1. 什麼叫去離子水怎麼制備
去離子水（deionized water）是指除去了呈離子形式雜質後的純水。國際標准化組織ISO/TC 147規定的「去離子」定義為：「去離子水完全或不完全地去除離子物質，主要指採用離子交換樹脂處理方法。」現在的工藝主要採用RO反滲透的方法製取。應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放後也容易引起細菌的繁殖。
去離子水的處理步驟從自來水到去離子水一般要經過幾步處理 ：
1、先通過石英砂過濾顆粒較粗的雜質
2、然後高壓通過反滲透膜
3、最後一般還要經過一步紫外殺菌以去除水中的微生物
4、假如此時電阻率還沒有達到要求的話，可以再進行一次離子交換過程最高電阻率可達到18兆。
相對而言，蒸餾水只是先氣化再冷凝，其純度如電導率一般不如純度高的去離子水，半導體工業中用的大多數是高純度的去離子水
2. 什麼設備要用去離子水
根據我們特域冷水機所接觸的大部分客戶的經驗：
1.如果發熱元器件對冷卻水流的電阻有要求的話，一般都需要我們特域冷水機裡面配置去離子水。2.例如一些半導體，燈泵，當冷卻水是直接在上面流過的話就要去離子水了。
3.也有一些是水管道裡面有銅等游離金屬也是要求去離子水，以免加速銅等金屬的腐蝕。
3. 化學類，關於去離子水的問題
去離子水是指除去了呈離子形式雜質後的純水。國際標准化組織ISO/TC 147規定的「去離子」定義為：「去離子水完全或不完全地去除離子物質，主要指採用離子交換樹脂處理方法。」現在的工藝主要採用RO反滲透的方法製取。應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放後也容易引起細菌的繁殖。
相對而言，蒸餾水只是先氣化再冷凝，其純度如電導率一般不如純度高的去離子水，半導體工業中用的大多數是高純度的去離子水
4. 請問有哪些廠家或公司需要用去離子水
1、實驗室、化驗室用水，一般實驗室的常規試驗、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等
2、電子工業生產，如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬碟、集成電路晶元、單晶硅半導體等；
3、電力鍋爐，鍋爐所需軟化水、除鹽；
4、汽車、家用電器、建材表面塗裝、電鍍、鍍膜玻璃清洗等；
5、石油化工行業,化工反應冷卻水、化學葯劑、生產配液用水等；
6、工業紡織印染、鋼鐵清洗用水等；
7、食品、飲料、酒類、化妝品生產用水；
8、海水、苦鹹水等凈化。
東莞綠健水處理設備有限公司
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廣州市弘威水處理設備有限公司
廣州市加聚高新材料有限公司
北京中科維斯科技發展有限公司
北京凝結水回收裝置有限公司
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深圳華南高科水處理設備(南昌)有限公司
拓展空間有限公司
上海去離子水設備有限公司
上海美國海德能膜公司
……………………
公司太多我就不一一列舉了
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5. 什麼是去離子水
採用離子交換來製取，其原理是原水中含有的鹽類如Ca(HCO3)2、Mgso4等鹽類,在流經交換樹脂時,陽離子Co2+、Mg2+等被陽樹脂的活性基團置換,陰離子HCo3-、So42-等被陰樹脂的活性基團置換,從而水就得到純化.如原水中的重碳酸鹽含量較高,應在陰陽離子交換柱中間設脫氣塔,除去CO2氣體,減輕陰床的負荷.一般復床(陽離子交換柱、陰離子交換柱)出水其電導率可達10s/cm以下,若水源水質較好其產水電導率可達5s/cm以下,混合離子交換柱一般作為後處理放置於復床後或反滲透系統後可使產水電導率達到18m.Ωcm的高純水.
