A. 什麼是去離子水設備，去離子水採用的工藝有離子交換
去離子水設備，是離子交換系統。離子交換系統是通過陰、陽離子交換樹脂對水中的各種陰、陽離子進行置換的一種傳統水處理工藝，陰、陽離子交換樹脂按不同比例進行搭配可組成離子交換陽床系統，離子交換陰床系統及離子交換混床系統，而混床系統又通常是用在反滲透等水處理工藝之後用來製取超純水，高純水的終端工藝，它是用來制備超純水、高純水不可替代的手段之一。
去離子水設備主要用途
1、化妝品行業：護膚品、洗發水、染發劑、牙膏、洗手液生產用水
2、電子工業：鋁箔清洗、電子管噴塗配液、顯相管玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗、液晶屏屏面清洗和配液、晶體管和集成電路的矽片清洗用水、配製水
3、電池行業：蓄電池、鋰電池、太陽能電池生產用水
4、混凝土外加劑配製用水
5、玻璃鍍膜、玻璃製品清洗及燈具清洗用水
6、紡織印染工業：印染助劑配製、濕巾及面膜生產用水
7、超聲波清洗用水
8、塗裝行業：塗料配製、電鍍配製清洗、電泳漆配製清洗用水
B. 「去離子水」的作用及用途
」去離子水「的作用是去除了水中的離子狀雜質，讓水更純凈。用途很廣，各行各業都有用到去離子水。
C. 什麼設備要用去離子水
根據我們特域冷水機所接觸的大部分客戶的經驗：
1.如果發熱元器件對冷卻水流的電阻有要求的話，一般都需要我們特域冷水機裡面配置去離子水。2.例如一些半導體，燈泵，當冷卻水是直接在上面流過的話就要去離子水了。
3.也有一些是水管道裡面有銅等游離金屬也是要求去離子水，以免加速銅等金屬的腐蝕。
D. 什麼是去離子水
採用離子交換來製取，其原理是原水中含有的鹽類如Ca(HCO3)2、Mgso4等鹽類,在流經交換樹脂時,陽離子Co2+、Mg2+等被陽樹脂的活性基團置換,陰離子HCo3-、So42-等被陰樹脂的活性基團置換,從而水就得到純化.如原水中的重碳酸鹽含量較高,應在陰陽離子交換柱中間設脫氣塔,除去CO2氣體,減輕陰床的負荷.一般復床(陽離子交換柱、陰離子交換柱)出水其電導率可達10s/cm以下,若水源水質較好其產水電導率可達5s/cm以下,混合離子交換柱一般作為後處理放置於復床後或反滲透系統後可使產水電導率達到18m.Ωcm的高純水.
作用:廣泛用於輕工、紡織、醫葯、生物、電子能，還可以用於食品葯物的脫色提純、貴重金屬、化工原料的回收、電鍍廢水的處理。
去離子水設備適用范圍超純水經常用於微電子工業、半導體工業、發電工業、制葯行業和實驗室。CEDI純水也可以作為制葯蒸餾水、食物和飲料生產用水、化工廠工藝用水，以及其它超純水應用領域。
1、製取電子工業生產如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬碟、集成電路晶元、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水;
………………
詳細資料請參考：on
E. 半導體工業中為什麼要用去離子水
因為許多雜質（重金屬、鈉、鉀等）對於半導體特性的影響很大，在半導體表面清洗時，需要去掉這些有害雜質，以免在高溫處理時讓這些雜質進入到半導體中，故在清洗時必須採用純凈的去離子水。
F. 半導體設備
我前段時間也學習了解了一下晶圓的製作過程，有些資料，你看看吧~@~
由半導體國際收集
晶圓清洗設備
Akrion
Applied Materials
Crest Ultrasonics
Dainippon Screen （DNS）
EV Group
FSI International
Lotus Systems
Megasonic Sweeping
SEZ (Lam Research)
Semitool
SES
Solid State Equipment
Tokyo Electron （TEL）
七星華創（SevenStar）
中聯科利(United Cleaning Technology)
沈陽芯源
熱處理設備
Applied Materials
ASM
ATV Technologie
Aviza Technology
Axcelis Technologies, Inc.
Axic
CVD Equipement
Kokusai Semiconctor Equipment
Mattson
Thermcraft
Tokyo Electron （TEL）
七星華創（SevenStar）
離子注入設備
Applied Materials
Axcelis Technologies, Inc.
Nissin Electric
Varian Semiconctor
北京中科信電子裝備有限公司
CVD/PECVD/ALD設備
Applied Materials
Axic
AIXTRON
ASM
ATV Technologie
Aviza Technology
CVD Equipement
Hitachi Kokusai
Novellus
Oerlikon
Oxford Instruments
Tokyo Electron （TEL）
Veeco Instruments
海微芯儀半導體設備
中微半導體AMEC
七星華創（SevenStar）
沈陽科儀
PVD設備
Applied Materials
Aviza Technology
KDF
Novellus
Oerlikon(Unaxis Wafer Processing)
Oxford Instruments
Varian Semiconctor
Veeco Instruments
光刻設備
ASML
Canon
EV Group
Molecular Imprints
Nikon Precision
Suss MicroTec
Ultratech
Vistec Lithography
塗布/顯影設備
Dainippon Screen （DNS）
EV Group
Sokudo Co. Ltd.
