A. “去离子水”的作用及用途
”去离子水“的作用是去除了水中的离子状杂质，让水更纯净。用途很广，各行各业都有用到去离子水。
B. 请问有哪些厂家或公司需要用去离子水
1、实验室、化验室用水，一般实验室的常规试验、配置常备溶液、清洗玻璃器皿等
2、电子工业生产，如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等；
3、电力锅炉，锅炉所需软化水、除盐；
4、汽车、家用电器、建材表面涂装、电镀、镀膜玻璃清洗等；
5、石油化工行业,化工反应冷却水、化学药剂、生产配液用水等；
6、工业纺织印染、钢铁清洗用水等；
7、食品、饮料、酒类、化妆品生产用水；
8、海水、苦咸水等净化。
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上海去离子水设备有限公司
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C. 去离子水
杭州永洁达净化科技有限公司，是专业生产各类纯水与超纯水，也就是去离子水。
去离子水（deionized water）是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织ISO/TC 147规定的“去离子”定义为：“去离子水完全或不完全地去除离子物质，主要指采用离子交换树脂处理方法。”现在的工艺主要采用RO反渗透的方法制取。应用离子交换树脂去除水中的阴离子和阳离子，但水中仍然存在可溶性的有机物，可以污染离子交换柱从而降低其功效，去离子水存放后也容易引起细菌的繁殖。 在半导体行业中，去离子水被称为“超纯水”或是“18兆欧水”。
一.去离子水的处理 一体化去离子水设备
从自来水到去离子水一般要经过几步处理 ：
1、先通过石英砂过滤颗粒较粗的杂质
2、然后高压通过反渗透膜
3、最后一般还要经过一步紫外杀菌以去除水中的微生物
4、假如此时电阻率还没有达到要求的话，可以再进行一次离子交换过程最高电阻率可达到18兆。
相对而言，蒸馏水只是先气化再冷凝，其纯度如电导率一般不如纯度高的去离子水，半导体工业中用的大多数是高纯度的去离子水
二.去离子水与其他水的区别
1. 蒸馏水：就是将水蒸馏、冷凝的水，蒸二次的叫重蒸水，三次的叫三蒸水。有时候为了特殊目的，在蒸前会加入适当试剂，如为了无氨水，会在水中加酸；低耗氧量的水，加入高锰酸钾与酸等。工业蒸馏水是采用蒸馏水方法取得的纯水，一般普通蒸馏取得的水纯度不高，经过多级蒸馏水，出水才可达到很纯，成本相对比较高。
2. 去离子水就是将水通过阳离子交换树脂（常用的为苯乙烯型强酸性阳离子交换树脂），则水中的阳离子被树脂所吸收，树脂上的阳离子H+被置换到水中，并和水中的阳离子组成相应的无机酸；含此种无机酸的水再通过阴离子交换树脂（常用的为苯乙烯型强碱性阴离子）OH-被置换到水中，并和水中的H+结合成水，此即去离子水。去离子水在现代工业中有着非常广泛的用途，使用去离子水，是我国很多行业提高产品质量的，赶超世界先进水平的重要手段之一。 由于去离子水中的离子数可以被人为的控制，从而，使它的电阻率、溶解度、腐蚀性、病毒细菌等物理、化学及病理等指标均得到良好的控制。在工业生产及实验室的实验中，如果涉及到使用水的工艺都被使用了去离子水，那么，许多参数会更接近设计或理想数据，产品质量将变得易于控制。
