A. 假定某工厂在3年前花20 000元安装了一套消除废水污染的设备.这套设备的年度使用费估计下一年度为 14500元
AC=9000+1000（A/G,12%,2)=9000+1000*0.4717=9470
B. 上海精细化工废水处理设备
精细化工行业生产中产生的废水一直以来是我国环保行业里面的重点和难点，化工废水处理重点是化工废水目前已将严重影响到了生态的健康，它的难点是目前我国尚未有成熟的零排放技术，都存在处理不尽留有固废的问题。很多行业人士认为，把这些化工废水、固液再进行资源化利用，都将成为精细化工废水处理的突破口。
目前，我们能够做到的是，沿用成熟的精细化工处理技术，透析各个环节的水质污染情况，以改进精细化工生产工艺流程，引用更环保更精简的技术为基础，搭建化工废水处理系统，实现废水的“零排放”或废水回用，间接性的达到废水资源化利用的目标。
C. 污水处理设备和废水处理设备有什么区别
污水处理设备，是一种能有效处理城区的生活污水，工业废水等的工业设备，避免污水及污染物直接流入水域，对改善生态环境、提升城市品位和促进经济发展具有重要意义。地埋式污水处理设备适宜住宅小区、医院疗养院、办公楼、商场、宾馆、饭店、机关、学校、部队、 水产加工厂、牲蓄加工厂、乳品加工厂等生活污水和与之类似的工业有机废水，如纺织、啤酒、造纸、制革、食品、化工等行业的有机污水处理，主要目的是将生活污水和与之相类似的工业有机废水处理后达到回用水质要求，使废水处理后资源化利用。
废水处理设备采用国际先进的生物处理工艺，在总结国内外生活废水处理装置的运行经验的基础上，结合 自己的科研成果和工程实践，设计出一种可地埋设置的成套有机废水处理装置，集去除BOD5、COD、NH3-N于一身，具有技术性能稳定可靠，处理效果好，投资省，自动化运行，维护操作方便，不占地表面积，不需盖房，不需采暖保温等优点。地面之上可种花种草，不影响周围环境。
D. 水处理在国内做半导体方面的工业废水吗
1、因为全球水资本的日益短少，超纯水的生产本钱在不时地上升。面对宏大的应用机会，电子半导体制造商在日常运营中，很是依附于超纯水继续流。
2、融化固体和悬浮固体在含量、酸碱度和金属杂质方面的差别，使半导体废水对常规技巧处理形成了应战。颠末膜生物反响器和三级处理系统，可以对半导体废水结束处理，使之达到新的严格环境法则或许在工场内获得再次操纵的机会。
3、膜系统是一种模块化系统;废水处理可以疾速调节，与产量添加保持分歧。
E. 我们是一家半导体生产型企业，会产生大量的研磨切割和酸碱废水，有工业废水处理公司吗
苏州园区有一家荷兰的环保公司
F. 一套废水处理设备大概需要多少钱
电镀厂现在查的越来越严，有些重金属超标很严重的话，老板可是要被抓的。一般我接触的电镀厂测的最多的就4个离子，cr，pb，ni，cu，看地区不同。像小的电镀厂的话，最普通的一套污水处理设备要个几十万，当然客户适当的要求加一些硬性的处理要求，适合自己公司的，可能还会贵点。
G. 请问半导体厂房用的纯水和废水处理是怎么收费的，按流量计费每立方大约多少钱是否和普通自来水收费不同
是按照多少量来计费的，在多少吨以内是多少钱，然后在按吨收取费用 。
H. 如何处理半导体(LED)废水
随着单个LED光通亮和发光效率的提高，即将进入普通室内照明、台灯、笔记本电脑背光源、大尺寸LED显示器背光源等市场广阔。 LED生产过程中绝大部分废水产生在原材料和芯片制造过程中，分为拉晶、切磨抛和芯片制造，主要含一般酸碱废水、含氟废水、有机废水、氨氮废水等几种水质，在黄绿光晶片制造过程中还会有含砷废水排出。 2、LED芯片加工废水特点：主要污染物为LED芯片生产过程中排放的大量有机废水和酸碱废水，另有少量含氟废水。有机废水主要污染物为醇、乙醇、双氧水;酸碱废水中主要污染物为无机酸、碱等。 3、LED切磨抛废水特点：主要污染物为大量清洗废水，主要成分为硅胶、弱酸、硫酸、盐酸、研磨砂等。 