Solitec Wafer Processing
Suss MicroTec
Tokyo Electron （TEL）
沈陽芯源
刻蝕/去膠/灰化設備
Applied Materials
Aviza Technology
Axic
Hitachi High Technologies
Lam Research
Mattson Technology,Inc
Oerlikon
Oxford Instruments
Tokyo Electron （TEL）
Veeco Instruments
北方微電子
七星華創（SevenStar）
中微半導體AMEC
CMP設備
Applied Materials
Ebara Corporation
Entrepix,Inc
Kinetic Systems
Levitronix LLC
Novellus
盛美半導體
電鍍系統設備
Applied Materials
ECI Technology
Novellus
Semitool
Surfect
盛美半導體
半導體工藝用石墨元件/材料
POCO Graphite
Carbone Lorraine(Le Carbone Advanced Graphites )
東洋炭素株式會社TOYO TANSO
西格里碳素集團SGL Group
G. 半導體公司有哪些設備
這個問題太大了，半導體製造有三四百道工序。就從bare wafer入手，顆粒檢測設備，之後有些需要返廠清洗、甩干。然後是等離子注入、擴散、光刻、刻蝕，裡面來來回回濕法工藝就佔了一半。
H. 去離子水
杭州永潔達凈化科技有限公司，是專業生產各類純水與超純水，也就是去離子水。
去離子水（deionized water）是指除去了呈離子形式雜質後的純水。國際標准化組織ISO/TC 147規定的「去離子」定義為：「去離子水完全或不完全地去除離子物質，主要指採用離子交換樹脂處理方法。」現在的工藝主要採用RO反滲透的方法製取。應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放後也容易引起細菌的繁殖。 在半導體行業中，去離子水被稱為「超純水」或是「18兆歐水」。
一.去離子水的處理 一體化去離子水設備
從自來水到去離子水一般要經過幾步處理 ：
1、先通過石英砂過濾顆粒較粗的雜質
2、然後高壓通過反滲透膜
3、最後一般還要經過一步紫外殺菌以去除水中的微生物
4、假如此時電阻率還沒有達到要求的話，可以再進行一次離子交換過程最高電阻率可達到18兆。
相對而言，蒸餾水只是先氣化再冷凝，其純度如電導率一般不如純度高的去離子水，半導體工業中用的大多數是高純度的去離子水
二.去離子水與其他水的區別
1. 蒸餾水：就是將水蒸餾、冷凝的水，蒸二次的叫重蒸水，三次的叫三蒸水。有時候為了特殊目的，在蒸前會加入適當試劑，如為了無氨水，會在水中加酸；低耗氧量的水，加入高錳酸鉀與酸等。工業蒸餾水是採用蒸餾水方法取得的純水，一般普通蒸餾取得的水純度不高，經過多級蒸餾水，出水才可達到很純，成本相對比較高。
2. 去離子水就是將水通過陽離子交換樹脂（常用的為苯乙烯型強酸性陽離子交換樹脂），則水中的陽離子被樹脂所吸收，樹脂上的陽離子H+被置換到水中，並和水中的陽離子組成相應的無機酸；含此種無機酸的水再通過陰離子交換樹脂（常用的為苯乙烯型強鹼性陰離子）OH-被置換到水中，並和水中的H+結合成水，此即去離子水。去離子水在現代工業中有著非常廣泛的用途，使用去離子水，是我國很多行業提高產品質量的，趕超世界先進水平的重要手段之一。 由於去離子水中的離子數可以被人為的控制，從而，使它的電阻率、溶解度、腐蝕性、病毒細菌等物理、化學及病理等指標均得到良好的控制。在工業生產及實驗室的實驗中，如果涉及到使用水的工藝都被使用了去離子水，那麼，許多參數會更接近設計或理想數據，產品質量將變得易於控制。
3. 高純水，是指化學純度極高的水，其主要應用在生物、化學化工、冶金、宇航、電力等領域，但其對水質純度要求相當高，所以一般應用最普遍的還是電子工業。例如電力系統所用的純水，要求各雜質含量低達到「微克/升」級。在純水的製作中，水質標准所規定的各項指標應該根據電子(微電子)元器件(或材料)的生產工藝而定(如普遍認為造成電路性能破壞的顆粒物質的尺寸為其線寬的1/5-1/10)，但由於微電子技術的復雜性和影響產品質量的因素繁多，至今尚無一份由工藝試驗得到的適用於某種電路生產的完整的水質標准。不過近年來電子級水標准也在不斷地修訂，而且高純水分析領域的許多突破和發展，新的儀器和新分析方法的不斷應用都為制水工藝的發展創造了條件。高純水的國家標准為：GB1146.1-89至GB1146.11-89[168]，目前我國高純水的標准將電子級水分為五個級別：Ⅰ級、Ⅱ級、Ⅲ級、Ⅳ級和Ⅴ級，該標準是參照ASTM電子級標准而制定的。
4.、而超純水呢,則可以認為是一般工藝很難達到的程度，如水的電阻率大於18MΩ*cm（沒有明顯界線），則稱為超純水。關鍵是看你用水的純度及各項征性指標，如電導率或電阻率，PH值，鈉，重金屬，二氧化硅，溶解有機物，微粒子，以及微生物指標等。