3. 高纯水，是指化学纯度极高的水，其主要应用在生物、化学化工、冶金、宇航、电力等领域，但其对水质纯度要求相当高，所以一般应用最普遍的还是电子工业。例如电力系统所用的纯水，要求各杂质含量低达到“微克/升”级。在纯水的制作中，水质标准所规定的各项指标应该根据电子(微电子)元器件(或材料)的生产工艺而定(如普遍认为造成电路性能破坏的颗粒物质的尺寸为其线宽的1/5-1/10)，但由于微电子技术的复杂性和影响产品质量的因素繁多，至今尚无一份由工艺试验得到的适用于某种电路生产的完整的水质标准。不过近年来电子级水标准也在不断地修订，而且高纯水分析领域的许多突破和发展，新的仪器和新分析方法的不断应用都为制水工艺的发展创造了条件。高纯水的国家标准为：GB1146.1-89至GB1146.11-89[168]，目前我国高纯水的标准将电子级水分为五个级别：Ⅰ级、Ⅱ级、Ⅲ级、Ⅳ级和Ⅴ级，该标准是参照ASTM电子级标准而制定的。
4.、而超纯水呢,则可以认为是一般工艺很难达到的程度，如水的电阻率大于18MΩ*cm（没有明显界线），则称为超纯水。关键是看你用水的纯度及各项征性指标，如电导率或电阻率，PH值，钠，重金属，二氧化硅，溶解有机物，微粒子，以及微生物指标等。
D. 去离子水设备抛光树脂怎么更换
净得瑞为您解答：
1.抛光树脂( MB-400)是由高度纯化、转型的H型阳树脂和OH型阴树脂混合而成，如果装填和操作得当，在最初的周期中即可制备出电阻率大于18.0MΩ.cm和TOC小于10ppb的超纯水，无需化学再生。
2.树脂开封后长时间暴露在空气中会吸收二氧化碳，从而影响产品的性能及使用。因此一旦拆包需尽快使用。不使用部分须小心密封，存放于避光阴凉处，环境温度以5-40℃为宜。
3.在运输、储存和装填过程中，任何无机或有机物质的接触都会使树脂受到污染，从而降低出水水质;影响运行工况。因此必须保证所有用于装填、操作的设备和水不会污染树脂。所有与树脂接触的水都必须使用高纯水(本文中所涉及到的水均指“高纯水”，即电阻率大于等于10MΩ.cm，同时TOC尽可能低于30ppb的水)，所有接触树脂的设备或器具都要在使用前经过高纯水清洗。
E. 半导体洁净室
半导体无尘室安全工作规范
一、无尘室须知
进入无尘室前，必须知会管理人，并通过基本训练
2.进入无尘室严禁吸烟，吃(饮)食，外来杂物(如报章，杂志，铅笔...等)不可携入，并严禁嘻闹奔跑及团聚谈天。
3.进入无尘室前，需在规定之处所脱鞋，将鞋置于鞋柜内，外衣置于衣柜内，私人物品置于私人柜内，柜内不可放置食物。
4.进入无尘室须先在更衣室，将口罩，无尘帽，无尘衣以及鞋套按规定依程序穿戴整齐，再经空气洗尘室洗尘，并踩踏除尘地毯(洗尘室地板上)方得进入。
5.戴口罩时，应将口罩戴在鼻子之上，以将口鼻孔盖住为原则，以免呼吸时污染芯片。
6. 穿著无尘衣，无尘帽前应显畸理服装以及头发，以免着上无尘衣后，不得整理又感不适。
7. 整肃仪容后，先戴无尘帽，无尘帽的穿戴原则是
(1)头发必须完全覆盖在帽内，不得外露。
（2）无尘帽之下摆要平散于两肩之上，穿上工作衣后，方不致下摆脱出，裸露肩颈部。
8.无尘帽戴妥后，再着无尘衣，无尘衣应尺吋合宜，才不致有裤管或衣袖太短而裸露皮肤之虞，穿衣时应注意帽之下摆应保平整之状态，无尘衣不可反穿。
9.穿著无尘衣后，才着鞋套，拉上鞋套并将鞋套整平，确实盖在裤管之上。
10戴手套时应避免以光手碰触手套之手掌及指尖处(防止钠离子污染)，戴上手套后，应将手套之手腕置于衣袖内，以隔绝污染源。
11.无尘衣着妥后，经洗尘，并踩踏除尘毯，方得进入无尘室。
12. 不论进入或离开无尘室，须按规定在更衣室脱无尘衣，不可在其它区域为之，尤不可在无尘室内边走边脱。
13. 无尘衣，鞋套等，应定期清洗，有破损，脱线时，应即换新。
14. 脱下无尘衣时，其顺序与穿著时相反。
15. 脱下之无尘衣应吊好，并放于更衣室内上层柜子中;鞋套应放置于吊好的无尘衣下方。
