温州泰顺县半导体去离子水设备

A. 半导体设备

我前段时间也学习了解了一下晶圆的制作过程，有些资料，你看看吧~@~
由半导体国际收集
晶圆清洗设备
Akrion
Applied Materials
Crest Ultrasonics
Dainippon Screen （DNS）
EV Group
FSI International
Lotus Systems
Megasonic Sweeping
SEZ (Lam Research)
Semitool
SES
Solid State Equipment
Tokyo Electron （TEL）
七星华创（SevenStar）
中联科利(United Cleaning Technology)
沈阳芯源

热处理设备
Applied Materials
ASM
ATV Technologie
Aviza Technology
Axcelis Technologies, Inc.
Axic
CVD Equipement
Kokusai Semiconctor Equipment
Mattson
Thermcraft
Tokyo Electron （TEL）
七星华创（SevenStar）

离子注入设备
Applied Materials
Axcelis Technologies, Inc.
Nissin Electric
Varian Semiconctor
北京中科信电子装备有限公司
CVD/PECVD/ALD设备
Applied Materials
Axic
AIXTRON
ASM
ATV Technologie
Aviza Technology
CVD Equipement
Hitachi Kokusai
Novellus
Oerlikon
Oxford Instruments
Tokyo Electron （TEL）
Veeco Instruments
海微芯仪半导体设备
中微半导体AMEC
七星华创（SevenStar）
沈阳科仪

PVD设备
Applied Materials
Aviza Technology
KDF
Novellus
Oerlikon(Unaxis Wafer Processing)
Oxford Instruments
Varian Semiconctor
Veeco Instruments

光刻设备
ASML
Canon
EV Group
Molecular Imprints
Nikon Precision
Suss MicroTec
Ultratech
Vistec Lithography

涂布/显影设备
Dainippon Screen （DNS）
EV Group
Sokudo Co. Ltd.
Solitec Wafer Processing
Suss MicroTec
Tokyo Electron （TEL）
沈阳芯源

刻蚀/去胶/灰化设备
Applied Materials
Aviza Technology
Axic
Hitachi High Technologies
Lam Research
Mattson Technology,Inc
Oerlikon
Oxford Instruments
Tokyo Electron （TEL）
Veeco Instruments
北方微电子
七星华创（SevenStar）
中微半导体AMEC

CMP设备
Applied Materials
Ebara Corporation
Entrepix,Inc
Kinetic Systems
Levitronix LLC
Novellus
盛美半导体

电镀系统设备
Applied Materials
ECI Technology
Novellus
Semitool
Surfect
盛美半导体

半导体工艺用石墨元件/材料
POCO Graphite
Carbone Lorraine(Le Carbone Advanced Graphites )
东洋炭素株式会社TOYO TANSO
西格里碳素集团SGL Group

B. 半导体封装有哪些设备

半导体封装是指将通过测试的晶圆按照产品型号及功能需求加工得到独立芯片的过程。封装过程为：来自晶圆前道工艺的晶圆通过划片工艺后被切割为小的晶片（Die），然后将切割好的晶片用胶水贴装到相应的基板（引线框架）架的小岛上，再利用超细的金属（金锡铜铝）导线或者导电性树脂将晶片的接合焊盘（Bond Pad）连接到基板的相应引脚（Lead）,并构成所要求的电路；然后再对独立的晶片用塑料外壳加以封装保护，塑封之后还要进行一系列操作，封装完成后进行成品测试，通常经过入检Incoming、测试Test和包装Packing等工序，最后入库出货。
半导体封装一般用到点胶机+胶水环氧树脂，焊机+焊膏。典型的封装工艺流程为：划片、装片、键合、塑封、去飞边、电镀、打印 、切筋和成型 、外观检查、 成品测试 、包装出货。

C. 水处理设备有什么都有哪些设备

常用的水处理设备主要有：

过滤器设备

1、过滤器设备：

石英砂过滤器，锰砂过滤器，机械过滤器，碳钢过滤器等高效过滤器；活性炭过滤器；精密过滤器，袋式过滤器等高精度过滤器；软化水过滤器；

2、离子交换树脂设备：用来储存离子交换树脂，起到去除水中的重金属，除盐，软化水等作用；

3、超滤设备：脱盐等作用，保障反渗透等后续设备进水水质；

4、反渗透设备：过滤水中的离子、有机物、细菌、病毒等，脱盐脱硼等作用；

5、EDI电除盐设备：自动化电除盐设备，常用于电子半导体行业，生产超纯水等。

D. 去离子水设备抛光树脂怎么更换

净得瑞为您解答：
1.抛光树脂( MB-400)是由高度纯化、转型的H型阳树脂和OH型阴树脂混合而成，如果装填和操作得当，在最初的周期中即可制备出电阻率大于18.0MΩ.cm和TOC小于10ppb的超纯水，无需化学再生。
2.树脂开封后长时间暴露在空气中会吸收二氧化碳，从而影响产品的性能及使用。因此一旦拆包需尽快使用。不使用部分须小心密封，存放于避光阴凉处，环境温度以5-40℃为宜。
3.在运输、储存和装填过程中，任何无机或有机物质的接触都会使树脂受到污染，从而降低出水水质;影响运行工况。因此必须保证所有用于装填、操作的设备和水不会污染树脂。所有与树脂接触的水都必须使用高纯水(本文中所涉及到的水均指“高纯水”，即电阻率大于等于10MΩ.cm，同时TOC尽可能低于30ppb的水)，所有接触树脂的设备或器具都要在使用前经过高纯水清洗。

