海西天峻縣半導體污水處理

㈠ 重慶有哪些正規的水處理設備公司

首選重慶吉創水處理設備公司，重慶吉創水處理設備公司成立於2003年，屬重慶成立時間最久的一家水處理公司。該公司在工業水處理方面的技術實力強，技術實力和售後服務方面，在行業內具有極佳的口碑。今年，重慶吉創水處理設備有限公司最新研製開發出一款MBR平板膜產品，並已申請相關專利。該產品主要用於一體化凈水設備、一體化中水處理設備、工業廢水處理回用方面。對於:村鎮自來水廠、工礦企業自備水廠、內河船用飲用水系統、RO/NF原水的預處理、游泳池水質凈化、大棚植物栽培水質凈化、超細粉體的回收、廢酸廢鹼過濾回用、工業廢水的固液分離和回用、城鎮生活污水處理回用、紡織印染廢水處理回用、紙槳及造紙廢水處理回用、半導體、精加工研磨廢水處理回用、電鍍漂洗廢水處理回用、治煉工藝廢水處理回用等方面。

㈡ 有些企業生產需要用到高純度的水，常州的電力，電子，半導體，食品等行業哪些用到水處理設備的，請列舉！

污水處理廠啊，自來水廠，一些化工廠

㈢ 國內知名的水處理廠家有哪些

水處理行業最先進的碟管式反滲透DTRO膜技術、國際領先的油水分離技術和酸鹼分離技術，山東煙台的企業

㈣ 水處理設備有什麼都有哪些設備

常用的水處理設備主要有：

過濾器設備

1、過濾器設備：

石英砂過濾器，錳砂過濾器，機械過濾器，碳鋼過濾器等高效過濾器；活性炭過濾器；精密過濾器，袋式過濾器等高精度過濾器；軟化水過濾器；

2、離子交換樹脂設備：用來儲存離子交換樹脂，起到去除水中的重金屬，除鹽，軟化水等作用；

3、超濾設備：脫鹽等作用，保障反滲透等後續設備進水水質；

4、反滲透設備：過濾水中的離子、有機物、細菌、病毒等，脫鹽脫硼等作用；

5、EDI電除鹽設備：自動化電除鹽設備，常用於電子半導體行業，生產超純水等。

㈤ 如何處理半導體(LED)廢水

隨著單個LED光通亮和發光效率的提高，即將進入普通室內照明、台燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場廣闊。 LED生產過程中絕大部分廢水產生在原材料和晶元製造過程中，分為拉晶、切磨拋和晶元製造，主要含一般酸鹼廢水、含氟廢水、有機廢水、氨氮廢水等幾種水質，在黃綠光晶片製造過程中還會有含砷廢水排出。 2、LED晶元加工廢水特點：主要污染物為LED晶元生產過程中排放的大量有機廢水和酸鹼廢水，另有少量含氟廢水。有機廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸鹼廢水中主要污染物為無機酸、鹼等。 3、LED切磨拋廢水特點：主要污染物為大量清洗廢水，主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。 4、酸鹼廢水排放：主要包括工藝酸鹼廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸鹼再生廢水，採用化學中和法處理。 含砷廢水：主要來自背面減薄及劃片/分割工序，採用化學沉澱法處理。 一般廢水：排放方式均為連續排放，主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無機鹽類，採用生化法去除。 含氟廢水：主要清洗廢水中含有HF，使用混凝沉澱去除。 高氨氮廢水：使用折點加氯法，將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過量氯或次氯酸鈉，使廢水中氨完全氧化為N2的方法，稱為折點氯化法，其反應可表示為： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生產加工之藍寶石拉晶廢水 污水水質、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小時連續)廢水水質：PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後進入有機廢水調節池。人工收集到含氟廢水收集池，加葯劑進行沉澱。上清液達標排放，污泥排入污泥濃縮池處理。 利用有機廢水調節池的池容增加生化處理功能，向池內投加厭氧性水解菌，池內配置穿孔水力攪拌系統以加強傳質，為後繼處理單元提供部分水解處理服務。 廢水經過調節後經泵提升進入進入厭氧水解池。 厭氧水解池採用上向流布水形式，利用循環管網系統加強池底部的混流強度，提高反應器內的傳質效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機物轉化為易降解的小分子有機物，將復雜的有機物轉變成簡單的有機物，提高廢水的可生化性，有利於後續的好氧生化處理。出水自流進入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進入二沉池進行泥水沉澱分離。為保證COD排放達標的處理要求，將二沉池出水導入BAF進行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池，為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水，其餘的清水達標排放。 5.2、LED生產加工之切磨拋廢水 污水水質、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小時連續)廢水水質：1PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝根據業主廢水的水質情況，在吸取以往同類廢水處理裝置設計的成功經驗和一些同類廢水處理裝置的實際運行經驗，設計污水處理主體工藝路線如下： 格柵池+清洗廢水調節池+反應池+物化沉澱池達標排放 污泥處理主體工藝採用工藝路線為： 污泥濃縮+污泥調理+板框壓濾泥餅外運 5.3、LED生產加工之晶元廢水 污水水質、水量： 有機廢水水量：19.4t/h(24小時連續)水質：PH值6.0-8.0無量綱 酸鹼廢水水量：70t/h(24小時連續)水質：PH值4.0-11.0無量綱 含氟廢水水量：4t/h(24小時連續)水質：PH值2.0-4.0無量綱 氟化物≤200mg/L處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後達標排放。含氟廢水收集調節後與投加的葯劑反應生成不溶性氟化物沉澱，上清液達標排放。

㈥ 我們是一家半導體生產型企業，會產生大量的研磨切割和酸鹼廢水，有工業廢水處理公司嗎

蘇州園區有一家荷蘭的環保公司

㈦ 半導體晶元製造廢水處理方法

晶元製造生產工藝復雜，包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉，生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。

所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技（廣東）有限公司網頁鏈接

㈧ 水處理設備主要用在什麼行業

1、水處理設備，就應用的角度來說，可以分為凈化水質功能的生活飲用水水處理設備、工業生產的中水水處理設備、污水處理（廠）的水處理設備、廢水回用的中水水處理設備；
2、水處理設備，按照應用行業而言，主要用於環保行業的污水處理、給水行業的生活飲用水、工業（例如，處理循環水）、農業（綜合利用水）、衛生（無菌水）、城建（降水的水處理）、食品（凈化水）、實驗室（分析用水）等。

㈨ 半導體污染

半導體產品一般需要在表面鍍金屬氧化物的薄膜
比如我以前所在的太陽能電池廠就是在二氧化硅板上鍍一層氧化鋅
鋅還好點，要是用汞、鎘之類的重金屬
污染嚴不嚴重就不用說了