A. 「去離子水」的作用及用途
」去離子水「的作用是去除了水中的離子狀雜質，讓水更純凈。用途很廣，各行各業都有用到去離子水。
B. 請問有哪些廠家或公司需要用去離子水
1、實驗室、化驗室用水，一般實驗室的常規試驗、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等
2、電子工業生產，如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬碟、集成電路晶元、單晶硅半導體等；
3、電力鍋爐，鍋爐所需軟化水、除鹽；
4、汽車、家用電器、建材表面塗裝、電鍍、鍍膜玻璃清洗等；
5、石油化工行業,化工反應冷卻水、化學葯劑、生產配液用水等；
6、工業紡織印染、鋼鐵清洗用水等；
7、食品、飲料、酒類、化妝品生產用水；
8、海水、苦鹹水等凈化。
東莞綠健水處理設備有限公司
萊特萊德廣州水處理設備公司
廣州市弘威水處理設備有限公司
廣州市加聚高新材料有限公司
北京中科維斯科技發展有限公司
北京凝結水回收裝置有限公司
北京潔源通宇科技有限公司
深圳華南高科水處理設備(南昌)有限公司
拓展空間有限公司
上海去離子水設備有限公司
上海美國海德能膜公司
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公司太多我就不一一列舉了
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C. 去離子水
杭州永潔達凈化科技有限公司，是專業生產各類純水與超純水，也就是去離子水。
去離子水（deionized water）是指除去了呈離子形式雜質後的純水。國際標准化組織ISO/TC 147規定的「去離子」定義為：「去離子水完全或不完全地去除離子物質，主要指採用離子交換樹脂處理方法。」現在的工藝主要採用RO反滲透的方法製取。應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放後也容易引起細菌的繁殖。 在半導體行業中，去離子水被稱為「超純水」或是「18兆歐水」。
一.去離子水的處理 一體化去離子水設備
從自來水到去離子水一般要經過幾步處理 ：
1、先通過石英砂過濾顆粒較粗的雜質
2、然後高壓通過反滲透膜
3、最後一般還要經過一步紫外殺菌以去除水中的微生物
4、假如此時電阻率還沒有達到要求的話，可以再進行一次離子交換過程最高電阻率可達到18兆。
相對而言，蒸餾水只是先氣化再冷凝，其純度如電導率一般不如純度高的去離子水，半導體工業中用的大多數是高純度的去離子水
二.去離子水與其他水的區別
1. 蒸餾水：就是將水蒸餾、冷凝的水，蒸二次的叫重蒸水，三次的叫三蒸水。有時候為了特殊目的，在蒸前會加入適當試劑，如為了無氨水，會在水中加酸；低耗氧量的水，加入高錳酸鉀與酸等。工業蒸餾水是採用蒸餾水方法取得的純水，一般普通蒸餾取得的水純度不高，經過多級蒸餾水，出水才可達到很純，成本相對比較高。
2. 去離子水就是將水通過陽離子交換樹脂（常用的為苯乙烯型強酸性陽離子交換樹脂），則水中的陽離子被樹脂所吸收，樹脂上的陽離子H+被置換到水中，並和水中的陽離子組成相應的無機酸；含此種無機酸的水再通過陰離子交換樹脂（常用的為苯乙烯型強鹼性陰離子）OH-被置換到水中，並和水中的H+結合成水，此即去離子水。去離子水在現代工業中有著非常廣泛的用途，使用去離子水，是我國很多行業提高產品質量的，趕超世界先進水平的重要手段之一。 由於去離子水中的離子數可以被人為的控制，從而，使它的電阻率、溶解度、腐蝕性、病毒細菌等物理、化學及病理等指標均得到良好的控制。在工業生產及實驗室的實驗中，如果涉及到使用水的工藝都被使用了去離子水，那麼，許多參數會更接近設計或理想數據，產品質量將變得易於控制。