E. 什么叫去离子水怎么制备

去离子水（deionized water）是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织ISO/TC 147规定的“去离子”定义为：“去离子水完全或不完全地去除离子物质，主要指采用离子交换树脂处理方法。”现在的工艺主要采用RO反渗透的方法制取。应用离子交换树脂去除水中的阴离子和阳离子，但水中仍然存在可溶性的有机物，可以污染离子交换柱从而降低其功效，去离子水存放后也容易引起细菌的繁殖。
去离子水的处理步骤从自来水到去离子水一般要经过几步处理 ：
1、先通过石英砂过滤颗粒较粗的杂质
2、然后高压通过反渗透膜
3、最后一般还要经过一步紫外杀菌以去除水中的微生物
4、假如此时电阻率还没有达到要求的话，可以再进行一次离子交换过程最高电阻率可达到18兆。
相对而言，蒸馏水只是先气化再冷凝，其纯度如电导率一般不如纯度高的去离子水，半导体工业中用的大多数是高纯度的去离子水

F. 什么是去离子水

采用离子交换来制取，其原理是原水中含有的盐类如Ca(HCO3)2、Mgso4等盐类,在流经交换树脂时,阳离子Co2+、Mg2+等被阳树脂的活性基团置换,阴离子HCo3-、So42-等被阴树脂的活性基团置换,从而水就得到纯化.如原水中的重碳酸盐含量较高,应在阴阳离子交换柱中间设脱气塔,除去CO2气体,减轻阴床的负荷.一般复床(阳离子交换柱、阴离子交换柱)出水其电导率可达10s/cm以下,若水源水质较好其产水电导率可达5s/cm以下,混合离子交换柱一般作为后处理放置于复床后或反渗透系统后可使产水电导率达到18m.Ωcm的高纯水.
作用:广泛用于轻工、纺织、医药、生物、电子能，还可以用于食品药物的脱色提纯、贵重金属、化工原料的回收、电镀废水的处理。
去离子水设备适用范围超纯水经常用于微电子工业、半导体工业、发电工业、制药行业和实验室。CEDI纯水也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、化工厂工艺用水，以及其它超纯水应用领域。
1、制取电子工业生产如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等工艺所需的纯水、高纯水;
………………
详细资料请参考：on

G. 啥叫去离子水

去离子水

去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织ISO/TC 147规定的“去离子”定义为：“去离子水完全或不完全地去除离子物质。”现在的工艺主要采用RO反渗透的方法制取。应用离子交换树脂去除水中的阴离子和阳离子，但水中仍然存在可溶性的有机物，可以污染离子交换柱从而降低其功效，去离子水存放后也容易引起细菌的繁殖。

去离子水制取工艺及其特点

1、离子交换树脂制取去离子水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：

原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→阳床→阴床→混床→后置保安过滤器→用水点。

（特点：污染比较大，自动化程度低，初期投入低）

2、反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制取去离子水的方式，其基本工艺流程为：

原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→反渗透设备→混床→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。

（特点：污染小，自动化程度高，初期投入中等，价格适中）

3、反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制取去离子水的的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：

原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→反渗透设备→电去离子（EDI）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。

（特点：环保，自动化程度高，初期投入大，价格相对比较贵。）

H. 什么是去离子水设备，去离子水采用的工艺有离子交换

去离子水设备，是离子交换系统。离子交换系统是通过阴、阳离子交换树脂对水中的各种阴、阳离子进行置换的一种传统水处理工艺，阴、阳离子交换树脂按不同比例进行搭配可组成离子交换阳床系统，离子交换阴床系统及离子交换混床系统，而混床系统又通常是用在反渗透等水处理工艺之后用来制取超纯水，高纯水的终端工艺，它是用来制备超纯水、高纯水不可替代的手段之一。
去离子水设备主要用途
1、化妆品行业：护肤品、洗发水、染发剂、牙膏、洗手液生产用水
2、电子工业：铝箔清洗、电子管喷涂配液、显相管玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗、液晶屏屏面清洗和配液、晶体管和集成电路的硅片清洗用水、配制水
3、电池行业：蓄电池、锂电池、太阳能电池生产用水
4、混凝土外加剂配制用水
5、玻璃镀膜、玻璃制品清洗及灯具清洗用水
6、纺织印染工业：印染助剂配制、湿巾及面膜生产用水
7、超声波清洗用水
8、涂装行业：涂料配制、电镀配制清洗、电泳漆配制清洗用水

I. 去离子水是什么可以用来做什么

去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。国际标准化组织ISO/TC
147规定的“去离子”定义为：“去离子水完全或不完全地去除离子物质。”现在的工艺主要采用RO反渗透的方法制取。应用离子交换树脂去除水中的阴离子和阳离子，但水中仍然存在可溶性的有机物，可以污染离子交换柱从而降低其功效，去离子水存放后也容易引起细菌的繁殖。
去离子水是目前工业超纯水的设备上应用最多的工艺之一.
去离子水设备的主要用途:
涂装行业:涂料配制.仟净的去离子水流程都是引进的,所以应用范围非常广。如：
1、实验室、化验室用水,一般实验室的常规试验、配置常备溶液、清洗玻璃器皿等;
2、电子工业生产,如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路芯片、单晶硅半导体等;
3、电力锅炉，锅炉所需软化水、除盐;
4、汽车、家用电器、建材表面涂装、电镀、镀膜玻璃清洗等;
5、石油化工行业,化工反应冷却水、化学药剂、生产配液用水等;
6、工业纺织印染、钢铁清洗用水等;
7、食品、饮料、酒类、化妆品生产用水;
8、海水、苦咸水等净化。
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