❶ 半導體污染
半導體產品一般需要在表面鍍金屬氧化物的薄膜
比如我以前所在的太陽能電池廠就是在二氧化硅板上鍍一層氧化鋅
鋅還好點，要是用汞、鎘之類的重金屬
污染嚴不嚴重就不用說了
❷ 半導體晶元製造廢水處理方法
晶元製造生產工藝復雜，包括矽片清洗、化學氣相沉積、刻蝕等工序反復交叉，生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
所以一般晶元製造廢水處理系統有含氨廢水處理系統+含氟廢水處理系統+CMP研磨廢水處理系統。具體方案可以咨詢澤潤環境科技（廣東）有限公司網頁鏈接
❸ 污水處理設備可以用在哪些行業
污水處理設備的應用范圍：
1、適用於住宅小區、村莊、村鎮、辦公樓、商場、賓館、飯店、療養院、機關、學校、部隊、醫院、高速公路、鐵路、工廠、礦山、旅遊景區等。
2、屠宰、水產品加工、食品等中小型規模工業有機廢水的處理。
3、化工材料的生產和加工過程所用的溶劑及清洗過程。
4、超純材料和超純化學試劑。
5、實驗室和中試車間。
6、電子半導體、集成電路板上用到的化工材料。
7、石英、硅材料生產、加工、提純。
8、高純墨水、傳真列印機中的噴墨、納米墨水。
❹ 我們是一家半導體生產型企業，會產生大量的研磨切割和酸鹼廢水，有工業廢水處理公司嗎
蘇州園區有一家荷蘭的環保公司
❺ mbr在城市污水處理中有什麼應用
1MBR在飲用水生產中的應用：隨著經濟與技術的發展，各種生產廢水和生活污水未達標准就直接排放到地表水體中，以及氮肥與殺蟲劑在農業中的廣泛應用，使的我國不同地區的飲用水受到不同程度的污染，給人民的正常生活造成威脅。LyonnaisedesEaux公司在90年代中期開發出同時具有生物脫氮、吸附殺蟲劑、去除濁度功能的MBR工藝，1995年該公司在法國的Douchy建成了日產飲用水400m3的工廠，出水中氮濃度低於0.1mgNO2/L，殺蟲劑濃度低於0.02μg/L。
2MBR在城市生活污水處理中的應用：目前，在國內，MBR工藝較多地應用在生活污水處理與中水回用的工程中。在國外，Chiemehaisri分別採用板式和中空纖維MBR工藝處理城市生活污水，HRT為24h。當進水COD為60~490mg/L時，其去除率分別為大於93%和80%~98%。Ueda等採用中空纖維抽吸式聚乙烯MBR處理鄉村生活污水，膜通量為121L/(m2/h)，HRT為13~16h，當進水BOD5為133mg/L±58mg/L，進水SS為132mg/L±68mg/L、總氮為32mg/L±19mg/L、總磷為3.8mg/L±3.0mg/L時，去除率分比別為99%，99%，83%，70%。
3MBR在工業廢水及難降解有機廢水中的應用：近年來，由於MBR工藝具有生化效率高，抗負荷沖擊能力強，出水水質穩定，佔地面積小，排泥周期長，易實現自動控制等優點，在工業廢水及一些難降解廢水處理中應用越來越廣泛。在造紙、印染廢水處理中，浙江工業大學使用MBR處理造紙綜合廢水(黑液中段廢水和白水的混合液)並與傳統的活性污泥法與生物接觸氧化法進行比較，實驗結果表明用MBR處理造紙廢水通過污泥濃度的增加，出水CODcr可以降低到100mg/L以下(系統水力停留時間為18h)，整個反應器的總去除率最高可達90%以上。韓懷芬等，採用管式MBR處理造紙廢液，原水CODCr質量濃度為900~1300mg/L，通過混凝沉澱後進人反應器，出水可達一級排放標准。丁嵐等設計了缺氧/好氧MBR處理裝置，通過165天的運行試驗結果表明系統穩定期COD的去除率可以達到95.0%，氨氮平均去除率可達96.5%，活性艷紅染料X-3B的去除率在60%~73%之間，出水含有少量色度。在制葯廢水處理中，王敏採用厭氧加一體式膜生物反應器工藝處理某中葯廢水(主要為洗葯廢水、制葯廢水、地面和設備沖洗水以及生活污水等)。採用中空纖維膜，處理效率為COD97.5%、BOD96.8%、色度93.9%。
❻ 污水處理設備哪家做的比較好
萬川環保小、中、大型污水處理設備是根據處理量大小、處理工藝等技術方面進行報價的。
一般都是在30000-20000.