16. 更衣室内小柜中，除了放置无尘衣等规定物品外，不得放置其它物品。
17. 除规定纸张及物品外，其它物品一概不得携入无尘室。
18。无尘衣等不得携出无尘室，用毕放置于规定处所。
19. 口罩与手套可视状况自行保管或重复使用。
20. 任何东西进入无尘室，必须用洒精擦拭干净。
21. 任何设备的进入，请知会管理人，在无尘室外擦拭干净，方可进入。
22. 未通过考核之仪器，禁止使用，若遇紧急情况，得依紧急处理步骤作适当处理，例如关闭水、电、气体等开关。
23.无尘室内绝对不可动火，以免发生意外。
二、无尘室操作须知
1.处理芯片时，必须戴上无纤维手套，使用清洗过的干净镊子挟持芯片，请勿以手指或其它任何东西接触芯片，遭碰触污染过的芯片须经清洗，方得继续使用：
(1)任何一支镊子前端(即挟持芯片端)如被碰触过，或是镊子掉落地上，必须拿去清洗请勿用纸巾或布擦拭脏镊子。
(2) 芯片清洗后进行下一程序前，若被手指碰触过，必须重新清洗。
(3) 把芯片放置于石英舟上，准备进炉管时，若发现所用镊子有污损现象或芯片上有显眼由镊子所引起的污染，必须将芯片重新清洗，并立即更换干净的镊子使用。
2. 芯片必须放置盒中，盖起来存放于规定位置，尽可能不让它暴露。
3.避免在芯片上谈话，以防止唾液溅于芯片上，在芯片进扩散炉前，请特别注意，防止上述动作产生，若芯片上沾有纤维屑时，用氮气枪喷之。
4. 从石英舟(Quartz Boat)等载具(Carrier)上，取出芯片时，必须垂直向上挟起，避免刮伤芯片，显微镜镜头确已离芯片，方可从吸座上移走芯片。
5. 芯片上，若已长上氧化层，在送黄光室前切勿用钻石刀在芯片上刻记。
6. 操作时，不论是否戴上手套，手绝不能放进清洗水槽。
7.使用化学站或烤箱处理芯片时，务必将芯片置放入晶舟内，不可使用塑料盒。
8.摆置芯片于石英舟时，若芯片掉落地上或手中则必须重新清洗芯片，然后再进氧化炉。
9. 请勿触摸芯片盒内部，如被碰触或有碎芯片污染，必须重作清洗。
10.手套，废纸及其它杂碎东西，请勿留置于操作台，手套若烧焦、磨破或纤维质变多必须换新。
11.非经指示，绝不可开启不熟悉的仪器及各种开关阀控制钮或把手。
12. 奇怪的味道或反应异常的溶液，颜色，声响等请即通知相关人员。
13. 仪器因操作错误而有任何损坏时，务必立刻告知负责人员或老师。
14. 芯片盒进出无尘室须保持干净，并以保鲜膜封装，违者不得进入。
15. 无尘室内一律使用原子笔及无尘笔记本做记录，一般纸张与铅笔不得携入。三、黄光区操作须知
1.湿度及温度会影响对准工作，在黄光区应注意温度及湿度，并应减少对准机附近的人，以减少湿、温度的变化。2. 上妥光阻尚未曝光完成之芯片，不得携出黄光区以免感光.
3.己上妥光阻，而在等待对准曝光之芯片，应放置于不透明之蓝黑色晶盒之内， 盒盖必须盖妥。
4. 光罩使用时应持取边缘，不得触及光罩面，任何状况之下，光罩铬膜不得与他物接触，以防刮伤，光罩之落尘可以氮气枪吹之。
F. 什么是去离子水
采用离子交换来制取，其原理是原水中含有的盐类如Ca(HCO3)2、Mgso4等盐类,在流经交换树脂时,阳离子Co2+、Mg2+等被阳树脂的活性基团置换,阴离子HCo3-、So42-等被阴树脂的活性基团置换,从而水就得到纯化.如原水中的重碳酸盐含量较高,应在阴阳离子交换柱中间设脱气塔,除去CO2气体,减轻阴床的负荷.一般复床(阳离子交换柱、阴离子交换柱)出水其电导率可达10s/cm以下,若水源水质较好其产水电导率可达5s/cm以下,混合离子交换柱一般作为后处理放置于复床后或反渗透系统后可使产水电导率达到18m.Ωcm的高纯水.
