根據業主廢水的水質情況，在吸取以往同類廢水處理裝置設計的成功經驗和一些同類廢水處理裝置的實際運行經驗，設計污水處理主體工藝路線如下： 格柵池+清洗廢水調節池+反應池+物化沉澱池達標排放 污泥處理主體工藝採用工藝路線為： 污泥濃縮+污泥調理+板框壓濾泥餅外運 5.3、LED生產加工之晶元廢水 污水水質、水量： 有機廢水水量：19.4t/h(24小時連續)水質：PH值6.0-8.0無量綱 酸鹼廢水水量：70t/h(24小時連續)水質：PH值4.0-11.0無量綱 含氟廢水水量：4t/h(24小時連續)水質：PH值2.0-4.0無量綱 氟化物≤200mg/L處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後達標排放。含氟廢水收集調節後與投加的葯劑反應生成不溶性氟化物沉澱，上清液達標排放。

④ 實驗室廢水處理設備哪個廠家的好

國家環保部發出通知:要求對實驗室、化驗室、試驗場所按照污染源進行管理，納入環境監管范圍;隨著監管力度及環保意識增強，實驗室務必加強廢水、廢氣、廢物的管理水平。 就像家裡搞裝修一樣，瓷磚、地板、傢具、空調、廚具等品牌、型號都得自己選，裝修公司為吃差價、原則是不要最好、只要最便宜!!所以業主單位要直接聯系實驗室廢水處理設備的廠家，了解設備的功能、水處理工藝原理，貨比三家。 要選擇工藝成熟透明，是使用普通商品名稱的濾料、水處理葯劑，這樣的設備往往比較可靠、實在、維護費用低;注意提防最新工藝、最新材料。

⑤ 濃度廢水處理設備主要工藝都有哪些

氧化-吸附法

高濃度廢水稀釋後用煤粉進行初步混凝、吸附處理，然後用Fenton試劑催化氧化和酸性凝聚，再用煤粉混凝、吸附。經此法處理的廢水，色度和COD可分別去除100%、90%，具有較好的處理效果。吸附後的煤粉用於燃燒，無二次污染，比使用活性炭作吸附劑更經濟。

焚燒法

焚燒法適用於處理高濃度有機廢水。預處理後的廢水經加壓、過濾、計量後送至爐拱上方，由高壓空氣霧化專用噴嘴噴入爐膛蒸發焚燒。該法在保證鍋爐安全運行的條件下，能對高濃度有機廢水徹底處理，其優點是初投資省，運行費用低。若採用專門技術，焚燒效果良好，灰渣及飛灰含碳量均有所降低，對鍋爐出力、效率均無顯著影響。

該法在實際推廣應用中存在的缺點是：①廢水水量受相配鍋爐的限制；②對廢水成分應詳細分析，確保不影響鍋爐本體燃燒；③該法在理論上有待進一步深入研究。

吸附法

吸附法是用具有很強吸附能力的固體吸附劑，使廢水中的一種或數種組分富集於固體表面的方法。常用的吸附劑有活性炭和樹脂，活性炭再生和洗脫困難；樹脂吸附具有實用范圍廣，不受廢水中無機鹽的影響，吸附效果好，洗脫和再生容易，性能穩定等優點，因而在超高濃度有機廢水處理中，最常用的吸附劑為樹脂吸附劑。樹脂吸附法可用於處理含酚、苯胺、有機酸、硝基物、農葯、染料中間體等廢水，是一種處理有機廢水的有效方法。

SBR處理

SBR污水處理工藝是現代活性污泥法的一種類型，它是在一個設有曝氣及攪拌裝置的反應器內，按照預定的程序，進行充水、生化反應、沉澱、排水、閑置等過程的操作。從充水開始到閑置結束為一個周期。

本技術具有以下特點：

污泥濃度較高、容積負荷大、節省佔地面積;

在一個池中可同時進行好氧和缺氧過程，可同時脫碳和脫氮;

較高的污泥齡，耐高濃度有機物和毒性物質沖擊;

操作負荷靈活、不存在污泥膨脹現象;

自動化程度高、操作人員勞動強度小;