作用:廣泛用於輕工、紡織、醫葯、生物、電子能，還可以用於食品葯物的脫色提純、貴重金屬、化工原料的回收、電鍍廢水的處理。
去離子水設備適用范圍超純水經常用於微電子工業、半導體工業、發電工業、制葯行業和實驗室。CEDI純水也可以作為制葯蒸餾水、食物和飲料生產用水、化工廠工藝用水，以及其它超純水應用領域。
1、製取電子工業生產如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬碟、集成電路晶元、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水;
………………
詳細資料請參考：on
6. 去離子水設備拋光樹脂怎麼更換
凈得瑞為您解答：
1.拋光樹脂( MB-400)是由高度純化、轉型的H型陽樹脂和OH型陰樹脂混合而成，如果裝填和操作得當，在最初的周期中即可制備出電阻率大於18.0MΩ.cm和TOC小於10ppb的超純水，無需化學再生。
2.樹脂開封後長時間暴露在空氣中會吸收二氧化碳，從而影響產品的性能及使用。因此一旦拆包需盡快使用。不使用部分須小心密封，存放於避光陰涼處，環境溫度以5-40℃為宜。
3.在運輸、儲存和裝填過程中，任何無機或有機物質的接觸都會使樹脂受到污染，從而降低出水水質;影響運行工況。因此必須保證所有用於裝填、操作的設備和水不會污染樹脂。所有與樹脂接觸的水都必須使用高純水(本文中所涉及到的水均指「高純水」，即電阻率大於等於10MΩ.cm，同時TOC盡可能低於30ppb的水)，所有接觸樹脂的設備或器具都要在使用前經過高純水清洗。
7. 半導體設備
我前段時間也學習了解了一下晶圓的製作過程，有些資料，你看看吧~@~
由半導體國際收集
晶圓清洗設備
Akrion
Applied Materials
Crest Ultrasonics
Dainippon Screen （DNS）
EV Group
FSI International
Lotus Systems
Megasonic Sweeping
SEZ (Lam Research)
Semitool
SES
Solid State Equipment
Tokyo Electron （TEL）
七星華創（SevenStar）
中聯科利(United Cleaning Technology)
沈陽芯源
熱處理設備
Applied Materials
ASM
ATV Technologie
Aviza Technology
Axcelis Technologies, Inc.
Axic
CVD Equipement
Kokusai Semiconctor Equipment
Mattson
Thermcraft
Tokyo Electron （TEL）
七星華創（SevenStar）
離子注入設備
Applied Materials
Axcelis Technologies, Inc.
Nissin Electric
Varian Semiconctor
北京中科信電子裝備有限公司
CVD/PECVD/ALD設備
Applied Materials
Axic
AIXTRON
ASM
ATV Technologie
Aviza Technology
CVD Equipement
Hitachi Kokusai
Novellus
Oerlikon
Oxford Instruments
Tokyo Electron （TEL）
Veeco Instruments
海微芯儀半導體設備
中微半導體AMEC
七星華創（SevenStar）
沈陽科儀
PVD設備
Applied Materials
Aviza Technology
KDF
Novellus
Oerlikon(Unaxis Wafer Processing)
Oxford Instruments
Varian Semiconctor
Veeco Instruments
光刻設備
ASML
Canon
EV Group
Molecular Imprints
Nikon Precision
Suss MicroTec
Ultratech
Vistec Lithography
塗布/顯影設備
Dainippon Screen （DNS）
EV Group
Sokudo Co. Ltd.
Solitec Wafer Processing
Suss MicroTec
Tokyo Electron （TEL）
沈陽芯源
刻蝕/去膠/灰化設備
Applied Materials
Aviza Technology
Axic
Hitachi High Technologies
Lam Research
Mattson Technology,Inc
Oerlikon
Oxford Instruments
Tokyo Electron （TEL）
Veeco Instruments
北方微電子
七星華創（SevenStar）
中微半導體AMEC
CMP設備
Applied Materials
Ebara Corporation
Entrepix,Inc
Kinetic Systems
Levitronix LLC
Novellus
盛美半導體
電鍍系統設備
Applied Materials
ECI Technology
Novellus
