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贵港平南县半导体去离子水设备

发布时间:2021-05-01 08:31:58

1. 什么叫去离子水怎么制备

去离子水(deionized water)是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织ISO/TC 147规定的“去离子”定义为:“去离子水完全或不完全地去除离子物质,主要指采用离子交换树脂处理方法。”现在的工艺主要采用RO反渗透的方法制取。应用离子交换树脂去除水中的阴离子和阳离子,但水中仍然存在可溶性的有机物,可以污染离子交换柱从而降低其功效,去离子水存放后也容易引起细菌的繁殖。
去离子水的处理步骤从自来水到去离子水一般要经过几步处理 :
1、先通过石英砂过滤颗粒较粗的杂质
2、然后高压通过反渗透膜
3、最后一般还要经过一步紫外杀菌以去除水中的微生物
4、假如此时电阻率还没有达到要求的话,可以再进行一次离子交换过程最高电阻率可达到18兆。
相对而言,蒸馏水只是先气化再冷凝,其纯度如电导率一般不如纯度高的去离子水,半导体工业中用的大多数是高纯度的去离子水

2. 什么设备要用去离子水

根据我们特域冷水机所接触的大部分客户的经验:
1.如果发热元器件对冷却水流的电阻有要求的话,一般都需要我们特域冷水机里面配置去离子水。2.例如一些半导体,灯泵,当冷却水是直接在上面流过的话就要去离子水了。
3.也有一些是水管道里面有铜等游离金属也是要求去离子水,以免加速铜等金属的腐蚀。

3. 化学类,关于去离子水的问题

去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织ISO/TC 147规定的“去离子”定义为:“去离子水完全或不完全地去除离子物质,主要指采用离子交换树脂处理方法。”现在的工艺主要采用RO反渗透的方法制取。应用离子交换树脂去除水中的阴离子和阳离子,但水中仍然存在可溶性的有机物,可以污染离子交换柱从而降低其功效,去离子水存放后也容易引起细菌的繁殖。

相对而言,蒸馏水只是先气化再冷凝,其纯度如电导率一般不如纯度高的去离子水,半导体工业中用的大多数是高纯度的去离子水

4. 请问有哪些厂家或公司需要用去离子水

1、实验室、化验室用水,一般实验室的常规试验、配置常备溶液、清洗玻璃器皿等
2、电子工业生产,如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等;
3、电力锅炉,锅炉所需软化水、除盐;
4、汽车、家用电器、建材表面涂装、电镀、镀膜玻璃清洗等;
5、石油化工行业,化工反应冷却水、化学药剂、生产配液用水等;
6、工业纺织印染、钢铁清洗用水等;
7、食品、饮料、酒类、化妆品生产用水;
8、海水、苦咸水等净化。

东莞绿健水处理设备有限公司
莱特莱德广州水处理设备公司
广州市弘威水处理设备有限公司
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北京凝结水回收装置有限公司
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深圳华南高科水处理设备(南昌)有限公司
拓展空间有限公司
上海去离子水设备有限公司
上海美国海德能膜公司
……………………
公司太多我就不一一列举了
求采纳orz

5. 什么是去离子水

采用离子交换来制取,其原理是原水中含有的盐类如Ca(HCO3)2、Mgso4等盐类,在流经交换树脂时,阳离子Co2+、Mg2+等被阳树脂的活性基团置换,阴离子HCo3-、So42-等被阴树脂的活性基团置换,从而水就得到纯化.如原水中的重碳酸盐含量较高,应在阴阳离子交换柱中间设脱气塔,除去CO2气体,减轻阴床的负荷.一般复床(阳离子交换柱、阴离子交换柱)出水其电导率可达10s/cm以下,若水源水质较好其产水电导率可达5s/cm以下,混合离子交换柱一般作为后处理放置于复床后或反渗透系统后可使产水电导率达到18m.Ωcm的高纯水.
作用:广泛用于轻工、纺织、医药、生物、电子能,还可以用于食品药物的脱色提纯、贵重金属、化工原料的回收、电镀废水的处理。
去离子水设备适用范围超纯水经常用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业和实验室。CEDI纯水也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、化工厂工艺用水,以及其它超纯水应用领域。
1、制取电子工业生产如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等工艺所需的纯水、高纯水;
………………
详细资料请参考:on