運行費用低。

難以生物處理

編輯

1、高濃度難降解有機廢水難生物處理的原因分析

、難降解有機物的主要種類和危害

難降解的有機物種類繁多,來源於各行各業如化工、印染、農葯等,且有潛在的危險。

一般處理工藝

編輯

高含鹽廢水生物處理高含鹽廢水生物處理流程的選擇高含鹽廢水生物處理流程與普通生物處理流程基本一樣,主要包括調節池、曝氣池、二沉池、污泥迴流、剩餘污泥脫水、投加營養鹽等。 (1)調節池。含鹽廢水調節池考慮的主要因素是廢水鹽濃度的變化,除生產波動周期、沖擊因素外,應重點考慮水中鹽濃度的變化和如何進行調整,如低含鹽水量的減少或過高含鹽來水的沖擊。 (2)曝氣池。根據廢水中含鹽類型不同,曝氣池選擇也應有所不同。生物處理含CaCL2較高的廢水,應採用傳統曝氣方式。鈣離子能增加活性污泥的絮體強度,高CaCL2可使污泥中灰分達到40%～50%,污泥密度增加,曝氣池中的污泥濃度可在5000mg/L以上。因此,應採用提升力較大的傳統曝氣、深井曝氣、流化床曝氣等曝氣方法。曝氣也應選用氣泡較大、提升力較強的散流曝氣器等曝氣方式。不可採用氣泡較小的微孔曝氣器和可變孔曝氣器,防止曝氣孔被無機鹽堵塞,不利於曝氣池的攪動。在水量小於1000m3條件下也可以採用射流曝氣，射流曝氣氧的傳遞效率高，而且不易堵塞曝氣設備。曝氣強度也應大於普通生物處理,在10m3/(m2·h)左右,或用中心管來增加提升和攪拌能力。高含鹽情況下氧的傳遞速度增加對高污泥濃度有利,只要菌膠團不解體,即使產生絲狀菌,污泥也不會上浮流失。含磷營養鹽應注意投加位置,以免產生的磷酸鈣鹽沉澱不僅影響使用效果,而且產生結垢易堵塞管線。SBR工藝在用SBR工藝處理高鹽廢水時，由於SBR是瀑氣，沉澱一體，所以在設計的時候要充分考慮到沉澱時間，尤其是在處理含高濃度的鈉鹽的廢水，含鈉鹽的廢水沉澱效果差，故沉澱時間應該相應延長，再就是在為了減少潷水器對沉澱的污泥的干擾，潷水的深度也應該相應減小。在處理鹽度波動較大的廢水的時候，仍然需要設置調節池。

⑥ 如何確認廢水處理設備處理廢水的程度

廢水排放國標指標，入水和出水監測數據就可以看出廢水處理設備處理的效果，計算處理率。

⑦ 電路板廢水處理需要哪些技術和設備

電路板廢水處理 系統主要處理廢水方法如下：
一般清洗廢水( 低濃度清洗廢水)：
清洗廢水日排放量為6400噸(一期3200噸/天)，收集於調節池中，同時其它經預處理後的廢水和廢液排入調節池一並混合。污染物濃度較低，PH值為2.5-5，重金屬離子含量總量在30mg/l以下;混合廢水的CODcr一般在150mg/l以下。由提升泵提升至PH調整槽Ⅰ進行處理。
油墨廢水：
油墨廢水主要特點是CODcr濃度很高，達15000mg/L，平均8000
mg/L左右。顯影、脫膜廢水中的有機物對後面的綜合廢水的混凝沉澱和離子交換有較大的影響。油墨廢水特點是在酸性條件下易析離出，因此不可能與其它廢水混合在一起處理。油墨廢水單獨收集，由泵泵至酸化池，加入酸液，在酸性條件下(PH3-5)油墨中的感光膜會析出，形成濃膠狀凝聚成團成為浮渣去除，再調pH值7～8，同時加入混凝劑，再經過沉澱分離，沉澱上清液的COD一般有400～800mg/L，上清液自流入調節池混合後再處理。
絡合廢水：
因為絡合銅(EDTA銅絡離子或銅氨絡離子)結構相當穩定，溶解於水，不沉澱，雖然只佔總水量的1~3%，但由於其絡合物極穩定，若不將絡合物破除，出水中的銅離子就很難達標(0.5mg/L以下)。絡合銅廢水若與其它的污水混合在一起進行處理，為破絡合物則投葯量非常大，運行費用增加，因此絡合銅廢水必須單獨收集並預處理。由泵將絡合廢水泵入破絡槽，加入氧化劑如次氯酸鈉氧化破除絡合物(EDTA和NH3在中性條件下都可被NaOCl氧化)。再加入混凝劑和助凝劑，沉澱後上清液流入調節池。

⑧ 我們是一家半導體生產型企業，會產生大量的研磨切割和酸鹼廢水，有工業廢水處理公司嗎

蘇州園區有一家荷蘭的環保公司