① 半导体工业中为什么要用去离子水
因为许多杂质(重金属、钠、钾等)对于半导体特性的影响很大,在半导体表面清洗时,需要去掉这些有害杂质,以免在高温处理时让这些杂质进入到半导体中,故在清洗时必须采用纯净的去离子水。
② 去离子水设备抛光树脂怎么更换
净得瑞为您解答:
1.抛光树脂( MB-400)是由高度纯化、转型的H型阳树脂和OH型阴树脂混合而成,如果装填和操作得当,在最初的周期中即可制备出电阻率大于18.0MΩ.cm和TOC小于10ppb的超纯水,无需化学再生。
2.树脂开封后长时间暴露在空气中会吸收二氧化碳,从而影响产品的性能及使用。因此一旦拆包需尽快使用。不使用部分须小心密封,存放于避光阴凉处,环境温度以5-40℃为宜。
3.在运输、储存和装填过程中,任何无机或有机物质的接触都会使树脂受到污染,从而降低出水水质;影响运行工况。因此必须保证所有用于装填、操作的设备和水不会污染树脂。所有与树脂接触的水都必须使用高纯水(本文中所涉及到的水均指“高纯水”,即电阻率大于等于10MΩ.cm,同时TOC尽可能低于30ppb的水),所有接触树脂的设备或器具都要在使用前经过高纯水清洗。
③ 水处理设备有什么都有哪些设备
常用的水处理设备主要有:
过滤器设备
1、过滤器设备:
石英砂过滤器,锰砂过滤器,机械过滤器,碳钢过滤器等高效过滤器;活性炭过滤器;精密过滤器,袋式过滤器等高精度过滤器;软化水过滤器;
2、离子交换树脂设备:用来储存离子交换树脂,起到去除水中的重金属,除盐,软化水等作用;
3、超滤设备:脱盐等作用,保障反渗透等后续设备进水水质;
4、反渗透设备:过滤水中的离子、有机物、细菌、病毒等,脱盐脱硼等作用;
5、EDI电除盐设备:自动化电除盐设备,常用于电子半导体行业,生产超纯水等。
④ 什么是去离子水设备,去离子水采用的工艺有离子交换
去离子水设备,是离子交换系统。离子交换系统是通过阴、阳离子交换树脂对水中的各种阴、阳离子进行置换的一种传统水处理工艺,阴、阳离子交换树脂按不同比例进行搭配可组成离子交换阳床系统,离子交换阴床系统及离子交换混床系统,而混床系统又通常是用在反渗透等水处理工艺之后用来制取超纯水,高纯水的终端工艺,它是用来制备超纯水、高纯水不可替代的手段之一。
去离子水设备主要用途
1、化妆品行业:护肤品、洗发水、染发剂、牙膏、洗手液生产用水
2、电子工业:铝箔清洗、电子管喷涂配液、显相管玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗、液晶屏屏面清洗和配液、晶体管和集成电路的硅片清洗用水、配制水
3、电池行业:蓄电池、锂电池、太阳能电池生产用水
4、混凝土外加剂配制用水
5、玻璃镀膜、玻璃制品清洗及灯具清洗用水
6、纺织印染工业:印染助剂配制、湿巾及面膜生产用水
7、超声波清洗用水
8、涂装行业:涂料配制、电镀配制清洗、电泳漆配制清洗用水
⑤ 纯水设备超纯水设备药剂耗材RO膜EDI水处理设备
纯水设备制备工艺流程
一、传统工艺
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 (≥18MΩ.CM)
2、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象 (≥15MΩ.CM)
二、最新工艺
1、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)
2、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)
3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)
超纯水设备一般包括:原水箱、多介质过滤器、精密(保安)过滤器、反渗透膜、膜壳、EDI模块/超纯水树脂、纯水箱、水泵、管道。一般水处理设备的价格主要由这些设备组成。
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⑥ 什么是去离子水
采用离子交换来制取,其原理是原水中含有的盐类如Ca(HCO3)2、Mgso4等盐类,在流经交换树脂时,阳离子Co2+、Mg2+等被阳树脂的活性基团置换,阴离子HCo3-、So42-等被阴树脂的活性基团置换,从而水就得到纯化.如原水中的重碳酸盐含量较高,应在阴阳离子交换柱中间设脱气塔,除去CO2气体,减轻阴床的负荷.一般复床(阳离子交换柱、阴离子交换柱)出水其电导率可达10s/cm以下,若水源水质较好其产水电导率可达5s/cm以下,混合离子交换柱一般作为后处理放置于复床后或反渗透系统后可使产水电导率达到18m.Ωcm的高纯水.