6. 去离子水设备抛光树脂怎么更换

净得瑞为您解答:
1.抛光树脂( MB-400)是由高度纯化、转型的H型阳树脂和OH型阴树脂混合而成,如果装填和操作得当,在最初的周期中即可制备出电阻率大于18.0MΩ.cm和TOC小于10ppb的超纯水,无需化学再生。
2.树脂开封后长时间暴露在空气中会吸收二氧化碳,从而影响产品的性能及使用。因此一旦拆包需尽快使用。不使用部分须小心密封,存放于避光阴凉处,环境温度以5-40℃为宜。
3.在运输、储存和装填过程中,任何无机或有机物质的接触都会使树脂受到污染,从而降低出水水质;影响运行工况。因此必须保证所有用于装填、操作的设备和水不会污染树脂。所有与树脂接触的水都必须使用高纯水(本文中所涉及到的水均指“高纯水”,即电阻率大于等于10MΩ.cm,同时TOC尽可能低于30ppb的水),所有接触树脂的设备或器具都要在使用前经过高纯水清洗。

7. 半导体设备

我前段时间也学习了解了一下晶圆的制作过程,有些资料,你看看吧~@~
由半导体国际收集
晶圆清洗设备
Akrion
Applied Materials
Crest Ultrasonics
Dainippon Screen (DNS)
EV Group
FSI International
Lotus Systems
Megasonic Sweeping
SEZ (Lam Research)
Semitool
SES
Solid State Equipment
Tokyo Electron (TEL)
七星华创(SevenStar)
中联科利(United Cleaning Technology)
沈阳芯源

热处理设备
Applied Materials
ASM
ATV Technologie
Aviza Technology
Axcelis Technologies, Inc.
Axic
CVD Equipement
Kokusai Semiconctor Equipment
Mattson
Thermcraft
Tokyo Electron (TEL)
七星华创(SevenStar)

离子注入设备
Applied Materials
Axcelis Technologies, Inc.
Nissin Electric
Varian Semiconctor
北京中科信电子装备有限公司
CVD/PECVD/ALD设备
Applied Materials
Axic
AIXTRON
ASM
ATV Technologie
Aviza Technology
CVD Equipement
Hitachi Kokusai
Novellus
Oerlikon
Oxford Instruments
Tokyo Electron (TEL)
Veeco Instruments
海微芯仪半导体设备
中微半导体AMEC
七星华创(SevenStar)
沈阳科仪

PVD设备
Applied Materials
Aviza Technology
KDF
Novellus
Oerlikon(Unaxis Wafer Processing)
Oxford Instruments
Varian Semiconctor
Veeco Instruments

光刻设备
ASML
Canon
EV Group
Molecular Imprints
Nikon Precision
Suss MicroTec
Ultratech
Vistec Lithography

涂布/显影设备
Dainippon Screen (DNS)
EV Group
Sokudo Co. Ltd.
Solitec Wafer Processing
Suss MicroTec
Tokyo Electron (TEL)
沈阳芯源

刻蚀/去胶/灰化设备
Applied Materials
Aviza Technology
Axic
Hitachi High Technologies
Lam Research
Mattson Technology,Inc
Oerlikon
Oxford Instruments
Tokyo Electron (TEL)
Veeco Instruments
北方微电子
七星华创(SevenStar)
中微半导体AMEC

CMP设备
Applied Materials
Ebara Corporation
Entrepix,Inc
Kinetic Systems
Levitronix LLC
Novellus
盛美半导体

电镀系统设备
Applied Materials
ECI Technology
Novellus
Semitool
Surfect
盛美半导体

半导体工艺用石墨元件/材料
POCO Graphite
Carbone Lorraine(Le Carbone Advanced Graphites )
东洋炭素株式会社TOYO TANSO
西格里碳素集团SGL Group

8. 上海哪里提供去离子水/工业纯水,或者超纯水设备的销售

edi电去离子水设备是结合了电渗析与离子交换两项技术各自的特点而发展起来的一项新技术,与普通电渗析相比,由于淡室中填充了离子交换树脂,大大提高了膜间导电性,显着增强了由溶液到膜面的离子迁移,破坏了膜面浓度滞留层中的离子贫乏现象,提高了极限电流密度;与普通离子交换相比,由于膜间高电势梯度,迫使水解离为H+和OH-,H+和OH-一方面参预负载电流,另一方面可以又对树脂起就地再生的作用,因此EDI不需要对树脂进行再生,可以省掉离子交换所必需的酸碱贮罐,也减少了环境污染。因此EDI去离子水系统具有如下优点:

1、出水水质具有最佳的稳定度。

2、能连续生产出符合用户要求的超纯水。

3、模块化生产,并可实现PLC全自动控制。

4、不需酸碱再生,无污水排放。降低了劳动强度,节省了酸碱和大量清洁水,减少了环境污染。

5、不会因再生而停机。

6、单一系统连续运转,不需备用系统。

edi电去离子水设备项目的技术创新点

EDI去离子水设备以离子交换纤维代替颗粒树脂作为电去离子隔膜间的填充物的研究在电去离子刚被认识时就已经开始了,但真正成功实现工业化的产品却是添加了树脂而不是纤维的电去离子,然而已有很多研究证明填充离子交换纤维比离子交换树脂有许多明显的优点,如:

(1)隔膜的间距可以减少,通常ED的隔膜间距为0.8-1.0mm,而电去离子为3mm左右,如果填充离子交换纤维则可以使隔膜介于二者之间,这样有利于缩短离 反渗透加电去离子装置纯水处理系统

子通道,提高极限电流密度。

(2)离子交换纤维比表面积大、交换速度快,因此更符合电去离子的要求。本项目的创新点表现在采用一种自主开发的离子交换纤维新材料,开发可以满足更高市场需求的纯水高端产品,填补国内高端产品的空白。

EDI去离子的工业应用和市场需求

最近几年EDI去离子在各个工业领域都越来越受重视,许多工业系统开始采用电去离子作为其水处理系统的更新换代技术,如电力工业、制药工业、微电子工业、电镀与金属表面处理等。

(1)电力工业

据推算电力行业水处理单元的操作费用约占电力成本的10%,而用电去离子替代离子交换树脂可以使每处理1000加仑水的成本由11美元降至1.75美元。

(2)制药工业

虽然药用水的特点是并不要求很高的去离子程度,但电去离子系统具有同时去盐和控制微生物指标的特点,因此已有多家企业采用RO/EDI集成系统。据称该类系统性能稳定,全流程计算机连续监控,全自动操作无人值守。

〔3〕电子工业

电子工业对水质的要求极高,水电阻率要稳定的大于18MΩ,而EDI出水一般在15-17 MΩ左右,因此在电子级水的生产过程多采用EDI+抛光树脂系统,即在EDI之后加离子交换,此工程虽然仍需离子交换,但由于EDI已除去了大部分离子,抛光树脂几乎不用再生,因此水处理费用仍然很低。

(4)电镀与金属表面处理

电去离子可用于电镀废水处理可以使水重复使用并回收重金属离子。美国已有该类型系统的实验装置。

(5)其他领域

EDI去离子水设备在食品工业、化学工业等都有很广泛的应用:多室流化床、设备的横截面一般为矩形,用垂直挡板将设备沿长度方向分成多室(一般4~8室)。挡板下沿与分布板面之间留有几十毫米的间隙,作为室间粉粒通道。最后一室有控制床面的堰板。流体平行进入各室,颗粒则依次通过各室,因此多室流化床不仅能抑制颗粒在整个床层内的返混,而且还能调节通入各室流体的流速和温度。多室流化床比多层流化床设备容易控制,总压降也小;但传热、传质推动力较多层床小,用于干燥时空气热量利用效率较差。 两器流化床 有两个流化床,在左侧流化。

9. 去离子水是什么可以用来做什么

去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织ISO/TC
147规定的“去离子”定义为:“去离子水完全或不完全地去除离子物质。”现在的工艺主要采用RO反渗透的方法制取。应用离子交换树脂去除水中的阴离子和阳离子,但水中仍然存在可溶性的有机物,可以污染离子交换柱从而降低其功效,去离子水存放后也容易引起细菌的繁殖。
去离子水是目前工业超纯水的设备上应用最多的工艺之一.
去离子水设备的主要用途:
涂装行业:涂料配制.仟净的去离子水流程都是引进的,所以应用范围非常广。如:
1、实验室、化验室用水,一般实验室的常规试验、配置常备溶液、清洗玻璃器皿等;
2、电子工业生产,如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等;
3、电力锅炉,锅炉所需软化水、除盐;
4、汽车、家用电器、建材表面涂装、电镀、镀膜玻璃清洗等;
5、石油化工行业,化工反应冷却水、化学药剂、生产配液用水等;
6、工业纺织印染、钢铁清洗用水等;
7、食品、饮料、酒类、化妆品生产用水;
8、海水、苦咸水等净化。
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