❶ 半导体污染
半导体产品一般需要在表面镀金属氧化物的薄膜
比如我以前所在的太阳能电池厂就是在二氧化硅板上镀一层氧化锌
锌还好点，要是用汞、镉之类的重金属
污染严不严重就不用说了
❷ 半导体芯片制造废水处理方法
芯片制造生产工艺复杂，包括硅片清洗、化学气相沉积、刻蚀等工序反复交叉，生产中使用了大量的化学试剂如HF、H2SO4、NH3・H2O等。
所以一般芯片制造废水处理系统有含氨废水处理系统+含氟废水处理系统+CMP研磨废水处理系统。具体方案可以咨询泽润环境科技（广东）有限公司网页链接
❸ 污水处理设备可以用在哪些行业
污水处理设备的应用范围：
1、适用于住宅小区、村庄、村镇、办公楼、商场、宾馆、饭店、疗养院、机关、学校、部队、医院、高速公路、铁路、工厂、矿山、旅游景区等。
2、屠宰、水产品加工、食品等中小型规模工业有机废水的处理。
3、化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程。
4、超纯材料和超纯化学试剂。
5、实验室和中试车间。
6、电子半导体、集成电路板上用到的化工材料。
7、石英、硅材料生产、加工、提纯。
8、高纯墨水、传真打印机中的喷墨、纳米墨水。
❹ 我们是一家半导体生产型企业，会产生大量的研磨切割和酸碱废水，有工业废水处理公司吗
苏州园区有一家荷兰的环保公司
❺ mbr在城市污水处理中有什么应用
1MBR在饮用水生产中的应用：随着经济与技术的发展，各种生产废水和生活污水未达标准就直接排放到地表水体中，以及氮肥与杀虫剂在农业中的广泛应用，使的我国不同地区的饮用水受到不同程度的污染，给人民的正常生活造成威胁。LyonnaisedesEaux公司在90年代中期开发出同时具有生物脱氮、吸附杀虫剂、去除浊度功能的MBR工艺，1995年该公司在法国的Douchy建成了日产饮用水400m3的工厂，出水中氮浓度低于0.1mgNO2/L，杀虫剂浓度低于0.02μg/L。
2MBR在城市生活污水处理中的应用：目前，在国内，MBR工艺较多地应用在生活污水处理与中水回用的工程中。在国外，Chiemehaisri分别采用板式和中空纤维MBR工艺处理城市生活污水，HRT为24h。当进水COD为60~490mg/L时，其去除率分别为大于93%和80%~98%。Ueda等采用中空纤维抽吸式聚乙烯MBR处理乡村生活污水，膜通量为121L/(m2/h)，HRT为13~16h，当进水BOD5为133mg/L±58mg/L，进水SS为132mg/L±68mg/L、总氮为32mg/L±19mg/L、总磷为3.8mg/L±3.0mg/L时，去除率分比别为99%，99%，83%，70%。
3MBR在工业废水及难降解有机废水中的应用：近年来，由于MBR工艺具有生化效率高，抗负荷冲击能力强，出水水质稳定，占地面积小，排泥周期长，易实现自动控制等优点，在工业废水及一些难降解废水处理中应用越来越广泛。在造纸、印染废水处理中，浙江工业大学使用MBR处理造纸综合废水(黑液中段废水和白水的混合液)并与传统的活性污泥法与生物接触氧化法进行比较，实验结果表明用MBR处理造纸废水通过污泥浓度的增加，出水CODcr可以降低到100mg/L以下(系统水力停留时间为18h)，整个反应器的总去除率最高可达90%以上。韩怀芬等，采用管式MBR处理造纸废液，原水CODCr质量浓度为900~1300mg/L，通过混凝沉淀后进人反应器，出水可达一级排放标准。丁岚等设计了缺氧/好氧MBR处理装置，通过165天的运行试验结果表明系统稳定期COD的去除率可以达到95.0%，氨氮平均去除率可达96.5%，活性艳红染料X-3B的去除率在60%~73%之间，出水含有少量色度。在制药废水处理中，王敏采用厌氧加一体式膜生物反应器工艺处理某中药废水(主要为洗药废水、制药废水、地面和设备冲洗水以及生活污水等)。采用中空纤维膜，处理效率为COD97.5%、BOD96.8%、色度93.9%。
❻ 污水处理设备哪家做的比较好
万川环保小、中、大型污水处理设备是根据处理量大小、处理工艺等技术方面进行报价的。
一般都是在30000-20000.
