溫州泰順縣半導體去離子水設備

A. 半導體設備

我前段時間也學習了解了一下晶圓的製作過程，有些資料，你看看吧~@~
由半導體國際收集
晶圓清洗設備
Akrion
Applied Materials
Crest Ultrasonics
Dainippon Screen （DNS）
EV Group
FSI International
Lotus Systems
Megasonic Sweeping
SEZ (Lam Research)
Semitool
SES
Solid State Equipment
Tokyo Electron （TEL）
七星華創（SevenStar）
中聯科利(United Cleaning Technology)
沈陽芯源

熱處理設備
Applied Materials
ASM
ATV Technologie
Aviza Technology
Axcelis Technologies, Inc.
Axic
CVD Equipement
Kokusai Semiconctor Equipment
Mattson
Thermcraft
Tokyo Electron （TEL）
七星華創（SevenStar）

離子注入設備
Applied Materials
Axcelis Technologies, Inc.
Nissin Electric
Varian Semiconctor
北京中科信電子裝備有限公司
CVD/PECVD/ALD設備
Applied Materials
Axic
AIXTRON
ASM
ATV Technologie
Aviza Technology
CVD Equipement
Hitachi Kokusai
Novellus
Oerlikon
Oxford Instruments
Tokyo Electron （TEL）
Veeco Instruments
海微芯儀半導體設備
中微半導體AMEC
七星華創（SevenStar）
沈陽科儀

PVD設備
Applied Materials
Aviza Technology
KDF
Novellus
Oerlikon(Unaxis Wafer Processing)
Oxford Instruments
Varian Semiconctor
Veeco Instruments

光刻設備
ASML
Canon
EV Group
Molecular Imprints
Nikon Precision
Suss MicroTec
Ultratech
Vistec Lithography

塗布/顯影設備
Dainippon Screen （DNS）
EV Group
Sokudo Co. Ltd.
Solitec Wafer Processing
Suss MicroTec
Tokyo Electron （TEL）
沈陽芯源

刻蝕/去膠/灰化設備
Applied Materials
Aviza Technology
Axic
Hitachi High Technologies
Lam Research
Mattson Technology,Inc
Oerlikon
Oxford Instruments
Tokyo Electron （TEL）
Veeco Instruments
北方微電子
七星華創（SevenStar）
中微半導體AMEC

CMP設備
Applied Materials
Ebara Corporation
Entrepix,Inc
Kinetic Systems
Levitronix LLC
Novellus
盛美半導體

電鍍系統設備
Applied Materials
ECI Technology
Novellus
Semitool
Surfect
盛美半導體

半導體工藝用石墨元件/材料
POCO Graphite
Carbone Lorraine(Le Carbone Advanced Graphites )
東洋炭素株式會社TOYO TANSO
西格里碳素集團SGL Group

B. 半導體封裝有哪些設備

半導體封裝是指將通過測試的晶圓按照產品型號及功能需求加工得到獨立晶元的過程。封裝過程為：來自晶圓前道工藝的晶圓通過劃片工藝後被切割為小的晶片（Die），然後將切割好的晶片用膠水貼裝到相應的基板（引線框架）架的小島上，再利用超細的金屬（金錫銅鋁）導線或者導電性樹脂將晶片的接合焊盤（Bond Pad）連接到基板的相應引腳（Lead）,並構成所要求的電路；然後再對獨立的晶片用塑料外殼加以封裝保護，塑封之後還要進行一系列操作，封裝完成後進行成品測試，通常經過入檢Incoming、測試Test和包裝Packing等工序，最後入庫出貨。
半導體封裝一般用到點膠機+膠水環氧樹脂，焊機+焊膏。典型的封裝工藝流程為：劃片、裝片、鍵合、塑封、去飛邊、電鍍、列印 、切筋和成型 、外觀檢查、 成品測試 、包裝出貨。

C. 水處理設備有什麼都有哪些設備

常用的水處理設備主要有：

過濾器設備

1、過濾器設備：

石英砂過濾器，錳砂過濾器，機械過濾器，碳鋼過濾器等高效過濾器；活性炭過濾器；精密過濾器，袋式過濾器等高精度過濾器；軟化水過濾器；

2、離子交換樹脂設備：用來儲存離子交換樹脂，起到去除水中的重金屬，除鹽，軟化水等作用；

3、超濾設備：脫鹽等作用，保障反滲透等後續設備進水水質；

4、反滲透設備：過濾水中的離子、有機物、細菌、病毒等，脫鹽脫硼等作用；

5、EDI電除鹽設備：自動化電除鹽設備，常用於電子半導體行業，生產超純水等。

D. 去離子水設備拋光樹脂怎麼更換

凈得瑞為您解答：
1.拋光樹脂( MB-400)是由高度純化、轉型的H型陽樹脂和OH型陰樹脂混合而成，如果裝填和操作得當，在最初的周期中即可制備出電阻率大於18.0MΩ.cm和TOC小於10ppb的超純水，無需化學再生。
2.樹脂開封後長時間暴露在空氣中會吸收二氧化碳，從而影響產品的性能及使用。因此一旦拆包需盡快使用。不使用部分須小心密封，存放於避光陰涼處，環境溫度以5-40℃為宜。
3.在運輸、儲存和裝填過程中，任何無機或有機物質的接觸都會使樹脂受到污染，從而降低出水水質;影響運行工況。因此必須保證所有用於裝填、操作的設備和水不會污染樹脂。所有與樹脂接觸的水都必須使用高純水(本文中所涉及到的水均指「高純水」，即電阻率大於等於10MΩ.cm，同時TOC盡可能低於30ppb的水)，所有接觸樹脂的設備或器具都要在使用前經過高純水清洗。