3. 高純水，是指化學純度極高的水，其主要應用在生物、化學化工、冶金、宇航、電力等領域，但其對水質純度要求相當高，所以一般應用最普遍的還是電子工業。例如電力系統所用的純水，要求各雜質含量低達到「微克/升」級。在純水的製作中，水質標准所規定的各項指標應該根據電子(微電子)元器件(或材料)的生產工藝而定(如普遍認為造成電路性能破壞的顆粒物質的尺寸為其線寬的1/5-1/10)，但由於微電子技術的復雜性和影響產品質量的因素繁多，至今尚無一份由工藝試驗得到的適用於某種電路生產的完整的水質標准。不過近年來電子級水標准也在不斷地修訂，而且高純水分析領域的許多突破和發展，新的儀器和新分析方法的不斷應用都為制水工藝的發展創造了條件。高純水的國家標准為：GB1146.1-89至GB1146.11-89[168]，目前我國高純水的標准將電子級水分為五個級別：Ⅰ級、Ⅱ級、Ⅲ級、Ⅳ級和Ⅴ級，該標準是參照ASTM電子級標准而制定的。
4.、而超純水呢,則可以認為是一般工藝很難達到的程度，如水的電阻率大於18MΩ*cm（沒有明顯界線），則稱為超純水。關鍵是看你用水的純度及各項征性指標，如電導率或電阻率，PH值，鈉，重金屬，二氧化硅，溶解有機物，微粒子，以及微生物指標等。
D. 去離子水設備拋光樹脂怎麼更換
凈得瑞為您解答：
1.拋光樹脂( MB-400)是由高度純化、轉型的H型陽樹脂和OH型陰樹脂混合而成，如果裝填和操作得當，在最初的周期中即可制備出電阻率大於18.0MΩ.cm和TOC小於10ppb的超純水，無需化學再生。
2.樹脂開封後長時間暴露在空氣中會吸收二氧化碳，從而影響產品的性能及使用。因此一旦拆包需盡快使用。不使用部分須小心密封，存放於避光陰涼處，環境溫度以5-40℃為宜。
3.在運輸、儲存和裝填過程中，任何無機或有機物質的接觸都會使樹脂受到污染，從而降低出水水質;影響運行工況。因此必須保證所有用於裝填、操作的設備和水不會污染樹脂。所有與樹脂接觸的水都必須使用高純水(本文中所涉及到的水均指「高純水」，即電阻率大於等於10MΩ.cm，同時TOC盡可能低於30ppb的水)，所有接觸樹脂的設備或器具都要在使用前經過高純水清洗。
E. 半導體潔凈室
半導體無塵室安全工作規范
一、無塵室須知
進入無塵室前，必須知會管理人，並通過基本訓練
2.進入無塵室嚴禁吸煙，吃(飲)食，外來雜物(如報章，雜志，鉛筆...等)不可攜入，並嚴禁嘻鬧奔跑及團聚談天。
3.進入無塵室前，需在規定之處所脫鞋，將鞋置於鞋櫃內，外衣置於衣櫃內，私人物品置於私人櫃內，櫃內不可放置食物。
4.進入無塵室須先在更衣室，將口罩，無塵帽，無塵衣以及鞋套按規定依程序穿戴整齊，再經空氣洗塵室洗塵，並踩踏除塵地毯(洗塵室地板上)方得進入。
5.戴口罩時，應將口罩戴在鼻子之上，以將口鼻孔蓋住為原則，以免呼吸時污染晶元。
6. 穿著無塵衣，無塵帽前應顯畸理服裝以及頭發，以免著上無塵衣後，不得整理又感不適。
7. 整肅儀容後，先戴無塵帽，無塵帽的穿戴原則是
(1)頭發必須完全覆蓋在帽內，不得外露。
（2）無塵帽之下擺要平散於兩肩之上，穿上工作衣後，方不致下擺脫出，裸露肩頸部。
8.無塵帽戴妥後，再著無塵衣，無塵衣應尺吋合宜，才不致有褲管或衣袖太短而裸露皮膚之虞，穿衣時應注意帽之下擺應保平整之狀態，無塵衣不可反穿。
9.穿著無塵衣後，才著鞋套，拉上鞋套並將鞋套整平，確實蓋在褲管之上。
10戴手套時應避免以光手碰觸手套之手掌及指尖處(防止鈉離子污染)，戴上手套後，應將手套之手腕置於衣袖內，以隔絕污染源。
11.無塵衣著妥後，經洗塵，並踩踏除塵毯，方得進入無塵室。
12. 不論進入或離開無塵室，須按規定在更衣室脫無塵衣，不可在其它區域為之，尤不可在無塵室內邊走邊脫。
13. 無塵衣，鞋套等，應定期清洗，有破損，脫線時，應即換新。