作用:广泛用于轻工、纺织、医药、生物、电子能，还可以用于食品药物的脱色提纯、贵重金属、化工原料的回收、电镀废水的处理。
去离子水设备适用范围超纯水经常用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业和实验室。CEDI纯水也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、化工厂工艺用水，以及其它超纯水应用领域。
1、制取电子工业生产如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等工艺所需的纯水、高纯水;
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详细资料请参考：on
G. 什么设备要用去离子水
根据我们特域冷水机所接触的大部分客户的经验：
1.如果发热元器件对冷却水流的电阻有要求的话，一般都需要我们特域冷水机里面配置去离子水。2.例如一些半导体，灯泵，当冷却水是直接在上面流过的话就要去离子水了。
3.也有一些是水管道里面有铜等游离金属也是要求去离子水，以免加速铜等金属的腐蚀。
H. 上海哪里提供去离子水/工业纯水,或者超纯水设备的销售
edi电去离子水设备是结合了电渗析与离子交换两项技术各自的特点而发展起来的一项新技术，与普通电渗析相比，由于淡室中填充了离子交换树脂，大大提高了膜间导电性，显着增强了由溶液到膜面的离子迁移，破坏了膜面浓度滞留层中的离子贫乏现象，提高了极限电流密度;与普通离子交换相比，由于膜间高电势梯度，迫使水解离为H+和OH-，H+和OH-一方面参预负载电流，另一方面可以又对树脂起就地再生的作用，因此EDI不需要对树脂进行再生，可以省掉离子交换所必需的酸碱贮罐，也减少了环境污染。因此EDI去离子水系统具有如下优点：
1、出水水质具有最佳的稳定度。
2、能连续生产出符合用户要求的超纯水。
3、模块化生产，并可实现PLC全自动控制。
4、不需酸碱再生，无污水排放。降低了劳动强度，节省了酸碱和大量清洁水，减少了环境污染。
5、不会因再生而停机。
6、单一系统连续运转，不需备用系统。
edi电去离子水设备项目的技术创新点
EDI去离子水设备以离子交换纤维代替颗粒树脂作为电去离子隔膜间的填充物的研究在电去离子刚被认识时就已经开始了，但真正成功实现工业化的产品却是添加了树脂而不是纤维的电去离子，然而已有很多研究证明填充离子交换纤维比离子交换树脂有许多明显的优点，如：
(1)隔膜的间距可以减少，通常ED的隔膜间距为0.8-1.0mm，而电去离子为3mm左右，如果填充离子交换纤维则可以使隔膜介于二者之间，这样有利于缩短离 反渗透加电去离子装置纯水处理系统
子通道，提高极限电流密度。
(2)离子交换纤维比表面积大、交换速度快，因此更符合电去离子的要求。本项目的创新点表现在采用一种自主开发的离子交换纤维新材料，开发可以满足更高市场需求的纯水高端产品，填补国内高端产品的空白。
EDI去离子的工业应用和市场需求
最近几年EDI去离子在各个工业领域都越来越受重视，许多工业系统开始采用电去离子作为其水处理系统的更新换代技术，如电力工业、制药工业、微电子工业、电镀与金属表面处理等。
(1)电力工业
据推算电力行业水处理单元的操作费用约占电力成本的10%，而用电去离子替代离子交换树脂可以使每处理1000加仑水的成本由11美元降至1.75美元。
(2)制药工业
虽然药用水的特点是并不要求很高的去离子程度，但电去离子系统具有同时去盐和控制微生物指标的特点，因此已有多家企业采用RO/EDI集成系统。据称该类系统性能稳定，全流程计算机连续监控，全自动操作无人值守。
〔3〕电子工业
电子工业对水质的要求极高，水电阻率要稳定的大于18MΩ,而EDI出水一般在15-17 MΩ左右，因此在电子级水的生产过程多采用EDI+抛光树脂系统，即在EDI之后加离子交换，此工程虽然仍需离子交换，但由于EDI已除去了大部分离子，抛光树脂几乎不用再生，因此水处理费用仍然很低。
(4)电镀与金属表面处理
电去离子可用于电镀废水处理可以使水重复使用并回收重金属离子。美国已有该类型系统的实验装置。
(5)其他领域
EDI去离子水设备在食品工业、化学工业等都有很广泛的应用：多室流化床、设备的横截面一般为矩形，用垂直挡板将设备沿长度方向分成多室(一般4～8室)。挡板下沿与分布板面之间留有几十毫米的间隙，作为室间粉粒通道。最后一室有控制床面的堰板。流体平行进入各室，颗粒则依次通过各室，因此多室流化床不仅能抑制颗粒在整个床层内的返混，而且还能调节通入各室流体的流速和温度。多室流化床比多层流化床设备容易控制，总压降也小;但传热、传质推动力较多层床小，用于干燥时空气热量利用效率较差。 两器流化床 有两个流化床，在左侧流化。
I. 化学类，关于去离子水的问题
去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织ISO/TC 147规定的“去离子”定义为：“去离子水完全或不完全地去除离子物质，主要指采用离子交换树脂处理方法。”现在的工艺主要采用RO反渗透的方法制取。应用离子交换树脂去除水中的阴离子和阳离子，但水中仍然存在可溶性的有机物，可以污染离子交换柱从而降低其功效，去离子水存放后也容易引起细菌的繁殖。
相对而言，蒸馏水只是先气化再冷凝，其纯度如电导率一般不如纯度高的去离子水，半导体工业中用的大多数是高纯度的去离子水