㈠ 半导体超纯水设备生锈应该如何解决
1、在半导体超纯水设备内设置预冷器，使蒸发器的管表面蒸发温度在40℃以下。同时，采用大水量，密集型布水器，确保冷凝器管表面时刻被水膜包覆，无干涸点。
2、在半导体超纯水设备制作时进行预膜防垢处理。可以有效的阻止污垢晶体在铜管表面上附着，降低蒸发器结垢可能，延长蒸发器、冷风机结构周期。
3、采用少量连续排水装置，将半导体超纯水设备的冷却循环水的钙离子的浓缩倍数控制在一定范围内，有效的防止垢质的析出。
㈡ 什么设备要用去离子水
根据我们特域冷水机所接触的大部分客户的经验：
1.如果发热元器件对冷却水流的电阻有要求的话，一般都需要我们特域冷水机里面配置去离子水。2.例如一些半导体，灯泵，当冷却水是直接在上面流过的话就要去离子水了。
3.也有一些是水管道里面有铜等游离金属也是要求去离子水，以免加速铜等金属的腐蚀。
㈢ 什么是去离子水
采用离子交换来制取，其原理是原水中含有的盐类如Ca(HCO3)2、Mgso4等盐类,在流经交换树脂时,阳离子Co2+、Mg2+等被阳树脂的活性基团置换,阴离子HCo3-、So42-等被阴树脂的活性基团置换,从而水就得到纯化.如原水中的重碳酸盐含量较高,应在阴阳离子交换柱中间设脱气塔,除去CO2气体,减轻阴床的负荷.一般复床(阳离子交换柱、阴离子交换柱)出水其电导率可达10s/cm以下,若水源水质较好其产水电导率可达5s/cm以下,混合离子交换柱一般作为后处理放置于复床后或反渗透系统后可使产水电导率达到18m.Ωcm的高纯水.
作用:广泛用于轻工、纺织、医药、生物、电子能，还可以用于食品药物的脱色提纯、贵重金属、化工原料的回收、电镀废水的处理。
去离子水设备适用范围超纯水经常用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业和实验室。CEDI纯水也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、化工厂工艺用水，以及其它超纯水应用领域。
1、制取电子工业生产如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等工艺所需的纯水、高纯水;
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详细资料请参考：on
㈣ 半导体工业中为什么要用去离子水
因为许多杂质（重金属、钠、钾等）对于半导体特性的影响很大，在半导体表面清洗时，需要去掉这些有害杂质，以免在高温处理时让这些杂质进入到半导体中，故在清洗时必须采用纯净的去离子水。
㈤ 请问有哪些厂家或公司需要用去离子水
1、实验室、化验室用水，一般实验室的常规试验、配置常备溶液、清洗玻璃器皿等
2、电子工业生产，如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等；
3、电力锅炉，锅炉所需软化水、除盐；
4、汽车、家用电器、建材表面涂装、电镀、镀膜玻璃清洗等；
5、石油化工行业,化工反应冷却水、化学药剂、生产配液用水等；
6、工业纺织印染、钢铁清洗用水等；
7、食品、饮料、酒类、化妆品生产用水；
8、海水、苦咸水等净化。
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公司太多我就不一一列举了
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㈥ 什么是去离子水去离子水的制作工艺是什么
去离子水的定义
去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织ISO/TC 147规定的“去离子”定义为：“去离子水完全或不完全地去除离子物质，主要指采用离子交换树脂处理方法。”现在的工艺主要采用RO反渗透的方法制取。应用离子交换树脂去除水中的阴离子和阳离子，但水中仍然存在可溶性的有机物，可以污染离子交换柱从而降低其功效，去离子水存放后也容易引起细菌的繁殖。 在半导体行业中，去离子水被称为“超纯水”或是“18兆欧水”。
