德宏半導體污水處理

Ⅰ 如何處理半導體(LED)廢水

隨著單個LED光通亮和發光效率的提高，即將進入普通室內照明、台燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場廣闊。 LED生產過程中絕大部分廢水產生在原材料和晶元製造過程中，分為拉晶、切磨拋和晶元製造，主要含一般酸鹼廢水、含氟廢水、有機廢水、氨氮廢水等幾種水質，在黃綠光晶片製造過程中還會有含砷廢水排出。 2、LED晶元加工廢水特點：主要污染物為LED晶元生產過程中排放的大量有機廢水和酸鹼廢水，另有少量含氟廢水。有機廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸鹼廢水中主要污染物為無機酸、鹼等。 3、LED切磨拋廢水特點：主要污染物為大量清洗廢水，主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。 4、酸鹼廢水排放：主要包括工藝酸鹼廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸鹼再生廢水，採用化學中和法處理。 含砷廢水：主要來自背面減薄及劃片/分割工序，採用化學沉澱法處理。 一般廢水：排放方式均為連續排放，主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無機鹽類，採用生化法去除。 含氟廢水：主要清洗廢水中含有HF，使用混凝沉澱去除。 高氨氮廢水：使用折點加氯法，將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過量氯或次氯酸鈉，使廢水中氨完全氧化為N2的方法，稱為折點氯化法，其反應可表示為： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生產加工之藍寶石拉晶廢水 污水水質、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小時連續)廢水水質：PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後進入有機廢水調節池。人工收集到含氟廢水收集池，加葯劑進行沉澱。上清液達標排放，污泥排入污泥濃縮池處理。 利用有機廢水調節池的池容增加生化處理功能，向池內投加厭氧性水解菌，池內配置穿孔水力攪拌系統以加強傳質，為後繼處理單元提供部分水解處理服務。 廢水經過調節後經泵提升進入進入厭氧水解池。 厭氧水解池採用上向流布水形式，利用循環管網系統加強池底部的混流強度，提高反應器內的傳質效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機物轉化為易降解的小分子有機物，將復雜的有機物轉變成簡單的有機物，提高廢水的可生化性，有利於後續的好氧生化處理。出水自流進入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進入二沉池進行泥水沉澱分離。為保證COD排放達標的處理要求，將二沉池出水導入BAF進行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池，為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水，其餘的清水達標排放。 5.2、LED生產加工之切磨拋廢水 污水水質、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小時連續)廢水水質：1PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝根據業主廢水的水質情況，在吸取以往同類廢水處理裝置設計的成功經驗和一些同類廢水處理裝置的實際運行經驗，設計污水處理主體工藝路線如下： 格柵池+清洗廢水調節池+反應池+物化沉澱池達標排放 污泥處理主體工藝採用工藝路線為： 污泥濃縮+污泥調理+板框壓濾泥餅外運 5.3、LED生產加工之晶元廢水 污水水質、水量： 有機廢水水量：19.4t/h(24小時連續)水質：PH值6.0-8.0無量綱 酸鹼廢水水量：70t/h(24小時連續)水質：PH值4.0-11.0無量綱 含氟廢水水量：4t/h(24小時連續)水質：PH值2.0-4.0無量綱 氟化物≤200mg/L處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後達標排放。含氟廢水收集調節後與投加的葯劑反應生成不溶性氟化物沉澱，上清液達標排放。

Ⅱ 有一個電子半導體封裝水處理項目，有人推薦純水一號，有人了解純水一號

深圳市純水一號水處理科技有限公司

是一家專業從事純水、超純水、中水回用、污水處理、廢氣處理及海水淡化的系統設計、製造安裝、營銷、運行、服務於一體的水處理設備高新技術企業。

純水一號水處理設備技術實力雄厚，堅持科技創新，以可續規范的管理，卓越的產品質量，完善的售後服務，已成為水處理設備行業的領跑者。

企業機構：深圳純水一號水處理科技有限公司
法人代表： 孫鵬
注冊資本： 無需驗資
經營模式： 生產加工
主要市場： 大陸; 港澳台地區;
客戶類型： 光電，太陽能，。。。。。。
所屬行業： 反滲透設備; 離子交換設備; 生活飲用水處理設備; 高純水製取設備; 軟化水設備;
產品信息： 過濾系統; 水處理工程及空氣凈化工程; 軟水系統; EDI電去離子交換系統設備;

企業介紹：
純水一號水處理設備自成立以來始終致力於推動環保事業的發展，不斷拓展凈水技術，持續改良生產工藝，產品廣泛應用於太陽能光伏、光學光電、LED、LCD、電子半導體、線路板、電池電鍍、電力、表面塗裝、石油化工、醫療制葯、食品飲料以及生活飲用水等各個領域。
純水一號水處理設備堅持以技術和質量為立足之本，以節能環保為目標，不斷尋求水處理技術的革新，實現水資源的循環利用。
純水一號水處理設備的產品包括：純水設備、超純水設備、脫鹽水設備、化學水處理、EDI設備、反滲透設備、污水處理設備、RO反滲透設備等水處理設備。
水資源凈化和可持續再利用——純水一號能為您做到。
區位信息：廣東 - 深圳

Ⅲ 我們是一家半導體生產型企業，會產生大量的研磨切割和酸鹼廢水，有工業廢水處理公司嗎

蘇州園區有一家荷蘭的環保公司

Ⅳ 雲南畹町在建污水處理廠發生爆炸情況如何

媒體報道，12月22日雲南省德宏傣族景頗族自治州瑞麗市畹町經濟開發區在建的污水處理廠突發爆燃事故，4名工人不幸遇難。23日，瑞麗市人民政府發布該事故情況通報。

經過救援，當日17點30分，4名被困工人被救出，經現場醫療人員確認，4人已無生命體征。

雲南省州黨委、政府高度重視此事。雲南省副省長董華作出批示：德宏州、瑞麗市要全力做好遇難者善後、家屬安撫、事故原因調查等各項工作。

Ⅳ 半導體晶元製造廢水處理方法

晶元製造生產工藝復雜，包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉，生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。

所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技（廣東）有限公司網頁鏈接

Ⅵ 半導體污染

半導體產品一般需要在表面鍍金屬氧化物的薄膜
比如我以前所在的太陽能電池廠就是在二氧化硅板上鍍一層氧化鋅
鋅還好點，要是用汞、鎘之類的重金屬
污染嚴不嚴重就不用說了