4、酸碱废水排放：主要包括工艺酸碱废水、废气洗涤塔废水、纯水站酸碱再生废水，采用化学中和法处理。 含砷废水：主要来自背面减薄及划片/分割工序，采用化学沉淀法处理。 一般废水：排放方式均为连续排放，主要指纯水站RO浓缩废水主要污染物为无机盐类，采用生化法去除。 含氟废水：主要清洗废水中含有HF，使用混凝沉淀去除。 高氨氮废水：使用折点加氯法，将废水中的氨氮氧化成N2。投加过量氯或次氯酸钠，使废水中氨完全氧化为N2的方法，称为折点氯化法，其反应可表示为： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生产加工之蓝宝石拉晶废水 污水水质、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小时连续)废水水质：PH值5.0-10.0无量纲出水要求：达到国家废水二级排放标准(<污水综合排放标准(GB8978-1996)表4标准)的要求。具体指标为：处理工艺酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应，达到工艺要求后进入有机废水调节池。人工收集到含氟废水收集池，加药剂进行沉淀。上清液达标排放，污泥排入污泥浓缩池处理。 利用有机废水调节池的池容增加生化处理功能，向池内投加厌氧性水解菌，池内配置穿孔水力搅拌系统以加强传质，为后继处理单元提供部分水解处理服务。 废水经过调节后经泵提升进入进入厌氧水解池。 厌氧水解池采用上向流布水形式，利用循环管网系统加强池底部的混流强度，提高反应器内的传质效果。利用微生物的水解酸化作用将废水中难降解的大分子有机物转化为易降解的小分子有机物，将复杂的有机物转变成简单的有机物，提高废水的可生化性，有利于后续的好氧生化处理。出水自流进入接触氧化池。接触氧化池的混合液进入二沉池进行泥水沉淀分离。为保证COD排放达标的处理要求，将二沉池出水导入BAF进行处理。生物曝气滤池的出水流入清水池，为生物曝气滤池提供滤料的反冲洗水，其余的清水达标排放。 5.2、LED生产加工之切磨抛废水 污水水质、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小时连续)废水水质：1PH值5.0-10.0无量纲出水要求：达到国家废水二级排放标准(<污水综合排放标准(GB8978-1996)表4标准)的要求。具体指标为：处理工艺根据业主废水的水质情况，在吸取以往同类废水处理装置设计的成功经验和一些同类废水处理装置的实际运行经验，设计污水处理主体工艺路线如下： 格栅池+清洗废水调节池+反应池+物化沉淀池达标排放 污泥处理主体工艺采用工艺路线为： 污泥浓缩+污泥调理+板框压滤泥饼外运 5.3、LED生产加工之芯片废水 污水水质、水量： 有机废水水量：19.4t/h(24小时连续)水质：PH值6.0-8.0无量纲 酸碱废水水量：70t/h(24小时连续)水质：PH值4.0-11.0无量纲 含氟废水水量：4t/h(24小时连续)水质：PH值2.0-4.0无量纲 氟化物≤200mg/L处理工艺酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应，达到工艺要求后达标排放。含氟废水收集调节后与投加的药剂反应生成不溶性氟化物沉淀，上清液达标排放。
I. 半导体芯片制造废水处理方法
芯片制造生产工艺复杂，包括硅片清洗、化学气相沉积、刻蚀等工序反复交叉，生产中使用了大量的化学试剂如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
所以一般芯片制造废水处理系统有含氨废水处理系统+含氟废水处理系统+CMP研磨废水处理系统。具体方案可以咨询泽润环境科技（广东）有限公司网页链接