Semitool
Surfect
盛美半導體
半導體工藝用石墨元件/材料
POCO Graphite
Carbone Lorraine(Le Carbone Advanced Graphites )
東洋炭素株式會社TOYO TANSO
西格里碳素集團SGL Group
8. 上海哪裡提供去離子水/工業純水,或者超純水設備的銷售
edi電去離子水設備是結合了電滲析與離子交換兩項技術各自的特點而發展起來的一項新技術，與普通電滲析相比，由於淡室中填充了離子交換樹脂，大大提高了膜間導電性，顯著增強了由溶液到膜面的離子遷移，破壞了膜面濃度滯留層中的離子貧乏現象，提高了極限電流密度;與普通離子交換相比，由於膜間高電勢梯度，迫使水解離為H+和OH-，H+和OH-一方面參預負載電流，另一方面可以又對樹脂起就地再生的作用，因此EDI不需要對樹脂進行再生，可以省掉離子交換所必需的酸鹼貯罐，也減少了環境污染。因此EDI去離子水系統具有如下優點：
1、出水水質具有最佳的穩定度。
2、能連續生產出符合用戶要求的超純水。
3、模塊化生產，並可實現PLC全自動控制。
4、不需酸鹼再生，無污水排放。降低了勞動強度，節省了酸鹼和大量清潔水，減少了環境污染。
5、不會因再生而停機。
6、單一系統連續運轉，不需備用系統。
edi電去離子水設備項目的技術創新點
EDI去離子水設備以離子交換纖維代替顆粒樹脂作為電去離子隔膜間的填充物的研究在電去離子剛被認識時就已經開始了，但真正成功實現工業化的產品卻是添加了樹脂而不是纖維的電去離子，然而已有很多研究證明填充離子交換纖維比離子交換樹脂有許多明顯的優點，如：
(1)隔膜的間距可以減少，通常ED的隔膜間距為0.8-1.0mm，而電去離子為3mm左右，如果填充離子交換纖維則可以使隔膜介於二者之間，這樣有利於縮短離 反滲透加電去離子裝置純水處理系統
子通道，提高極限電流密度。
(2)離子交換纖維比表面積大、交換速度快，因此更符合電去離子的要求。本項目的創新點表現在採用一種自主開發的離子交換纖維新材料，開發可以滿足更高市場需求的純水高端產品，填補國內高端產品的空白。
EDI去離子的工業應用和市場需求
最近幾年EDI去離子在各個工業領域都越來越受重視，許多工業系統開始採用電去離子作為其水處理系統的更新換代技術，如電力工業、制葯工業、微電子工業、電鍍與金屬表面處理等。
(1)電力工業
據推算電力行業水處理單元的操作費用約占電力成本的10%，而用電去離子替代離子交換樹脂可以使每處理1000加侖水的成本由11美元降至1.75美元。
(2)制葯工業
雖然葯用水的特點是並不要求很高的去離子程度，但電去離子系統具有同時去鹽和控制微生物指標的特點，因此已有多家企業採用RO/EDI集成系統。據稱該類系統性能穩定，全流程計算機連續監控，全自動操作無人值守。
〔3〕電子工業
電子工業對水質的要求極高，水電阻率要穩定的大於18MΩ,而EDI出水一般在15-17 MΩ左右，因此在電子級水的生產過程多採用EDI+拋光樹脂系統，即在EDI之後加離子交換，此工程雖然仍需離子交換，但由於EDI已除去了大部分離子，拋光樹脂幾乎不用再生，因此水處理費用仍然很低。
(4)電鍍與金屬表面處理
電去離子可用於電鍍廢水處理可以使水重復使用並回收重金屬離子。美國已有該類型系統的實驗裝置。
(5)其他領域
EDI去離子水設備在食品工業、化學工業等都有很廣泛的應用：多室流化床、設備的橫截面一般為矩形，用垂直擋板將設備沿長度方向分成多室(一般4～8室)。擋板下沿與分布板面之間留有幾十毫米的間隙，作為室間粉粒通道。最後一室有控制床面的堰板。流體平行進入各室，顆粒則依次通過各室，因此多室流化床不僅能抑制顆粒在整個床層內的返混，而且還能調節通入各室流體的流速和溫度。多室流化床比多層流化床設備容易控制，總壓降也小;但傳熱、傳質推動力較多層床小，用於乾燥時空氣熱量利用效率較差。 兩器流化床 有兩個流化床，在左側流化。
9. 去離子水是什麼可以用來做什麼
去離子水是指除去了呈離子形式雜質後的純水。國際標准化組織ISO/TC
147規定的「去離子」定義為：「去離子水完全或不完全地去除離子物質。」現在的工藝主要採用RO反滲透的方法製取。應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放後也容易引起細菌的繁殖。
去離子水是目前工業超純水的設備上應用最多的工藝之一.
去離子水設備的主要用途:
塗裝行業:塗料配製.仟凈的去離子水流程都是引進的,所以應用范圍非常廣。如：
1、實驗室、化驗室用水,一般實驗室的常規試驗、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等;
2、電子工業生產,如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬碟、集成電路晶元、單晶硅半導體等;
3、電力鍋爐，鍋爐所需軟化水、除鹽;
4、汽車、家用電器、建材表面塗裝、電鍍、鍍膜玻璃清洗等;
5、石油化工行業,化工反應冷卻水、化學葯劑、生產配液用水等;
6、工業紡織印染、鋼鐵清洗用水等;
7、食品、飲料、酒類、化妝品生產用水;
8、海水、苦鹹水等凈化。
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