作用:广泛用于轻工、纺织、医药、生物、电子能,还可以用于食品药物的脱色提纯、贵重金属、化工原料的回收、电镀废水的处理。
去离子水设备适用范围超纯水经常用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业和实验室。CEDI纯水也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、化工厂工艺用水,以及其它超纯水应用领域。
1、制取电子工业生产如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等工艺所需的纯水、高纯水;
………………
详细资料请参考:on
⑦ 什么设备要用去离子水
根据我们特域冷水机所接触的大部分客户的经验:
1.如果发热元器件对冷却水流的电阻有要求的话,一般都需要我们特域冷水机里面配置去离子水。2.例如一些半导体,灯泵,当冷却水是直接在上面流过的话就要去离子水了。
3.也有一些是水管道里面有铜等游离金属也是要求去离子水,以免加速铜等金属的腐蚀。
⑧ 半导体设备
我前段时间也学习了解了一下晶圆的制作过程,有些资料,你看看吧~@~
由半导体国际收集
晶圆清洗设备
Akrion
Applied Materials
Crest Ultrasonics
Dainippon Screen (DNS)
EV Group
FSI International
Lotus Systems
Megasonic Sweeping
SEZ (Lam Research)
Semitool
SES
Solid State Equipment
Tokyo Electron (TEL)
七星华创(SevenStar)
中联科利(United Cleaning Technology)
沈阳芯源
热处理设备
Applied Materials
ASM
ATV Technologie
Aviza Technology
Axcelis Technologies, Inc.
Axic
CVD Equipement
Kokusai Semiconctor Equipment
Mattson
Thermcraft
Tokyo Electron (TEL)
七星华创(SevenStar)
离子注入设备
Applied Materials
Axcelis Technologies, Inc.
Nissin Electric
Varian Semiconctor
北京中科信电子装备有限公司
CVD/PECVD/ALD设备
Applied Materials
Axic
AIXTRON
ASM
ATV Technologie
Aviza Technology
CVD Equipement
Hitachi Kokusai
Novellus
Oerlikon
Oxford Instruments
Tokyo Electron (TEL)
Veeco Instruments
海微芯仪半导体设备
中微半导体AMEC
七星华创(SevenStar)
沈阳科仪
PVD设备
Applied Materials
Aviza Technology
KDF
Novellus
Oerlikon(Unaxis Wafer Processing)
Oxford Instruments
Varian Semiconctor
Veeco Instruments
光刻设备
ASML
Canon
EV Group
Molecular Imprints
Nikon Precision
Suss MicroTec
Ultratech
Vistec Lithography
涂布/显影设备
Dainippon Screen (DNS)
EV Group
Sokudo Co. Ltd.
Solitec Wafer Processing
Suss MicroTec
Tokyo Electron (TEL)
沈阳芯源
刻蚀/去胶/灰化设备
Applied Materials
Aviza Technology
Axic
Hitachi High Technologies
Lam Research
Mattson Technology,Inc
Oerlikon
Oxford Instruments
Tokyo Electron (TEL)
Veeco Instruments
北方微电子
七星华创(SevenStar)
中微半导体AMEC
CMP设备
Applied Materials
Ebara Corporation
Entrepix,Inc
Kinetic Systems
Levitronix LLC
Novellus
盛美半导体
电镀系统设备
Applied Materials
ECI Technology
Novellus
Semitool
Surfect
盛美半导体
半导体工艺用石墨元件/材料
POCO Graphite
Carbone Lorraine(Le Carbone Advanced Graphites )
东洋炭素株式会社TOYO TANSO
西格里碳素集团SGL Group