一般沿海地区的设备都会做的好一点，如上海 广东 这些地区做的多。
可以从处理量、自动化程度、技术方面挑选。
污水处理设备适用于：化工、电子、五金、电镀、半导体、食品、制药、医院等行业中的污水处理
❼ 如何处理半导体(LED)废水
随着单个LED光通亮和发光效率的提高，即将进入普通室内照明、台灯、笔记本电脑背光源、大尺寸LED显示器背光源等市场广阔。 LED生产过程中绝大部分废水产生在原材料和芯片制造过程中，分为拉晶、切磨抛和芯片制造，主要含一般酸碱废水、含氟废水、有机废水、氨氮废水等几种水质，在黄绿光晶片制造过程中还会有含砷废水排出。 2、LED芯片加工废水特点：主要污染物为LED芯片生产过程中排放的大量有机废水和酸碱废水，另有少量含氟废水。有机废水主要污染物为醇、乙醇、双氧水;酸碱废水中主要污染物为无机酸、碱等。 3、LED切磨抛废水特点：主要污染物为大量清洗废水，主要成分为硅胶、弱酸、硫酸、盐酸、研磨砂等。 4、酸碱废水排放：主要包括工艺酸碱废水、废气洗涤塔废水、纯水站酸碱再生废水，采用化学中和法处理。 含砷废水：主要来自背面减薄及划片/分割工序，采用化学沉淀法处理。 一般废水：排放方式均为连续排放，主要指纯水站RO浓缩废水主要污染物为无机盐类，采用生化法去除。 含氟废水：主要清洗废水中含有HF，使用混凝沉淀去除。 高氨氮废水：使用折点加氯法，将废水中的氨氮氧化成N2。投加过量氯或次氯酸钠，使废水中氨完全氧化为N2的方法，称为折点氯化法，其反应可表示为： NH4+十1.5HOCl→0.5N2十1.5H2O十2.5H+十1.5Cl-5、案例： 5.1、LED生产加工之蓝宝石拉晶废水 污水水质、水量： 水量：480t/d;20t/h(24小时连续)废水水质：PH值5.0-10.0无量纲出水要求：达到国家废水二级排放标准(<污水综合排放标准(GB8978-1996)表4标准)的要求。具体指标为：处理工艺酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应，达到工艺要求后进入有机废水调节池。人工收集到含氟废水收集池，加药剂进行沉淀。上清液达标排放，污泥排入污泥浓缩池处理。 利用有机废水调节池的池容增加生化处理功能，向池内投加厌氧性水解菌，池内配置穿孔水力搅拌系统以加强传质，为后继处理单元提供部分水解处理服务。 废水经过调节后经泵提升进入进入厌氧水解池。 厌氧水解池采用上向流布水形式，利用循环管网系统加强池底部的混流强度，提高反应器内的传质效果。利用微生物的水解酸化作用将废水中难降解的大分子有机物转化为易降解的小分子有机物，将复杂的有机物转变成简单的有机物，提高废水的可生化性，有利于后续的好氧生化处理。出水自流进入接触氧化池。接触氧化池的混合液进入二沉池进行泥水沉淀分离。为保证COD排放达标的处理要求，将二沉池出水导入BAF进行处理。生物曝气滤池的出水流入清水池，为生物曝气滤池提供滤料的反冲洗水，其余的清水达标排放。 5.2、LED生产加工之切磨抛废水 污水水质、水量： 水量：432t/d;18t/h(24小时连续)废水水质：1PH值5.0-10.0无量纲出水要求：达到国家废水二级排放标准(<污水综合排放标准(GB8978-1996)表4标准)的要求。具体指标为：处理工艺根据业主废水的水质情况，在吸取以往同类废水处理装置设计的成功经验和一些同类废水处理装置的实际运行经验，设计污水处理主体工艺路线如下： 格栅池+清洗废水调节池+反应池+物化沉淀池达标排放 污泥处理主体工艺采用工艺路线为： 污泥浓缩+污泥调理+板框压滤泥饼外运 5.3、LED生产加工之芯片废水 污水水质、水量： 有机废水水量：19.4t/h(24小时连续)水质：PH值6.0-8.0无量纲 酸碱废水水量：70t/h(24小时连续)水质：PH值4.0-11.0无量纲 含氟废水水量：4t/h(24小时连续)水质：PH值2.0-4.0无量纲 氟化物≤200mg/L处理工艺酸碱废水进入酸碱废水调节池后与投加的药剂进行中和反应，达到工艺要求后达标排放。含氟废水收集调节后与投加的药剂反应生成不溶性氟化物沉淀，上清液达标排放。