一般沿海地區的設備都會做的好一點，如上海 廣東 這些地區做的多。
可以從處理量、自動化程度、技術方面挑選。
污水處理設備適用於：化工、電子、五金、電鍍、半導體、食品、制葯、醫院等行業中的污水處理
❼ 如何處理半導體(LED)廢水
隨著單個LED光通亮和發光效率的提高，即將進入普通室內照明、台燈、筆記本電腦背光源、大尺寸LED顯示器背光源等市場廣闊。 LED生產過程中絕大部分廢水產生在原材料和晶元製造過程中，分為拉晶、切磨拋和晶元製造，主要含一般酸鹼廢水、含氟廢水、有機廢水、氨氮廢水等幾種水質，在黃綠光晶片製造過程中還會有含砷廢水排出。 2、LED晶元加工廢水特點：主要污染物為LED晶元生產過程中排放的大量有機廢水和酸鹼廢水，另有少量含氟廢水。有機廢水主要污染物為醇、乙醇、雙氧水;酸鹼廢水中主要污染物為無機酸、鹼等。 3、LED切磨拋廢水特點：主要污染物為大量清洗廢水，主要成分為硅膠、弱酸、硫酸、鹽酸、研磨砂等。 4、酸鹼廢水排放：主要包括工藝酸鹼廢水、廢氣洗滌塔廢水、純水站酸鹼再生廢水，採用化學中和法處理。 含砷廢水：主要來自背面減薄及劃片/分割工序，採用化學沉澱法處理。 一般廢水：排放方式均為連續排放，主要指純水站RO濃縮廢水主要污染物為無機鹽類，採用生化法去除。 含氟廢水：主要清洗廢水中含有HF，使用混凝沉澱去除。 高氨氮廢水：使用折點加氯法，將廢水中的氨氮氧化成N2。投加過量氯或次氯酸鈉，使廢水中氨完全氧化為N2的方法，稱為折點氯化法，其反應可表示為： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生產加工之藍寶石拉晶廢水 污水水質、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小時連續)廢水水質：PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後進入有機廢水調節池。人工收集到含氟廢水收集池，加葯劑進行沉澱。上清液達標排放，污泥排入污泥濃縮池處理。 利用有機廢水調節池的池容增加生化處理功能，向池內投加厭氧性水解菌，池內配置穿孔水力攪拌系統以加強傳質，為後繼處理單元提供部分水解處理服務。 廢水經過調節後經泵提升進入進入厭氧水解池。 厭氧水解池採用上向流布水形式，利用循環管網系統加強池底部的混流強度，提高反應器內的傳質效果。利用微生物的水解酸化作用將廢水中難降解的大分子有機物轉化為易降解的小分子有機物，將復雜的有機物轉變成簡單的有機物，提高廢水的可生化性，有利於後續的好氧生化處理。出水自流進入接觸氧化池。接觸氧化池的混合液進入二沉池進行泥水沉澱分離。為保證COD排放達標的處理要求，將二沉池出水導入BAF進行處理。生物曝氣濾池的出水流入清水池，為生物曝氣濾池提供濾料的反沖洗水，其餘的清水達標排放。 5.2、LED生產加工之切磨拋廢水 污水水質、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小時連續)廢水水質：1PH值5.0-10.0無量綱出水要求：達到國家廢水二級排放標准(<污水綜合排放標准(GB8978-1996)表4標准)的要求。具體指標為：處理工藝根據業主廢水的水質情況，在吸取以往同類廢水處理裝置設計的成功經驗和一些同類廢水處理裝置的實際運行經驗，設計污水處理主體工藝路線如下： 格柵池+清洗廢水調節池+反應池+物化沉澱池達標排放 污泥處理主體工藝採用工藝路線為： 污泥濃縮+污泥調理+板框壓濾泥餅外運 5.3、LED生產加工之晶元廢水 污水水質、水量： 有機廢水水量：19.4t/h(24小時連續)水質：PH值6.0-8.0無量綱 酸鹼廢水水量：70t/h(24小時連續)水質：PH值4.0-11.0無量綱 含氟廢水水量：4t/h(24小時連續)水質：PH值2.0-4.0無量綱 氟化物≤200mg/L處理工藝酸鹼廢水進入酸鹼廢水調節池後與投加的葯劑進行中和反應，達到工藝要求後達標排放。含氟廢水收集調節後與投加的葯劑反應生成不溶性氟化物沉澱，上清液達標排放。