14. 脫下無塵衣時，其順序與穿著時相反。
15. 脫下之無塵衣應吊好，並放於更衣室內上層櫃子中;鞋套應放置於吊好的無塵衣下方。
16. 更衣室內小櫃中，除了放置無塵衣等規定物品外，不得放置其它物品。
17. 除規定紙張及物品外，其它物品一概不得攜入無塵室。
18。無塵衣等不得攜出無塵室，用畢放置於規定處所。
19. 口罩與手套可視狀況自行保管或重復使用。
20. 任何東西進入無塵室，必須用灑精擦拭乾凈。
21. 任何設備的進入，請知會管理人，在無塵室外擦拭乾凈，方可進入。
22. 未通過考核之儀器，禁止使用，若遇緊急情況，得依緊急處理步驟作適當處理，例如關閉水、電、氣體等開關。
23.無塵室內絕對不可動火，以免發生意外。
二、無塵室操作須知
1.處理晶元時，必須戴上無纖維手套，使用清洗過的干凈鑷子挾持晶元，請勿以手指或其它任何東西接觸晶元，遭碰觸污染過的晶元須經清洗，方得繼續使用：
(1)任何一支鑷子前端(即挾持晶元端)如被碰觸過，或是鑷子掉落地上，必須拿去清洗請勿用紙巾或布擦拭臟鑷子。
(2) 晶元清洗後進行下一程序前，若被手指碰觸過，必須重新清洗。
(3) 把晶元放置於石英舟上，准備進爐管時，若發現所用鑷子有污損現象或晶元上有顯眼由鑷子所引起的污染，必須將晶元重新清洗，並立即更換干凈的鑷子使用。
2. 晶元必須放置盒中，蓋起來存放於規定位置，盡可能不讓它暴露。
3.避免在晶元上談話，以防止唾液濺於晶元上，在晶元進擴散爐前，請特別注意，防止上述動作產生，若晶元上沾有纖維屑時，用氮氣槍噴之。
4. 從石英舟(Quartz Boat)等載具(Carrier)上，取出晶元時，必須垂直向上挾起，避免刮傷晶元，顯微鏡鏡頭確已離晶元，方可從吸座上移走晶元。
5. 晶元上，若已長上氧化層，在送黃光室前切勿用鑽石刀在晶元上刻記。
6. 操作時，不論是否戴上手套，手絕不能放進清洗水槽。
7.使用化學站或烤箱處理晶元時，務必將晶元置放入晶舟內，不可使用塑料盒。
8.擺置晶元於石英舟時，若晶元掉落地上或手中則必須重新清洗晶元，然後再進氧化爐。
9. 請勿觸摸晶元盒內部，如被碰觸或有碎晶元污染，必須重作清洗。
10.手套，廢紙及其它雜碎東西，請勿留置於操作台，手套若燒焦、磨破或纖維質變多必須換新。
11.非經指示，絕不可開啟不熟悉的儀器及各種開關閥控制鈕或把手。
12. 奇怪的味道或反應異常的溶液，顏色，聲響等請即通知相關人員。
13. 儀器因操作錯誤而有任何損壞時，務必立刻告知負責人員或老師。
14. 晶元盒進出無塵室須保持干凈，並以保鮮膜封裝，違者不得進入。
15. 無塵室內一律使用原子筆及無塵筆記本做記錄，一般紙張與鉛筆不得攜入。三、黃光區操作須知
1.濕度及溫度會影響對准工作，在黃光區應注意溫度及濕度，並應減少對准機附近的人，以減少濕、溫度的變化。2. 上妥光阻尚未曝光完成之晶元，不得攜出黃光區以免感光.
3.己上妥光阻，而在等待對准曝光之晶元，應放置於不透明之藍黑色晶盒之內， 盒蓋必須蓋妥。
4. 光罩使用時應持取邊緣，不得觸及光罩面，任何狀況之下，光罩鉻膜不得與他物接觸，以防刮傷，光罩之落塵可以氮氣槍吹之。
F. 什麼是去離子水
採用離子交換來製取，其原理是原水中含有的鹽類如Ca(HCO3)2、Mgso4等鹽類,在流經交換樹脂時,陽離子Co2+、Mg2+等被陽樹脂的活性基團置換,陰離子HCo3-、So42-等被陰樹脂的活性基團置換,從而水就得到純化.如原水中的重碳酸鹽含量較高,應在陰陽離子交換柱中間設脫氣塔,除去CO2氣體,減輕陰床的負荷.一般復床(陽離子交換柱、陰離子交換柱)出水其電導率可達10s/cm以下,若水源水質較好其產水電導率可達5s/cm以下,混合離子交換柱一般作為後處理放置於復床後或反滲透系統後可使產水電導率達到18m.Ωcm的高純水.