E. 什麼叫去離子水怎麼制備

去離子水（deionized water）是指除去了呈離子形式雜質後的純水。國際標准化組織ISO/TC 147規定的「去離子」定義為：「去離子水完全或不完全地去除離子物質，主要指採用離子交換樹脂處理方法。」現在的工藝主要採用RO反滲透的方法製取。應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放後也容易引起細菌的繁殖。
去離子水的處理步驟從自來水到去離子水一般要經過幾步處理 ：
1、先通過石英砂過濾顆粒較粗的雜質
2、然後高壓通過反滲透膜
3、最後一般還要經過一步紫外殺菌以去除水中的微生物
4、假如此時電阻率還沒有達到要求的話，可以再進行一次離子交換過程最高電阻率可達到18兆。
相對而言，蒸餾水只是先氣化再冷凝，其純度如電導率一般不如純度高的去離子水，半導體工業中用的大多數是高純度的去離子水

F. 什麼是去離子水

採用離子交換來製取，其原理是原水中含有的鹽類如Ca(HCO3)2、Mgso4等鹽類,在流經交換樹脂時,陽離子Co2+、Mg2+等被陽樹脂的活性基團置換,陰離子HCo3-、So42-等被陰樹脂的活性基團置換,從而水就得到純化.如原水中的重碳酸鹽含量較高,應在陰陽離子交換柱中間設脫氣塔,除去CO2氣體,減輕陰床的負荷.一般復床(陽離子交換柱、陰離子交換柱)出水其電導率可達10s/cm以下,若水源水質較好其產水電導率可達5s/cm以下,混合離子交換柱一般作為後處理放置於復床後或反滲透系統後可使產水電導率達到18m.Ωcm的高純水.
作用:廣泛用於輕工、紡織、醫葯、生物、電子能，還可以用於食品葯物的脫色提純、貴重金屬、化工原料的回收、電鍍廢水的處理。
去離子水設備適用范圍超純水經常用於微電子工業、半導體工業、發電工業、制葯行業和實驗室。CEDI純水也可以作為制葯蒸餾水、食物和飲料生產用水、化工廠工藝用水，以及其它超純水應用領域。
1、製取電子工業生產如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬碟、集成電路晶元、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水;
………………
詳細資料請參考：on

G. 啥叫去離子水

去離子水

去離子水是指除去了呈離子形式雜質後的純水。國際標准化組織ISO/TC 147規定的「去離子」定義為：「去離子水完全或不完全地去除離子物質。」現在的工藝主要採用RO反滲透的方法製取。應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放後也容易引起細菌的繁殖。

去離子水製取工藝及其特點

1、離子交換樹脂製取去離子水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：

原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→陽床→陰床→混床→後置保安過濾器→用水點。

（特點：污染比較大，自動化程度低，初期投入低）

2、反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合製取去離子水的方式，其基本工藝流程為：

原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→反滲透設備→混床→超純水箱→超純水泵→後置保安過濾器→用水點。

（特點：污染小，自動化程度高，初期投入中等，價格適中）

3、反滲透設備與電去離子（EDI）設備進行搭配製取去離子水的的方式，這是一種製取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：

原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→反滲透設備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→後置保安過濾器→用水點。

（特點：環保，自動化程度高，初期投入大，價格相對比較貴。）

H. 什麼是去離子水設備，去離子水採用的工藝有離子交換

去離子水設備，是離子交換系統。離子交換系統是通過陰、陽離子交換樹脂對水中的各種陰、陽離子進行置換的一種傳統水處理工藝，陰、陽離子交換樹脂按不同比例進行搭配可組成離子交換陽床系統，離子交換陰床系統及離子交換混床系統，而混床系統又通常是用在反滲透等水處理工藝之後用來製取超純水，高純水的終端工藝，它是用來制備超純水、高純水不可替代的手段之一。
去離子水設備主要用途
1、化妝品行業：護膚品、洗發水、染發劑、牙膏、洗手液生產用水
2、電子工業：鋁箔清洗、電子管噴塗配液、顯相管玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗、液晶屏屏面清洗和配液、晶體管和集成電路的矽片清洗用水、配製水
3、電池行業：蓄電池、鋰電池、太陽能電池生產用水
4、混凝土外加劑配製用水
5、玻璃鍍膜、玻璃製品清洗及燈具清洗用水
6、紡織印染工業：印染助劑配製、濕巾及面膜生產用水
7、超聲波清洗用水
8、塗裝行業：塗料配製、電鍍配製清洗、電泳漆配製清洗用水

I. 去離子水是什麼可以用來做什麼

去離子水是指除去了呈離子形式雜質後的純水。國際標准化組織ISO/TC
147規定的「去離子」定義為：「去離子水完全或不完全地去除離子物質。」現在的工藝主要採用RO反滲透的方法製取。應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放後也容易引起細菌的繁殖。
去離子水是目前工業超純水的設備上應用最多的工藝之一.
去離子水設備的主要用途:
塗裝行業:塗料配製.仟凈的去離子水流程都是引進的,所以應用范圍非常廣。如：
1、實驗室、化驗室用水,一般實驗室的常規試驗、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等;
2、電子工業生產,如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬碟、集成電路晶元、單晶硅半導體等;
3、電力鍋爐，鍋爐所需軟化水、除鹽;
4、汽車、家用電器、建材表面塗裝、電鍍、鍍膜玻璃清洗等;
5、石油化工行業,化工反應冷卻水、化學葯劑、生產配液用水等;
6、工業紡織印染、鋼鐵清洗用水等;
7、食品、飲料、酒類、化妝品生產用水;
8、海水、苦鹹水等凈化。
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