去离子水的处理步骤
从自来水到去离子水一般要经过几步处理 ：
1、先通过石英砂过滤颗粒较粗的杂质
2、然后高压通过反渗透膜
3、最后一般还要经过一步紫外杀菌以去除水中的微生物
4、假如此时电阻率还没有达到要求的话，可以再进行一次离子交换过程最高电阻率可达到18兆。
相对而言，蒸馏水只是先气化再冷凝，其纯度如电导率一般不如纯度高的去离子水，半导体工业中用的大多数是高纯度的去离子水
㈦ 怎样得到中性或偏碱性的铝离子水，用去离子水配制。因为设备的冷却器是铝制的，易被腐蚀。请求帮助
从自来水到去离子水一般要经过几步处理 ： 1、先通过石英砂过滤颗粒较粗的杂质 2、然后高压通过反渗透膜 3、最后一般还要经过一步紫外杀菌以去除水中的微生物 4、假如此时电阻率还没有达到要求的话，可以再进行一次离子交换过程最高电阻率可达到18兆。 相对而言，蒸馏水只是先气化再冷凝，其纯度如电阻率一般不如纯度高的去离子水，半导体工业中用的大多数是高纯度的去离子水
㈧ 请问超纯水设备中EDI系统是什么
EDI电除盐纯水设备供应商，EDI电除盐纯水设备技术概述
电除盐将离子交换树脂填充在阴、阳离子交换膜之间形成EDI单元,又在这个单元两边设置阴、阳电极,在直流电作用下,将离子从其给水(通常是反渗透纯水)中进一步清除离子交换膜和离子交换树脂的工作原理相近,可以使特定的离子迁移。阴离子交换膜只允许阴离子透过,不允许阳离子透过;而阳膜只允许阳离子透过,不允许阴离子透过。
在EDI组件中将一定数量的EDI单元罗列在一起,使阴离子交换膜和阳离子交换膜交替排列。并使用网状物将每个EDI单隔开,形成浓水室。EDI单元中间为淡水室。在给定的直流电的推动下,给水通过淡水室水中的离子穿过高子交换膜进入浓水室被去除而成为除盐水;通过浓水将离子带出系统，成为浓水。
EDI电除盐纯水设备组件将给水分成三股独立的水流
1、纯水(最高利用率为99%)
2、浓水(5-10%,可以用于RO给水
3、极水(1%,排放)
极水先经过阳极流入阴极水可从电极区排除电解产生的氯气、氧气和氢气体。
EDI电除盐纯水设备过程细节
一般城市水源中存在钠、钙、镁、氯化物、硝酸盐、碳酸氢盐、二氧化硅等溶解物。这此化合物由带负电荷的阴高子和带正电荷的阳离子组成。通过反渗透(RO)的处理,98%以上的离子可被去除。另外,原水中也可能包括其它微量元素、溶解的气体(例如CO2)和一些弱电解质(例如硼,二氧化硅),这些杂质在工业除盐水中也必须被除掉。RO纯水(EDI给水)电阻率的一般范围是0.05-0.25MΩcm,即电导率的范围是20-4US/cm。根据应用的情况,去离子水电阻率2MΩcm。EDI除盐过程。将水中离子和离子交换树用脂中的氢氧根离子或氢离子交换,然后使这些离子迁移进入到浓水中。这就是EDI电除盐纯水设备除盐过程。
㈨ 去离子水设备抛光树脂怎么更换
净得瑞为您解答：
1.抛光树脂( MB-400)是由高度纯化、转型的H型阳树脂和OH型阴树脂混合而成，如果装填和操作得当，在最初的周期中即可制备出电阻率大于18.0MΩ.cm和TOC小于10ppb的超纯水，无需化学再生。
2.树脂开封后长时间暴露在空气中会吸收二氧化碳，从而影响产品的性能及使用。因此一旦拆包需尽快使用。不使用部分须小心密封，存放于避光阴凉处，环境温度以5-40℃为宜。
3.在运输、储存和装填过程中，任何无机或有机物质的接触都会使树脂受到污染，从而降低出水水质;影响运行工况。因此必须保证所有用于装填、操作的设备和水不会污染树脂。所有与树脂接触的水都必须使用高纯水(本文中所涉及到的水均指“高纯水”，即电阻率大于等于10MΩ.cm，同时TOC尽可能低于30ppb的水)，所有接触树脂的设备或器具都要在使用前经过高纯水清洗。