① 半導體晶元製造廢水處理方法
晶元製造生產工藝復雜,包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉,生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技(廣東)有限公司網頁鏈接
② 新一代信息技術股有哪些
通信網路、物聯網、三網融合、新型平板顯示、高性能集成電路和高端軟體.
③ 我們是一家半導體生產型企業,會產生大量的研磨切割和酸鹼廢水,有工業廢水處理公司嗎
蘇州園區有一家荷蘭的環保公司
④ 污水處理實驗室用uv-c紫外燈
一般我們平時所說的紫外線是指波長在200nm-380nm的太陽光線,其中又分為,UV-A波長為315nm-380nm,UV-B波長為280nm-315nm,UV-C波長為200nm-280nm。經研究發現,而此三種不同波長的紫外線中,只有UV-A以及UV-B會對人體皮膚有損傷,故一般使用UV-C進行殺菌消毒。且在波長為254nm時殺菌效果最好。
一般紫外燈瓦數可以根據需要進行不同的選擇,低至3W,高至100W的UV-C紫外燈都有,選擇UV-C型號的紫外燈即可。以上資料由環保通提供,僅供參考
⑤ 酸霧洗滌塔的工作原理是什麼
酸霧洗滌塔利用氣體與液體間的接觸,而將氣體中的污染物傳送到液體中,然後再將清潔氣體與被污染的液體分離,達到清凈空氣的目的。廢氣經由填充式酸霧洗滌塔
,採用氣液逆向吸收方式處理,即液體自塔頂向下以霧狀(或小液滴)噴撒而下。廢氣則由塔體(逆向流)達到氣液接觸之目的。此處理方可冷卻廢氣、調理氣體及去除顆粒,再經過除霧段處理後,排入大氣中。一、結構標准裝置: 選用裝置:
1、洗滌塔噴霧系統 1、PH控制裝置
2、填充層填充料 2、ORP控制裝置
3、水份去除器 3、葯品儲存槽
4、檢視窗、維修入孔 4、葯品液位控制裝置
5、溢流、排放及自動補充水口 5、循環水槽水位控制裝置
6、循環水泵浦
7、循環水濾網
8、壓力計
二、工作原理
酸霧洗滌塔系統之風機組將收集到的廢氣吸入酸霧洗滌塔內,流經填充層段(氣/液接觸反應之介質),讓廢氣與填充物表面流動的葯液(洗滌液)充分接觸,以吸附廢氣中所含的酸性或鹼性污物。洗滌後,廢液收集至集水槽中,再排放至廢水系統處理。
三、性能特點
1)水洗式廢氣處理系統,價格便宜、處理方法簡單;
2)直立式結構最適用於經濟空間安裝;
3)適用於氣態及液態污染源;
4)處理單一污染源;
5)適用於中低風量;
四、適用范圍
1)各種有害氣體如H2S、SOX、NOX、HCI、NH3、CI2等氣體之處理;
2)垃圾中轉站或場、污水處理場之除臭裝置;
3)半導體光電業之
製程排氣處理;
4)垃圾填埋場之滲出水貯留池廢氣處理;
5)焚化爐及工業爐等排放之廢氣處理。
⑥ 廢氣洗滌塔是什麼
廢氣洗滌塔是一種新型的氣體凈化處理設備。它是在可浮動填料層氣體凈化器的基礎上改進而產生的,廣泛應用於工業廢氣凈化、除塵等方面的前處理,凈化效果很好。
具體由貯液箱、塔體、進風段、噴淋層等組成。主要運作方式是不斷將異味氣體由風管引入凈化塔,經過填料層,廢氣與洗滌液進行氣液兩相充分接觸發生化學反應,廢氣經過凈化後,再脫水除霧排入大氣。洗滌液在塔底經水泵增壓後在塔頂噴淋而下,最後迴流至塔底循環使用。