作用:廣泛用於輕工、紡織、醫葯、生物、電子能，還可以用於食品葯物的脫色提純、貴重金屬、化工原料的回收、電鍍廢水的處理。
去離子水設備適用范圍超純水經常用於微電子工業、半導體工業、發電工業、制葯行業和實驗室。CEDI純水也可以作為制葯蒸餾水、食物和飲料生產用水、化工廠工藝用水，以及其它超純水應用領域。
1、製取電子工業生產如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬碟、集成電路晶元、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水;
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詳細資料請參考：on
G. 什麼設備要用去離子水
根據我們特域冷水機所接觸的大部分客戶的經驗：
1.如果發熱元器件對冷卻水流的電阻有要求的話，一般都需要我們特域冷水機裡面配置去離子水。2.例如一些半導體，燈泵，當冷卻水是直接在上面流過的話就要去離子水了。
3.也有一些是水管道裡面有銅等游離金屬也是要求去離子水，以免加速銅等金屬的腐蝕。
H. 上海哪裡提供去離子水/工業純水,或者超純水設備的銷售
edi電去離子水設備是結合了電滲析與離子交換兩項技術各自的特點而發展起來的一項新技術，與普通電滲析相比，由於淡室中填充了離子交換樹脂，大大提高了膜間導電性，顯著增強了由溶液到膜面的離子遷移，破壞了膜面濃度滯留層中的離子貧乏現象，提高了極限電流密度;與普通離子交換相比，由於膜間高電勢梯度，迫使水解離為H+和OH-，H+和OH-一方面參預負載電流，另一方面可以又對樹脂起就地再生的作用，因此EDI不需要對樹脂進行再生，可以省掉離子交換所必需的酸鹼貯罐，也減少了環境污染。因此EDI去離子水系統具有如下優點：
1、出水水質具有最佳的穩定度。
2、能連續生產出符合用戶要求的超純水。
3、模塊化生產，並可實現PLC全自動控制。
4、不需酸鹼再生，無污水排放。降低了勞動強度，節省了酸鹼和大量清潔水，減少了環境污染。
5、不會因再生而停機。
6、單一系統連續運轉，不需備用系統。
edi電去離子水設備項目的技術創新點
EDI去離子水設備以離子交換纖維代替顆粒樹脂作為電去離子隔膜間的填充物的研究在電去離子剛被認識時就已經開始了，但真正成功實現工業化的產品卻是添加了樹脂而不是纖維的電去離子，然而已有很多研究證明填充離子交換纖維比離子交換樹脂有許多明顯的優點，如：
(1)隔膜的間距可以減少，通常ED的隔膜間距為0.8-1.0mm，而電去離子為3mm左右，如果填充離子交換纖維則可以使隔膜介於二者之間，這樣有利於縮短離 反滲透加電去離子裝置純水處理系統
子通道，提高極限電流密度。
(2)離子交換纖維比表面積大、交換速度快，因此更符合電去離子的要求。本項目的創新點表現在採用一種自主開發的離子交換纖維新材料，開發可以滿足更高市場需求的純水高端產品，填補國內高端產品的空白。
EDI去離子的工業應用和市場需求
最近幾年EDI去離子在各個工業領域都越來越受重視，許多工業系統開始採用電去離子作為其水處理系統的更新換代技術，如電力工業、制葯工業、微電子工業、電鍍與金屬表面處理等。
(1)電力工業
據推算電力行業水處理單元的操作費用約占電力成本的10%，而用電去離子替代離子交換樹脂可以使每處理1000加侖水的成本由11美元降至1.75美元。
(2)制葯工業
雖然葯用水的特點是並不要求很高的去離子程度，但電去離子系統具有同時去鹽和控制微生物指標的特點，因此已有多家企業採用RO/EDI集成系統。據稱該類系統性能穩定，全流程計算機連續監控，全自動操作無人值守。
〔3〕電子工業
電子工業對水質的要求極高，水電阻率要穩定的大於18MΩ,而EDI出水一般在15-17 MΩ左右，因此在電子級水的生產過程多採用EDI+拋光樹脂系統，即在EDI之後加離子交換，此工程雖然仍需離子交換，但由於EDI已除去了大部分離子，拋光樹脂幾乎不用再生，因此水處理費用仍然很低。
(4)電鍍與金屬表面處理
電去離子可用於電鍍廢水處理可以使水重復使用並回收重金屬離子。美國已有該類型系統的實驗裝置。
(5)其他領域
EDI去離子水設備在食品工業、化學工業等都有很廣泛的應用：多室流化床、設備的橫截面一般為矩形，用垂直擋板將設備沿長度方向分成多室(一般4～8室)。擋板下沿與分布板面之間留有幾十毫米的間隙，作為室間粉粒通道。最後一室有控制床面的堰板。流體平行進入各室，顆粒則依次通過各室，因此多室流化床不僅能抑制顆粒在整個床層內的返混，而且還能調節通入各室流體的流速和溫度。多室流化床比多層流化床設備容易控制，總壓降也小;但傳熱、傳質推動力較多層床小，用於乾燥時空氣熱量利用效率較差。 兩器流化床 有兩個流化床，在左側流化。
I. 化學類，關於去離子水的問題
去離子水是指除去了呈離子形式雜質後的純水。國際標准化組織ISO/TC 147規定的「去離子」定義為：「去離子水完全或不完全地去除離子物質，主要指採用離子交換樹脂處理方法。」現在的工藝主要採用RO反滲透的方法製取。應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放後也容易引起細菌的繁殖。
相對而言，蒸餾水只是先氣化再冷凝，其純度如電導率一般不如純度高的去離子水，半導體工業中用的大多數是高純度的去離子水