⑴ 一套废水处理设备大概需要多少钱
电镀厂现在查的越来越严，有些重金属超标很严重的话，老板可是要被抓的。一般我接触的电镀厂测的最多的就4个离子，cr，pb，ni，cu，看地区不同。像小的电镀厂的话，最普通的一套污水处理设备要个几十万，当然客户适当的要求加一些硬性的处理要求，适合自己公司的，可能还会贵点。
⑵ 半导体芯片制造废水处理方法
芯片制造生产工艺复杂，包括硅片清洗、化学气相沉积、刻蚀等工序反复交叉，生产中使用了大量的化学试剂如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
所以一般芯片制造废水处理系统有含氨废水处理系统+含氟废水处理系统+CMP研磨废水处理系统。具体方案可以咨询泽润环境科技（广东）有限公司网页链接
⑶ 电路板废水处理需要哪些技术和设备
电路板废水处理 系统主要处理废水方法如下：
一般清洗废水( 低浓度清洗废水)：
清洗废水日排放量为6400吨(一期3200吨/天)，收集于调节池中，同时其它经预处理后的废水和废液排入调节池一并混合。污染物浓度较低，PH值为2.5-5，重金属离子含量总量在30mg/l以下;混合废水的CODcr一般在150mg/l以下。由提升泵提升至PH调整槽Ⅰ进行处理。
油墨废水：
油墨废水主要特点是CODcr浓度很高，达15000mg/L，平均8000
mg/L左右。显影、脱膜废水中的有机物对后面的综合废水的混凝沉淀和离子交换有较大的影响。油墨废水特点是在酸性条件下易析离出，因此不可能与其它废水混合在一起处理。油墨废水单独收集，由泵泵至酸化池，加入酸液，在酸性条件下(PH3-5)油墨中的感光膜会析出，形成浓胶状凝聚成团成为浮渣去除，再调pH值7～8，同时加入混凝剂，再经过沉淀分离，沉淀上清液的COD一般有400～800mg/L，上清液自流入调节池混合后再处理。
络合废水：
因为络合铜(EDTA铜络离子或铜氨络离子)结构相当稳定，溶解于水，不沉淀，虽然只占总水量的1~3%，但由于其络合物极稳定，若不将络合物破除，出水中的铜离子就很难达标(0.5mg/L以下)。络合铜废水若与其它的污水混合在一起进行处理，为破络合物则投药量非常大，运行费用增加，因此络合铜废水必须单独收集并预处理。由泵将络合废水泵入破络槽，加入氧化剂如次氯酸钠氧化破除络合物(EDTA和NH3在中性条件下都可被NaOCl氧化)。再加入混凝剂和助凝剂，沉淀后上清液流入调节池。
⑷ 电镀废水处理设备有哪些
电镀废水处理用药的情况很普遍，设备还是比较通用的那些泵（普通污水离心泵、加药的隔膜计量泵）和阀门（蝶阀、止回阀、球阀）。这些设备其实就可以做一套完整的传统的水处理设施。
很多新工艺倒是用一些新设备，如果非要用设备来处理电镀废水，其实可以考虑用离子交换树脂、RO反渗透膜、NPS纳米软化设备、电絮凝电离设备、微滤过滤器这些设备，这些设备跟工艺有关，每个项目最多用其中一种或是根本用不着，因为每个都不便宜这些都不是工艺流程都必须用的。
电镀废水产生污泥较多，设备一般就是螺杆泵和污泥脱水机（小项目的板框式或厢式，大项目用带式，有钱项目用叠螺式，很少用到离心式）
⑸ 中小型工业废水处理设备哪个品牌比较好
在生产工业废水处理设备的厂家众多，产品各种各样，质量也不尽相同，面对这么多的问题工业废水处理设备购买时需要注意些什么呢?
