普洱西盟佤族自治縣半導體污水處理

A. 有些企業生產需要用到高純度的水，常州的電力，電子，半導體，食品等行業哪些用到水處理設備的，請列舉！

污水處理廠啊，自來水廠，一些化工廠

B. 水處理設備有什麼都有哪些設備

常用的水處理設備主要有：

過濾器設備

1、過濾器設備：

石英砂過濾器，錳砂過濾器，機械過濾器，碳鋼過濾器等高效過濾器；活性炭過濾器；精密過濾器，袋式過濾器等高精度過濾器；軟化水過濾器；

2、離子交換樹脂設備：用來儲存離子交換樹脂，起到去除水中的重金屬，除鹽，軟化水等作用；

3、超濾設備：脫鹽等作用，保障反滲透等後續設備進水水質；

4、反滲透設備：過濾水中的離子、有機物、細菌、病毒等，脫鹽脫硼等作用；

5、EDI電除鹽設備：自動化電除鹽設備，常用於電子半導體行業，生產超純水等。

C. 我們是一家半導體生產型企業，會產生大量的研磨切割和酸鹼廢水，有工業廢水處理公司嗎

蘇州園區有一家荷蘭的環保公司

D. 如何處理半導體(LED)廢水

隨著單個LED光通亮和發光效率的提高，即將進入普通室內照明、台燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場廣闊。 LED生產過程中絕大部分廢水產生在原材料和晶元製造過程中，分為拉晶、切磨拋和晶元製造，主要含一般酸鹼廢水、含氟廢水、有機廢水、氨氮廢水等幾種水質，在黃綠光晶片製造過程中還會有含砷廢水排出。 2、LED晶元加工廢水特點：主要污染物為LED晶元生產過程中排放的大量有機廢水和酸鹼廢水，另有少量含氟廢水。有機廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸鹼廢水中主要污染物為無機酸、鹼等。 3、LED切磨拋廢水特點：主要污染物為大量清洗廢水，主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。 4、酸鹼廢水排放：主要包括工藝酸鹼廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸鹼再生廢水，採用化學中和法處理。 含砷廢水：主要來自背面減薄及劃片/分割工序，採用化學沉澱法處理。 一般廢水：排放方式均為連續排放，主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無機鹽類，採用生化法去除。 含氟廢水：主要清洗廢水中含有HF，使用混凝沉澱去除。 高氨氮廢水：使用折點加氯法，將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過量氯或次氯酸鈉，使廢水中氨完全氧化為N2的方法，稱為折點氯化法，其反應可表示為： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生產加工之藍寶石拉晶廢水 污水水質、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小時連續)廢水水質：PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後進入有機廢水調節池。人工收集到含氟廢水收集池，加葯劑進行沉澱。上清液達標排放，污泥排入污泥濃縮池處理。 利用有機廢水調節池的池容增加生化處理功能，向池內投加厭氧性水解菌，池內配置穿孔水力攪拌系統以加強傳質，為後繼處理單元提供部分水解處理服務。 廢水經過調節後經泵提升進入進入厭氧水解池。 厭氧水解池採用上向流布水形式，利用循環管網系統加強池底部的混流強度，提高反應器內的傳質效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機物轉化為易降解的小分子有機物，將復雜的有機物轉變成簡單的有機物，提高廢水的可生化性，有利於後續的好氧生化處理。出水自流進入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進入二沉池進行泥水沉澱分離。為保證COD排放達標的處理要求，將二沉池出水導入BAF進行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池，為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水，其餘的清水達標排放。 5.2、LED生產加工之切磨拋廢水 污水水質、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小時連續)廢水水質：1PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝根據業主廢水的水質情況，在吸取以往同類廢水處理裝置設計的成功經驗和一些同類廢水處理裝置的實際運行經驗，設計污水處理主體工藝路線如下： 格柵池+清洗廢水調節池+反應池+物化沉澱池達標排放 污泥處理主體工藝採用工藝路線為： 污泥濃縮+污泥調理+板框壓濾泥餅外運 5.3、LED生產加工之晶元廢水 污水水質、水量： 有機廢水水量：19.4t/h(24小時連續)水質：PH值6.0-8.0無量綱 酸鹼廢水水量：70t/h(24小時連續)水質：PH值4.0-11.0無量綱 含氟廢水水量：4t/h(24小時連續)水質：PH值2.0-4.0無量綱 氟化物≤200mg/L處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後達標排放。含氟廢水收集調節後與投加的葯劑反應生成不溶性氟化物沉澱，上清液達標排放。

E. 水處理設備的應用領域

熱力、火力發電廠礦企業、中、低壓鍋爐動力、給水系統。
主要用途：電廠、工廠高低壓鍋爐，空調、冷庫等循環用水。微電子產品生產用高純水，半導體、顯像管用高純水，電腦電路板等集成電路用水，太陽能電池、乾式電池用水。
化工行業用水，化工反應冷卻、化學葯劑、化肥及精細化工、化妝品製造過程用水系統。
主要用途：紡織印染、造紙用水，化工試劑生產用純水。護膚品生產用純水，洗發水生產用純水，染發劑生產用純水。化學實驗室、物理實驗室、生物實驗室。 汽車、家用電器、建材產品表面塗裝、清洗、鍍膜玻璃及蓄電池用水系統。
主要用途：電鍍、玻璃鍍膜用高純水。 飲用純凈水、天然水、飲料、低度酒勾兌用水、純生啤酒過濾等。
主要用途：純凈水、礦泉水生產，食品、飲料生產用純水，賓館、生活小區。
醫用制葯行業用水
醫用大輸液、注劑、葯劑、生化製品用水醫用無菌水、人工腎析用水及血液透析用水。
主要用途：制葯、針劑用水等，保健品、口服液生產，葯品原料、中間產品，生物制劑，酶的提取，蛋白質分離。 海水苦鹹水淡化、學校、社區、賓館、房產物業優質供水網路系統。
主要用途：日常生活用水處理工程，游泳池過濾消毒工程，養殖觀賞魚類用水、節水灌溉，沙漠苦鹹水淡化系統，海水淡化系統，電鍍廢水處理金屬回收，生活污水處理再利用，產品清洗水回收使用處理，工業廢水處理。
水處理設備之純凈水設備
飲用純凈水製取裝置由預處理部分、反滲透系統及精處理等幾部分組成，採用單元組合結構。目的是減少設備佔地面積，便於運輸及現場裝調試，具有佔地小、安裝快、外觀漂亮、操作、維修方便等優點，設備部分均選用Ocr18Ni9（304）不銹鋼製作，管道低壓部分採用A.B.S工程塑料，高壓部分採用優質不銹鋼製作，主要部件（膜、泵、儀表等）均由國外著名專業廠商提供，整機性能達到國外同期水平。

F. 半導體污染

半導體產品一般需要在表面鍍金屬氧化物的薄膜
比如我以前所在的太陽能電池廠就是在二氧化硅板上鍍一層氧化鋅
鋅還好點，要是用汞、鎘之類的重金屬
污染嚴不嚴重就不用說了

G. 國內知名的水處理廠家有哪些

水處理行業最先進的碟管式反滲透DTRO膜技術、國際領先的油水分離技術和酸鹼分離技術，山東煙台的企業

H. 半導體晶元製造廢水處理方法

晶元製造生產工藝復雜，包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉，生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。

所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技（廣東）有限公司網頁鏈接