首先要清楚使用的源水种类，一般是自来水、河水、井水三种。其次要了解源水的水质情况，企业生产需要的最大用水量以及出水水质。这在采购工业废水处理设备之前是必须知道的情况。
其次，了解设备的细节，包括反渗透膜、EDI模块的的生产厂家及产地，是否为正规的厂家，生产的设备是否根据实际情况来量身定做，设备的最后脱盐率及通水量是否达到你的要求。
然后看设备的外观，正规厂家生产的工业废水处理设备外观讲究。首先看机架，焊缝平整，不会凹凸不平，整体给人一种厚重感。看高压泵、原水增压泵是不是正规厂家的产品。看管路的连接，管路连接横平竖直，管路的材质。废水处理设备预处理部分的罐体选择厚重感比较强的，有些小厂家为了节省成本选用的罐体比较薄，很容易出现问题。
最后看厂家的服务，厂家是否上门安装调试，能否培训操作人员，门维修的效率如何，质保期多久等问题。
⑹ 热电厂废水处理设备到底多少钱
从几十万到上百万不等。需要看处理量有多大。处理量越大价格越贵。
⑺ 电镀废水处理设备多少钱一套
电镀厂现在查的越来越严，有些重金属超标很严重的话，老板可是要被抓的。一般我接触的电镀厂测的最多的就4个离子，Cr，Pb，Ni，Cu，看地区不同。像小的电镀厂的话，最普通的一套污水处理设备要个几十万，当然客户适当的要求加一些硬性的处理要求，适合自己公司的，可能还会贵点。
⑻ 如何处理半导体(LED)废水
随着单个LED光通亮和发光效率的提高，即将进入普通室内照明、台灯、笔记本电脑背光源、大尺寸LED显示器背光源等市场广阔。 LED生产过程中绝大部分废水产生在原材料和芯片制造过程中，分为拉晶、切磨抛和芯片制造，主要含一般酸碱废水、含氟废水、有机废水、氨氮废水等几种水质，在黄绿光晶片制造过程中还会有含砷废水排出。 2、LED芯片加工废水特点：主要污染物为LED芯片生产过程中排放的大量有机废水和酸碱废水，另有少量含氟废水。有机废水主要污染物为醇、乙醇、双氧水;酸碱废水中主要污染物为无机酸、碱等。 3、LED切磨抛废水特点：主要污染物为大量清洗废水，主要成分为硅胶、弱酸、硫酸、盐酸、研磨砂等。 4、酸碱废水排放：主要包括工艺酸碱废水、废气洗涤塔废水、纯水站酸碱再生废水，采用化学中和法处理。 含砷废水：主要来自背面减薄及划片/分割工序，采用化学沉淀法处理。 一般废水：排放方式均为连续排放，主要指纯水站RO浓缩废水主要污染物为无机盐类，采用生化法去除。 含氟废水：主要清洗废水中含有HF，使用混凝沉淀去除。 高氨氮废水：使用折点加氯法，将废水中的氨氮氧化成N2。投加过量氯或次氯酸钠，使废水中氨完全氧化为N2的方法，称为折点氯化法，其反应可表示为： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生产加工之蓝宝石拉晶废水 污水水质、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小时连续)废水水质：PH值5.0-10.0无量纲出水要求：达到国家废水二级排放标准(<污水综合排放标准(GB8978-1996)表4标准)的要求。具体指标为：处理工艺酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应，达到工艺要求后进入有机废水调节池。人工收集到含氟废水收集池，加药剂进行沉淀。上清液达标排放，污泥排入污泥浓缩池处理。 利用有机废水调节池的池容增加生化处理功能，向池内投加厌氧性水解菌，池内配置穿孔水力搅拌系统以加强传质，为后继处理单元提供部分水解处理服务。 废水经过调节后经泵提升进入进入厌氧水解池。 厌氧水解池采用上向流布水形式，利用循环管网系统加强池底部的混流强度，提高反应器内的传质效果。利用微生物的水解酸化作用将废水中难降解的大分子有机物转化为易降解的小分子有机物，将复杂的有机物转变成简单的有机物，提高废水的可生化性，有利于后续的好氧生化处理。出水自流进入接触氧化池。接触氧化池的混合液进入二沉池进行泥水沉淀分离。为保证COD排放达标的处理要求，将二沉池出水导入BAF进行处理。生物曝气滤池的出水流入清水池，为生物曝气滤池提供滤料的反冲洗水，其余的清水达标排放。 5.2、LED生产加工之切磨抛废水 污水水质、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小时连续)废水水质：1PH值5.0-10.0无量纲出水要求：达到国家废水二级排放标准(<污水综合排放标准(GB8978-1996)表4标准)的要求。具体指标为：处理工艺根据业主废水的水质情况，在吸取以往同类废水处理装置设计的成功经验和一些同类废水处理装置的实际运行经验，设计污水处理主体工艺路线如下： 格栅池+清洗废水调节池+反应池+物化沉淀池达标排放 污泥处理主体工艺采用工艺路线为： 污泥浓缩+污泥调理+板框压滤泥饼外运 5.3、LED生产加工之芯片废水 污水水质、水量： 有机废水水量：19.4t/h(24小时连续)水质：PH值6.0-8.0无量纲 酸碱废水水量：70t/h(24小时连续)水质：PH值4.0-11.0无量纲 含氟废水水量：4t/h(24小时连续)水质：PH值2.0-4.0无量纲 氟化物≤200mg/L处理工艺酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应，达到工艺要求后达标排放。含氟废水收集调节后与投加的药剂反应生成不溶性氟化物沉淀，上清液达标排放。
⑼ 常用的废水治理设备有哪些
常用的废水处理设备有微滤机和离心机。微滤机是一种传鼓式筛网过滤装置。被处理的废水沿轴向进入鼓内，以径向辐射状经筛网流出。水中杂质即被留在鼓筒上滤网内面，被压力冲洗水反冲到排加槽内流出。离心机主要用于将悬浮液中的固体颗粒与液体分开。它可用于排除是固体中的液体，特殊超速管分离机还可以分离出不同密度的气体混合物并将沉降离尘还对固体颗粒按密度和力度进行分级处理。
⑽ 废水处理设备与材料手册
http://emuch.net/html/201306/6035380.html
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